【課題】簡易な構成で、加工対象物を広範囲で加工することが可能なビーム加工装置を提供すること。
【解決手段】ビーム加工装置は、ビームが通過する第１空間１６および第１空間１６の周囲に壁部１４ａを介して配置される第２空間１７が形成される局所真空チャンバー９と、第１空間１６、第２空間１７を真空状態とするための吸気手段とを備えている。ワークに対向する対向部１５は、ワークに向けてビームを出射するための出射孔２２ａを有する第１対向部１８と、出射孔２２ａの外周側に配置される開口部３２を有する第２対向部１９と、第２対向部１９の変形を防止するための変形防止部２０、１９ｄとを備えている。第１対向部１８と第２対向部１９との間には、開口部３２を介して局所真空チャンバー９の外部に連通しかつ第２空間１７の一部となる対向部間空間１７ａが形成されている。 （もっと読む）

【課題】 従来より低温でナノ粒子等のカーボン微小構造体を得られる炭素含有化合物の分解方法及びカーボン微小構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 有機化合物である炭素含有化合物を亜臨界流体、臨界領域流体又は超臨界流体に調整し、光照射して分解する。この炭素含有化合物の分解方法に従って炭素含有化合物からカーボン微小構造体を生成する。照射光として紫外光を用い、グラファイト層で形成される中空粒子や、アモルファス炭素によるカーボンナノコイル等が生成する。金属の共存下で分解すると形成核として働く。 （もっと読む）

【課題】社会的問題である廃棄物の焼却灰の減量化に貢献しつつ、低コストで簡素な汚染水の自然浄化装置とその使用方法を提供することである。
【解決手段】焼成により造粒された焼却灰リサイクル砂を堆積させた焼却灰リサイクル砂フィルターを少なくとも含むことを特徴とする汚染水の自然浸透浄化装置および自然浸透浄化方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能でかつコストの低減が可能なビーム加工装置を提供すること。
【解決手段】ビーム加工装置は、ワーク２の加工を行うためのビームを出射するビーム出射源と、ワーク２に向けてビームを出射する出射部２５ａを有しビーム出射源からワーク２に向かうビームが通過するビーム通過部材２５と、ワーク２が固定される固定面６ａを有し所定方向へ移動可能な固定部材６と、３次元方向に変形可能にかつ中空状に形成され、ビーム通過部材２５が内部に配置される中空部材２３とを備えている。中空部材２３は、少なくとも、互いに接続される第１の中空部２６と第２の中空部２７とから構成されている。また、中空部材２３の一端には開口部３７が形成され、中空部材２３の一端は固定面に当接するとともに、中空部材２３の内部は真空状態とされる。 （もっと読む）

【課題】 被収集者を心身共に拘束することなく、かつ、被収集者に操作負担をかけることなく生体情報を収集できる、被収集者の位置自由度が大きい生体情報取得システムを提供する。
【解決手段】 本発明の生体情報取得システムは、生体情報が収集される被収集者の身体部位に装着され、被収集者の体振動を、気密空間の気体圧の変動に変換する体振動／気体圧変換手段と、変換された気体圧の変動を電気信号に変換するセンサ手段とを有する。体振動／気体圧変換手段は、例えば、身体部位に装着される空気が挿入されている空気パッドと、空気パッドと連通したエアーチューブとでなる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、表示装置内部での信号伝送レートが大きく大画面高精細となるプラズマディスプレイなどに使用されて効果の大である表示装置に関するものであり、信号線数を削減すると共に信号経路から発生する電磁妨害を抑制できコスト低減を可能とする表示装置を提供する。
【解決手段】 画像を表示する表示部と、表示部を駆動する駆動回路部と、駆動回路部の制御信号を画像データから発生する制御信号発生回路部と、前記駆動回路部と前記制御信号発生回路部とを相互に接続する複数の配線とを持ち、前記制御信号発生回路部は、３種以上の信号レベルを有する多値信号を上記の制御信号として発生して前記の配線を介して前記の駆動回路部に伝送していることを特徴とする表示装置。 （もっと読む）

【課題】簡便な構成で生鮮品を安定した低温高湿度の環境に保存することのできる生鮮品の機能保存装置を提供する。
【解決手段】保冷庫１１と、保冷庫１１内に収容されて生鮮品を入れる不完全密閉の容器１２と、容器１２に無菌の清浄空気を送る清浄空気供給機１３と、微酸性機能水の浮遊微粒子を連続または間欠に発生させて、清浄空気供給機から送り出された清浄空気を高湿度にする微粒子発生器１４と、この高湿度の清浄空気中から大粒径の浮遊微粒子および凝縮水を除去する凝縮水分離器１５と、この除去後の高湿度の清浄空気を各容器１２に導入する接続配管１６とを備える。 （もっと読む）

【課題】従来のマイクロデバイスの製造方法よりも、マイクロデバイスを製造する際の生産性を高くすることが可能なマイクロデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】成形基材を準備する成形基材準備工程Ｓ１０と、レーザ加工装置を用いて成型基材の表面を粗加工する粗加工工程Ｓ２０と、集束イオンビーム加工装置を用いて成型基材の表面を仕上げ加工する仕上げ加工工程Ｓ３０とをこの順序で含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】金属配線パターンに対応する形状の溝を形成する作業が煩雑となることがなく、コンタクトピンの先端部にバンプを精度良く形成するのが容易で、コンタクトプローブの信頼性が低下するのを抑制することが可能なコンタクトプローブの製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂層形成工程と、樹脂層１２０にレーザ光Ｌ_１を照射して溝１２２を金属基板１１０に至るように形成する溝形成工程と、イオンビームＩＢを照射して凹部１１２を形成する凹部形成工程と、電鋳法によって、凹部及び溝を覆うように金属配線パターン１３０を形成する金属配線パターン形成工程と、樹脂基材１４０を形成する樹脂基材形成工程と、金属基板１１０と樹脂基材１４０とを分離することにより樹脂基材１４０上にバンプ１３４付きの金属配線パターン１３０を転写する金属配線転写工程とをこの順序で含むことを特徴とするコンタクトプローブの製造方法。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、加工対象物を広範囲で加工することが可能なビーム加工装置を提供すること。
【解決手段】ビーム加工装置１は、ワーク２の加工を行うためのビームを出射するビーム出射源１３と、ビーム出射源１３が出射されたビームが通過する第１経路３４を有する真空チャンバー３と、第１経路３４に連通し第１経路３４を通過したビームが通過する第２経路４０およびワーク２に向けてビームを出射する出射孔７８ａを有する局所真空チャンバー２７と、ビームの照射位置を検出するために、出射孔７８ａ等に配置される被照射部材５３を有する検出手段とを備えている。このビーム加工装置１は、ビームを用いて真空チャンバー３および局所真空チャンバー２７の外部の大気圧中に少なくとも一部が配置されるワーク２の加工を行う。 （もっと読む）