【課題】熱可塑性高分子量アクリル材料（ＨＭＷＡ）および熱可塑性低分子量アクリル材料（ＬＭＷＡ）の溶融ブレンドを含有するアクリルポリマー組成物を提供する。
【解決手段】ＨＭＷＡの全重量を基準にして、ＨＭＷＡの７０重量％以上はアルキル（アルク）アクリレート（コ）ポリマーからなる。（コ）ポリマーは、８０重量％以上のＣ_１〜Ｃ_１２アルキル（Ｃ_１〜Ｃ_８アルク）アクリレートモノマー単位から誘導される第１ポリマーを含む。ＨＭＷＡは、４０キロダルトン〜１０００キロダルトンの重量平均分子量を有する。（コ）ポリマーは、８０重量％以上のＣ_１〜Ｃ_１２アルキル（Ｃ_１〜Ｃ_８アルク）アクリレートモノマー単位から誘導される第２ポリマーを含む。ＬＭＷＡは、からみ合い分子量（Ｍ_ｅ）〜２５０キロダルトンの重量平均分子量を有する。ＨＭＷＡはＬＭＷＡよりも大きい。 （もっと読む）

【課題】配位子、および酸のレベルが比較的高いが、先行技術の欠点を、少なくともある程度は処理および緩和した触媒系を確立する。
【解決手段】エテンと、一酸化炭素およびヒドロキシル基含有化合物とを、エテンのカルボニル化を触媒することが可能な触媒系の存在下で接触させる工程を含む、エチレン系不飽和化合物をカルボニル化する方法であって、該触媒系は、ａ）パラジウム金属またはその化合物、ｂ）二座ホスフィン配位子、およびｃ）１８℃の水溶液中で測定して４未満のｐＫａを有する酸を組み合わせることにより得られ、該配位子は、該金属または該金属化合物中の金属に対して少なくとも２：１のｍｏｌ過剰で存在し、該酸は、該配位子に対して少なくとも２：１のｍｏｌ過剰で存在する。 （もっと読む）

【課題】配位子、および酸のレベルが比較的高いが、先行技術の欠点を、少なくともある程度は処理および緩和した触媒系を確立する。
【解決手段】エチレン系不飽和化合物のカルボニル化を触媒することが可能な触媒系であって、ａ）パラジウム金属またはその化合物、ｂ）二座ホスフィン配位子、およびｃ）１８℃の水溶液中で測定して４未満のｐＫａを有する酸を組み合わせることにより得られ、該配位子と該金属または該金属化合物中の金属との比は、５：１から７５０：１の範囲内であり、該酸は、該配位子に対して２：１を超えるｍｏｌ過剰で存在する。 （もっと読む）

【課題】エチレン性不飽和酸もしくはそのエステル、特にメタクリル酸もしくはメタクリル酸アルキルの製造、ならびに特にそのための新規な触媒に関する。
【解決手段】アルカン酸もしくはエステル、特にプロピオン酸メチルのホルムアルデヒドとの接触反応による、エチレン性不飽和酸もしくはエステルの製造であり、そこで触媒は、アルカリ金属、特にセシウム、１〜１０wt％（金属として表わされて）を含有する多孔質の高表面積シリカを含み、そしてホウ素、マグネシウム、アルミニウム、ジルコニウムおよびハフニウムから選ばれる、少なくとも１つの調節剤元素の化合物は、シリカ１００モルあたり合計０．２５〜２グラム原子の主な調節剤元素を触媒が含有するような量で、該シリカの細孔中に分散されてなる。 （もっと読む）

