【課題】計測対象が電子線照射によってシュリンクする場合であっても、パターン輪郭や寸法を高精度に求めることのできる計測方法を提供する。
【解決手段】下地の上にパターンが形成された試料に電子線を照射して計測する方法において、パターンのＳＥＭ画像や輪郭（Ｓ２０１、Ｓ２０２）、試料のパターン部および下地部の材料パラメータ（Ｓ２０３）（Ｓ２０４）、電子線を試料に照射する際のビーム条件（Ｓ２０５）を準備し、これらを用いて、電子線を照射する前のパターン形状、あるいは寸法を算出する（Ｓ２０６）。 （もっと読む）

【課題】 エミッタティップ先端の機械的振動振幅が小さく、超高分解能の試料観察像が得られ、かつ試料観察像にゆれなどをなくす荷電粒子線顕微鏡を提供する。
【解決手段】 イオンを生成するエミッタティップと、該エミッタティップを支持するエミッタベースマウントと、該エミッタティップを加熱する機構と、エミッタティップに対向して設けられた引き出し電極と、エミッタティップの近傍にガスを供給する機構と、を有するガス電界電離イオン源において、エミッタティップ加熱機構が、少なくとも２個の端子間を接続するフィラメントに通電して前記エミッタティップを加熱する機構であり、前記端子間がＶ字状のフィラメントで接続され、V字のなす角度が鈍角であり、前記フィラメントの略中央に前記エミッタティップが接続されたことを特徴とするガス電界電離イオン源を搭載する荷電粒子顕微鏡とする。 （もっと読む）

【課題】検出対象成分の流れ方向の拡がりが小さく、分析装置の分析精度を向上可能な流体混合器を実現する。
【解決手段】分岐前の流路１１５に流体が＋Ｘ軸方向に流れ、分岐流路１１６で＋Ｙ軸方向と−Ｙ軸方向の流れに分岐し、下流でＸ軸方向に流れが曲がり、その下流で＋Ｙ軸方向と−Ｙ軸方向に流れが曲がり、その下流で合流し−Ｘ軸方向に流れが曲がる。さらに、その下流で＋Ｚ軸方向に流れが曲がり、その下流で＋Ｘ軸方向に流れが曲がり、その下流で−Ｚ軸方向に流れが曲がり、その下流で＋Ｘ軸方向に流れが曲がる。流体混合器９２１内を流れる検出対象成分が流体混合器９２１内に滞留する時間は、流体混合器９２１の入口断面において検出対象成分が流入する場所によらず同等である。よって、流体混合器９２１の上流に対する流体混合器９２１の下流における検出対象成分の流れ方向の拡がりが小さくなる。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線装置の制御回路と制御対象機器との間で偏向信号及び検出信号に対するノイズが生じる。一方で、ノイズ対策のために制御回路と制御対象機器とを接続するケーブルを短くすると試料室内部のメンテナンスが困難になる。本発明の目的は、メンテナンス性を損なうことなく、ノイズの影響を低減した高画質の画像が得られる荷電粒子線装置を提供することにある。
【解決手段】荷電粒子線を試料に照射するカラムと、前記カラムの内部の機器を制御する制御ユニットと、前記制御ユニットを移動させる移動機構とを備えることを特徴とする。制御ユニットを荷電粒子線照射による画像取得時にはカラムの近傍に配置し、保守時にはカラムから離れるように移動可能にする。 （もっと読む）

【課題】表示基板が大型化しても表示基板の位置決めの精度が低下することのないパネルアライメント装置及びＦＰＤモジュール組立装置を提供する。
【解決手段】パネルアライメント装置８０は、表示基板の下面を保持する基板保持部８２と、基板保持部８２を水平方向に移動及び回動させる移動機構８３を備える。移動機構８３は、基板保持部８２により保持した表示基板１０１の処理が施される端部側の下方に配置されている。移動機構８３は、従動回転軸９４Ａ及び従動直線軸９４Ｂからなり基板保持部８２を支持する従動軸部９４と、従動軸部９４を直線移動させる駆動直線軸９３とを有する３つの支持デバイス９１Ａ，９１Ｂ，９２から構成されている。そして、２つの支持デバイス９１Ａ，９２の駆動直線軸９３は、互いに交差する方向に延びている。 （もっと読む）

