説明

サーモ エレクトロン マニュファクチュアリング リミテッドにより出願された特許

1 - 2 / 2


【課題】衝突セル(24)内の不要人工イオンの形成あるいは再形成を最小にする。
【解決手段】本発明は誘導結合高周波プラズマ質量分析(ICPMS)に関し、衝突セルを用いてイオン・ビームから不要な人工イオンを反応気体と選択的に反応させることにより除去する。本発明は、膨張チャンバ(3)と、衝突セル(24)を内蔵した第二真空チャンバ(20)の間に設けた高真空の第一真空チャンバ(6)を提供する。第一真空チャンバ(6)は第一イオン光学装置(17)を有する。衝突セル(24)は第二イオン光学装置(25)を内蔵する。第一真空チャンバ(6)の設置は、プラズマ源(1)からの気体負荷に原因があると思われる衝突セル(24)内の残留圧を最小にすることにより衝突セル(24)への気体負荷を減少する。 (もっと読む)


【課題】衝突セル(24)内の不要人工イオンの形成あるいは再形成を最小にする。
【解決手段】本発明は誘導結合高周波プラズマ質量分析(ICPMS)に関し、衝突セルを用いてイオン・ビームから不要な人工イオンを反応気体と選択的に反応させることにより除去する。本発明は、膨張チャンバ(3)と、衝突セル(24)を内蔵した第二真空チャンバ(20)の間に設けた高真空の第一真空チャンバ(6)を提供する。第一真空チャンバ(6)は第一イオン光学装置(17)を有する。衝突セル(24)は第二イオン光学装置(25)を内蔵する。第一真空チャンバ(6)の設置は、プラズマ源(1)からの気体負荷に原因があると思われる衝突セル(24)内の残留圧を最小にすることにより衝突セル(24)への気体負荷を減少する。 (もっと読む)


1 - 2 / 2