【課題】高い反応速度をもたらすエチレン性不飽和化合物のカルボニル化方法を提供する。
【解決手段】パラジウム源と、下式（Ｉ）で示される１，２−Ｐ，Ｐ’−ジ（２−ホスファ−１，３，５，７−テトラメチル−６，９，１０−トリオキサトリシクロ［３．３．１．１｛３．７｝デシル）−メチレン−ベンゼン等の二座ジホスフィンと、陰イオン源とを含む新規な触媒の存在下、一酸化炭素およびヒドロキシ基含有化合物である共反応体によりエチレン性不飽和化合物をカルボニル化する方法。
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一般式（Ｉ）の新規な二座配位子が、エチレン性不飽和化合物のカルボニル化方法とともに記載される。基Ｘ^１が、１８℃の希釈水溶液中で４〜１４のｐＫｂを有する、少なくとも１個の窒素原子を含む最大で３０個の原子を有する一価のヒドロカルビル基として定義されてもよく、ここで、前記少なくとも１個の窒素原子が、１〜３個の炭素原子だけＱ^２原子から離れている。基Ｘ^２が、Ｘ^１、Ｘ^３またはＸ^４として定義されるかあるいは少なくとも１個の第一級、第二級または芳香環炭素原子を有する最大で３０個の原子を有する一価の基を表し、ここで、各前記一価の基が、それぞれ前記少なくとも１個の第一級、第二級または芳香環炭素原子を介して、それぞれの原子Ｑ^２に結合される。Ｑ^１およびＱ^２がそれぞれ、独立して、リン、ヒ素またはアンチモンを表す。
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化学式（ｉ）


（式中、Ｒ＝ＨまたはＣＨ_３である）の化合物の製造方法であって、化学式（ｉｉ）


（式中、Ｒが上で定義されるとおりである）の化合物源を温度および圧力の反応条件に曝す工程を含み、Ｒ＝ＣＨ_３であるとき、式（ｉｉ）の化合物源が、液相の状態で温度および圧力の反応条件に曝される方法。
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一酸化炭素と共反応剤と好適な触媒系とを用いる液相中でのエチレンの連続カルボニル化方法が記載されている。この方法は、（ｉ）共反応剤と、（ａ）第ＶＩＩＩ族金属／化合物と（ｂ）一般式（Ｉ）で示される配位子とｃ）場合によりアニオン源とを組み合わせることにより取得可能な好適な触媒系と、を含む液相を形成する工程であって、式中、Ｑ^１は、場合によりリンでありうる、工程と、（ｉｉ）少なくともエチレンガス入力供給ストリームと一酸化炭素ガス入力供給ストリームとを提供することにより液相に接触する気相を形成する工程であって、ただし、入力供給ストリームから液相に入るエチレン：ＣＯモル比は、２：１よりも大きいものとする、工程と、（ｉｉｉ）液相中で共反応剤および好適な触媒系の存在下でエチレンを一酸化炭素と反応させる工程と、を含み、気相中のエチレン：ＣＯガスモル比が２０：１〜１０００：１であるか、または液相中のエチレン：ＣＯのモル比が１０：１よりも大きい。
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易動性水素原子を有する、水やその供給源以外の、共反応剤の存在下で一酸化炭素を用いるエチレン性不飽和化合物のモノカルボニル化のための触媒系のＴＯＮを増大させる方法が記載されている。触媒系は、（ａ）第（８、９）族もしくは第（１０）族の金属またはその好適な化合物と、（ｂ）化学式（Ｉ）


〔式中、基Ｘ^３およびＸ^４は、独立して、３０個までの原子の一価基を表すかＸ^３およびＸ^４は、一緒になって、４０個までの原子の二価基を形成し、かつＸ^５は、４００個までの原子を有し、Ｑ^１は、リン、ヒ素、またはアンチモンを表す〕で示される配位子と、ｃ）場合によりアニオン源と、を組み合わせることにより取得可能である。本方法は、水またはその供給源を触媒系に添加する工程を含む。本方法は、好ましくは、電気陽性金属の存在下で行われる。
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【課題】溶融加工可能な熱可塑性組成物を提供する。
【解決手段】 溶融加工可能な熱可塑性組成物において、ａ）５０〜９９．５重量％の溶融加工可能な熱可塑性ポリマーと、ｂ）０．５〜５０重量％の粒子状ポリマーとを含み、前記粒子状ポリマーは５０〜１００重量％のＭＭＡ、少なくとも１種類のアクリル酸アルキルもしくはメタクリル酸アルキルを含む少なくとも０〜５０重量％のエチレン不飽和コモノマーおよび０〜１０重量％の共重合可能な架橋性モノマーを含むモノマー混合物の残基を有し、前記粒子は最大粒径５ｍｍを有する組成物が記載されている。前記組成物は低い表面光沢を有し、建設部材形成あるいは低光沢表面が必要とされる他の用途において有用なものとなり得る。前記組成物の製造方法およびそれの使用、例えばキャップストック材料としてのそれの使用についても記載されている。 （もっと読む）