【課題】使い勝手良く試料を荷電粒子技術及び光学技術にて的確に検査又は観察することが可能な検査装置、観察装置が提供される。
【解決手段】荷電粒子照射部から放出された一次荷電粒子線が試料に到達する間の少なくとも一部の領域となる真空状態に維持可能な第一空間の少なくとも一部を形成する第一の筐体と、該第一筐体に具備され前記試料を格納可能な第二空間の少なくとも一部を形成する第二筐体と、前記荷電粒子照射部から照射された一次荷電粒子線が試料上に照射する際の前記荷電粒子照射部の同軸上に配置され、前記第一空間と前記第二空間とを隔てる隔壁部と、前記試料に対し光を照射し、前記荷電粒子照射部と同方向から前記試料からの光を検出する光学式観察部と、を備える検査又は観察装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】
表面の異物や傷欠陥だけでなく基板の局所的な厚さの変化による欠陥まで検出することを可能にする。
【解決手段】
ガラス基板検査装置を、ガラス基板を透過した光を検出する第１の欠陥検出光学系と、ガラス基板を透過した光によりガラス基板の表面又は内部で発生した散乱光を検出する第２の欠陥検出光学系と、第１の検出光学系で検出した信号と第２の検出光学系で検出した信号とを処理する信号処理手段とを備えて構成し、信号処理手段は、第１の検出光学系手段からの検出信号を入力して処理することによりガラス基板の局所的な厚さの変化に起因する欠陥を検出し、第２の検出光学系手段からの検出信号を入力して処理することによりガラス基板の欠陥を検出するように構成した。 （もっと読む）

【課題】ＡＣＦを貼付した際に生じる気泡によって位置決め用のマークを検出する時に不具合が生じることを防ぐ。
【解決手段】ＦＰＤモジュール組立装置１０は、ＡＣＦ１１０を貼付したＴＡＢ１０２に光Ｌを照射する光源１３１と、ＴＡＢ１０２を透過した光Ｌを撮像する撮像部１３３と、光源１３１から出射した光Ｌを拡散させる拡散機構１３２と、を備える。そして、拡散機構１３２による光の拡散率は、１０％以上に設定される。 （もっと読む）

【課題】試料に対して均一なプラズマ処理を行うことのできるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】試料をプラズマ処理する真空処理室と、前記真空処理室の上面を形成する誘電体窓と、前記真空処理室内にガスを導入するガス導入手段と、前記真空処理室内に配置され前記試料を載置する試料台と、前記誘電体窓の上方に設けられた誘導コイル４ｄと、誘導コイル４ｄに高周波電力を供給する高周波電源とを備えるプラズマ処理装置において、誘導コイル４ｄの下方に配置された平板の導体１２を備え、誘導コイル４ｄは、交差した給電部を有し、導体１２は、前記給電部の下方に配置され、誘導コイル４ｄの給電部の誘導磁場分布を調整して試料上でのプラズマ分布を補正する。 （もっと読む）

【課題】１台以上の機能モジュールと前記機能モジュールの各々と対で組み合わされるバッファユニットを有する検体処理システムにおいて、障害により装置が停止した場合、バッファ内に多数の検体ラックを保持していることにより、リセット処理によるラック収納に膨大な時間が必要となる。またシステム構成によるバッファユニットが複数ある場合には、バッファユニット数に依存してリセット時間が倍増してしまう。
【解決手段】各バッファユニットに検体ラックＩＤ読取り手段を設け、リセット時にバッファユニット内の検体ラックのＩＤ読取りをバッファユニット内で行い、読取った情報から制御部に対して各検体ラックの搬送先の問い合わせを行う。その後、制御部からの搬送先指示に基づき、バッファユニットを起点として検体の処理の再開を行う。 （もっと読む）