【課題】プラズマの状態を乱すことなく、粒子密度を正確に測定できるようにすること。
【解決手段】プラズマ雰囲気の原子又は分子密度を吸光分光により測定する粒子密度測定プローブである。プラズマ雰囲気に設けられる円柱状の導光体２０であって、その先端部１３に、導光体を伝搬した光を反射する反射板１４と、その反射板の手前に、導光体の長手方向に垂直な断面において一部の壁面が欠落した部分が長手方向に所定長だけ形成され、この部分を通過する光とプラズマ雰囲気の原子又は分子とが接触可能にしたプラズマ導入部１５を有する。光伝搬体３２は、プラズマ導入部１５の手前に位置し側壁による全反射により光を軸方向に案内する。 （もっと読む）

【課題】ラジカル源によるラジカルの照射によって成膜するＭＢＥ装置において、成膜速度を向上させること。
【解決手段】ＭＢＥ装置は、真空容器１と、真空容器１の内部に設けられ、基板３を保持し、基板３の回転、加熱が可能な基板ステージ２と、基板３表面に分子線（原子線）を照射する分子線セル４Ａ〜Ｃと、基板３表面に窒素ラジカルを供給するラジカル源５と、を備えている。ラジカル源５は、ＳＵＳからなる供給管１０と、供給管１０に接続するプラズマ生成管１１を有している。プラズマ生成管１１の外側には、円筒形のＣＣＰ電極１３が配置されていて、ＣＣＰ電極１３よりも下流側には、プラズマ生成管１１の外周に沿って巻かれたコイル１２を有している。供給管１０とプラズマ生成管１１との接続部における供給管１０の開口には、セラミックからなる寄生プラズマ防止管１５が挿入されている。 （もっと読む）

【課題】高密度なラジカルを生成することが可能なラジカル源を実現すること。
【解決手段】ラジカル源は、ＳＵＳからなる供給管１０と、供給管１０に接続する熱分解窒化ホウ素（ＰＢＮ）からなる円筒状のプラズマ生成管１１を有している。プラズマ生成管１１の外側には、円筒形のＣＣＰ電極１３が配置されていて、ＣＣＰ電極１３よりも下流側には、プラズマ生成管１１の外周に沿って巻かれたコイル１２を有している。供給管１０とプラズマ生成管１１との接続部における供給管１０の開口には、セラミックからなる寄生プラズマ防止管１５が挿入されている。 （もっと読む）

【課題】様々なイオン種を発生させることができ、イオンエネルギーが揃ったイオンを発生させることができるイオン源の実現。
【解決手段】イオン源は、図１のように、低インダクタンス内部アンテナ１０と、低インダクタンス内部アンテナ１０を内部に保持する誘電体容器１１と、誘電体容器１１および引き出し電極１３を内部に保持する真空容器１４と、によって構成されている。誘導結合プラズマは誘電体容器１１内部で生成されるため、金属に対する腐食性の高いガスのイオンも生成可能である。また、低インダクタンス内部アンテナ１０を用いているため、プラズマ電位の揺動を小さく抑えることができ、エネルギーの揃ったイオンを引き出すことができる。 （もっと読む）

【課題】１ヶ所の点光源であるマルチマイクロホローカソード光源を実現すること。
【解決手段】マルチマイクロホローカソード光源は、カソード板１１と、絶縁板１２と、アノード板１３と、金属片１４と、を備えている。絶縁板１２は、カソード板１１とアノード板１３との間に挟まれるように配置されている。カソード板１１は銅からなる。カソード板１１、絶縁板１２、アノード板１３の中心にはそれぞれ孔１５ａ、１５ｂ、１５ｃが設けられており、一続きに貫通した孔１５を構成している。図３のように、カソード板１１には、孔１５ａを中心とし、その孔１５ａに連続して十字型に伸びた４本の直線状の溝１６が設けられている。この溝１６は、カソード板１１を貫通している。４つの溝１６には、互いに材料の異なる４つの金属片１４がそれぞれ挿入され、埋め込まれている。 （もっと読む）

