説明

エーディーイー コーポレーションにより出願された特許

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【課題】半導体ウェーハの形状計測装置の系統的誤差を判定する。
【解決手段】ウェーハを計測器に対して角度を変えながらその表裏面を計測してセンサデータを収集し、表裏データセットを作る。ウェーハ角度に対して裏側データを表側データから差し引いて二分する事によって、各角度のウェーハ形状の平均を求める。また表裏データを加えて二分することにより各角度における計測シグネイチャを求める。対称的修正値は各角度における計器シグネチャ全てを平均する事によって計算され、該対称的修正値を計測の時と同じ角度毎に引き算し、校正されたウェーハデータセットを生ずる。ウェーハ平均値を、これらの校正ウェーハ形状計測値を平均する事によって計算し、該ウェーハ平均値を修正された形状計測値から差し引いて、それぞれの角度における形状残余マップを作る。残余を平均して非対称性誤差を算出し、対称性誤差と加算して系統的誤差を求める。 (もっと読む)


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