説明

セメス株式会社により出願された特許

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【課題】フォトレジストの消耗量が節減されるノズルユニット、基板処理装置、及び基板処理方法が提供される。
【解決手段】本発明による基板処理装置は、基板を支持するプレートと、前記プレートに支持された前記基板に薬液を塗布するノズルユニットと、前記プレートに置かれる基板と前記ノズルユニットとの間の相対位置が変更されるように前記基板又は前記ノズルユニットを移動させる駆動ユニットと、を含む。前記ノズルユニットは、横方向が第1方向に沿って形成され、前記基板に第1薬液を吐出する第1吐出部と、横方向が前記第1方向に沿って形成され、前記基板に第2薬液を吐出する第2吐出部と、を含む。 (もっと読む)


【課題】プラズマ工程において、インピーダンスをマッチングする基板処理装置及びインピーダンスマッチング方法が提供される。
【解決手段】本発明の一実施形態による基板処理装置は、高周波電力を発生させる高周波電源と、前記高周波電力を利用してプラズマ工程を遂行する工程チャンバーと、前記工程チャンバーの変化するインピーダンスを補償するマッチング回路と、前記工程チャンバーと前記マッチング回路との間に配置されて前記工程チャンバーのインピーダンスを減衰させるトランスフォーマと、を含む。 (もっと読む)


【課題】チャンバーの内部の温度変化を最少化する基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】本発明の基板処理装置は、基板を搬入する搬入口が形成されたチャンバーと、前記チャンバー内に設置され、搬入された前記基板が位置する支持部材と、前記支持部材との間で熱伝導可能に設置される温度調節部材と、を含む。前記チャンバーには、前記支持部材よりも低い位置にある下部空間に気体を流入させる流入口と、前記支持部材よりも高い位置にある上部空間の気体を排気させる流出口と、が形成される。 (もっと読む)


【課題】基板を洗浄するのに使用された薬液を再生する基板処理装置及び薬液再生方法 が提供される。
【解決手段】本発明の基板処理装置1は基板の上の異物を洗浄する洗浄チャンバー2と、上記基板を洗浄するのに使用された第1薬液及び第2薬液を含む混合液を回収して再生する再生ユニット3と、を含み、再生ユニット3は、洗浄チャンバー2で回収された上記混合液を分離する分離ユニット30と、分離ユニット30と洗浄チャンバー2とを連結し、上記混合液が分離ユニット30へ流入するようにする回収ライン700と、一側が分離ユニット30に連結され、分離ユニット30で蒸発した混合液が排気される減圧ライン710と、減圧ライン710に設置され、分離ユニット30の内部の圧力を低くする減圧ユニット40と、を含む。 (もっと読む)


【課題】複数の基板に超臨界流体を効果的に噴射する基板処理装置及び基板処理方法が提供される。
【解決手段】本発明の実施形態による基板処理装置は、処理が遂行される空間を提供するハウジング4100と、ハウジング4100の内部に互いに上下方向に離隔されて配置され、各々複数の基板Sの縁を支持する複数の支持部材4320と、を包含する。 (もっと読む)


【課題】基板の上にラインを形成することと共にこれを固形化させる基板処理装置及び基板処理方法が提供される。
【解決手段】本発明の基板処理装置100は、基板Sが載置されるステージ1100と、インクIを吐出してステージ1100に載置された基板Sに複数のラインを形成する吐出ユニット1200と、吐出されたインクIを固形化させる固形化ユニット1400と、ステージ1100を移動させるか、又は吐出ユニット1200と固形化ユニット1400を移動させる移送ユニット1500と、を含む。 (もっと読む)


【課題】超臨界工程を遂行する基板処理装置及びこれを利用する基板処理方法が提供される。
【解決手段】本発明による基板処理装置の一実施形態は、一面に基板が出入する開口が形成され、高圧工程が遂行される空間を提供するハウジングと、前記ハウジング内に設置され、前記基板を支持する支持部材と、前記開口を開閉するドアと、前記高圧工程の時、前記ハウジングが密閉されるように前記ドアへ力を加圧する加圧部材と、を含む。 (もっと読む)


【課題】超臨界工程を遂行する基板処理装置及びこれを利用する基板処理方法を提供する。
【解決手段】本発明による基板処理装置の一実施形態は、工程が遂行される空間を提供するハウジング4100と、ハウジング4100の内部に基板Sを支持する支持部材4300と、ハウジング4100へ工程流体を供給する供給ポートと、供給ポートと支持部材4300との間に配置されて工程流体が基板Sへ直接噴射されることを遮断する遮断プレート4610を含む遮断部材4600と、ハウジング4100から工程流体を排気する排出ポート4700と、を含む。 (もっと読む)


【課題】クラスター構造の基板処理装置、基板処理設備、及びこれを利用した基板処理方法を提供する。
【解決手段】本発明による基板処理装置の一実施形態は、基板が収納される容器が搭載されるロードポートと、前記基板を処理する複数の工程モジュールと、前記ロードポートと前記工程モジュールとの間に配置され、前記容器と前記工程モジュールとの間に前記基板を搬送する移送モジュールと、互いに隣接する前記工程モジュールの間に配置され、前記互いに隣接する工程モジュールの間に前記基板が搬送される空間を提供するバッファチャンバーと、を含む。 (もっと読む)


【課題】詳細には超臨界工程を遂行する基板処理装置及びこれを利用する基板処理方法が提供される。
【解決手段】本発明による基板処理装置の一実施形態は、一側面に開口が形成され、工程が遂行される空間を提供するハウジングと、前記開口を開閉するドアと、前記ドアに設置され、基板が安着される支持部材と、を含む。 (もっと読む)


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