【課題】良好な膜質のコーティング膜を与えることができるコーティング装置およびコーティング方法を提供する。
【解決手段】処理チャンバと、
該処理チャンバ内の所定位置に電子デバイス用基材を配置するための基材保持手段と、前記コーティング材料を供給するためのコーティング材料供給手段と、前記電子デバイス用基材をプラズマ照射するためのプラズマ源とを少なくとも含むコーティング装置。このような構成により、前記プラズマを電子デバイス用基材上に照射しつつ、該基材上にコーティング層を形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】高密度ラジカルソース（プラズマ発生装置）を提供する。
【解決手段】ラジカルソース（プラズマ発生装置）１００は従来のＩＣＰ源に、一部改造を加えたものである。当該改造は円環状の電極１０を加えることである。即ち、１．Ａに示す通り、筒状の筐体１内部に、プラズマ発生管３とそれを取り巻くコイル４が納められている。筒状の筐体１右側からＳＵＳから成るガス供給管２が挿入され、接続管２３と円環状の電極１０を介してプラズマ発生管３に接続されている。１．Ａのラジカルソース（プラズマ発生装置）１００内部を高真空に減圧したのち、ガス供給管２から窒素ガスを供給し、ＳＵＳから成るガス供給管２を接地し（固定電位）、コイル４と電極１０に高周波を印加したところ、６．６×１０^-3Ｐａの低圧力で放電が容易に生じた。即ち、円環状の電極１０を外した従来のＩＣＰ源よりも、高密度の窒素ラジカルが生成できる。 （もっと読む）

【課題】プラズマの状態を乱すことなく、粒子密度を正確に測定できるようにすること。
【解決手段】プラズマ雰囲気の原子又は分子密度を吸光分光により測定する粒子密度測定プローブである。プラズマ雰囲気に設けられる円柱状の導光体２０であって、その先端部１３に、導光体を伝搬した光を反射する反射板１４と、その反射板の手前に、導光体の長手方向に垂直な断面において一部の壁面が欠落した部分が長手方向に所定長だけ形成され、この部分を通過する光とプラズマ雰囲気の原子又は分子とが接触可能にしたプラズマ導入部１５を有する。光伝搬体３２は、プラズマ導入部１５の手前に位置し側壁による全反射により光を軸方向に案内する。 （もっと読む）

【課題】プラズマの状態を乱すことなく、粒子密度を正確に測定できる光源を実現すること。
【解決手段】本光源は、管状の筐体１２と、筐体の内壁に沿って設けられた、冷却媒体を流通させる冷却媒体流通路３０と、筐体の先端に配設されたレンズ５０と、レンズの手前であって、筐体内部において、その筐体の軸に垂直に、相互に平行に、配設された第１電極４４及び第２電極４６と、その間に配設された絶縁スペーサ４６とを有する。第１電極、絶縁スペーサ及び第２電極の中央部を軸の方向に貫通する孔４７を有する。冷却媒体流通路の内壁に沿って、放電ガスを、レンズの裏面に向かって導入し、レンズで反射させて、孔を通して、流通させる放電ガス流通路を設けた。 （もっと読む）

【課題】各種のラジカルを選択的発生し、それらの濃度を制御できるようにすること。
【解決手段】第１平板１１には多数の第１貫通孔３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、第２平板１２には多数の第２貫通孔３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、第３平板１３には、多数の第３貫通孔３３ａ、３３ｂ、３３ｃが形成されている。第１貫通孔３１ａ、３１ｂ、３１ｃの内周面には、リング状の陽電極４１ａ、４１ｂ、４１ｃが、第２貫通孔３２ａ、３２ｂ、３２ｃの内周面には、リング状の陰電極４２ａ、４２ｂ、４２ｃが、第３貫通孔３３ａ、３３ｂ、３３ｃの内周面には、リング状の中性化電極４３ａ、４３ｂ、４３ｃが、それぞれ、配設されている。また、第１平板１１の陽電極４１ａ、４１ｂ、４１ｃの端面と接触して配線層５１ａ、５１ｂ、５１ｃが形成されいる。この配線層は、第１平板１１の側面に引き出されており、その端子から電圧が、それぞれに、独立して印加できるように構成されている。 （もっと読む）