説明

株式会社日立ハイテクノロジーズにより出願された特許

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【課題】液体クロマトグラフ装置において、カラム洗浄および封入液充填の条件設定および実施を自動化し、カラム洗浄漏れおよび封入液充填漏れを防止する。
【解決手段】中央処理装置70が、ポンプ、オートサンプラ、カラムオーブン、又は検出器を含むクロマトユニットに関する情報をカラムタグ110から読み出し、クロマトユニットからの情報を受信しながら、分析者により設定された分析条件に従って、クロマトユニットを制御する。
また、中央処理装置70が、分析後のカラム洗浄又は封入液充填を自動で実施すると、カラムタグ110の対応するフラグをONに設定する。そして、分析者がカラムオーブン40からカラムを取り外す際、カラム洗浄又は封入液充填の少なくとも一方が未実施の場合、出力装置80に警告を表示する。 (もっと読む)


【課題】テーパ形状の開口部が多数形成された有機EL用マスクに付着した有機材料を高い洗浄度でレーザクリーニングを行うことを目的とする。
【解決手段】テーパ部12Tを有する開口部12を形成した有機EL用マスク1の表面に付着した有機材料を剥離するために有機EL用マスクの表面1を走査するレーザ光Lを発振するレーザ光源31と、有機EL用マスク1の表面よりもレーザ光Lの入射側で焦点を結ぶように有機EL用マスク1の表面とレーザ光Lの焦点位置との相対位置関係を調整する焦点位置調整手段とを備えている。これにより、レーザ光Lは有機EL用マスク1の表面よりもレーザ光Lの入射側に離間した位置で焦点を結ぶため、有機EL用マスク1に拡散光を照射することができ、テーパ部12Tに大きな角度でレーザ光Lを照射できるようになる。 (もっと読む)


【課題】欠陥箇所のフレームが特定可能な、又は保存画像の圧縮率が高い、或いはシステマティックな欠陥を抽出可能な高精度で低ダメージの走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】走査電子顕微鏡において、パターンの検査・測長のための合成画像を構成する個々のフレーム画像やサブフレーム画像に対してパターンの有無を判定するパターン有無判定部1012や倍率補正部1014、歪曲補正部1018、画像合成部1015及びそれら画像を動画形式で圧縮保存する記憶部1111を備える。 (もっと読む)


【課題】複数の光学式変位計を用い、チャックのθ方向の傾きを精度良く検出して、基板のθ方向の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】チャック10a,10bを、XY方向へ移動及びθ方向へ回転する移動ステージに搭載する。複数の光学式変位計(レーザー変位計42)によりチャック10a,10bの変位を複数箇所で測定し、移動ステージのθ方向の角度に応じて、光学式変位計毎に予め決定した補正値により、各光学式変位計の測定値を補正する。補正した測定値から、チャック10a,10bのθ方向の傾きを検出し、検出したチャック10a,10bのθ方向の傾きに応じて、移動ステージによりチャック10a,10bをθ方向へ回転して、基板1のθ方向の位置決めを行う。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ドライ洗浄方法において、スループット向上し処理枚数を増やすことができるマスクドライ洗浄装置または洗浄方法を提供すること、あるいは上記マスクドライ洗浄装置を蒸着装置に隣接して設けることで短時間に洗浄できる稼働率の高い製造装置を提供することである。
【解決手段】本発明はレーザ光源から出射されるレーザ光をマスクに付着した付着蒸着材料に照射し該マスクを洗浄する際に、前記レーザ光を円形状から楕円形状に変更し、該楕円形状のレーザ光を前記マスクの前記付着蒸着材料に照射し洗浄することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】周囲の機器の配置に制限されることなく容易に装着可能であり、且つ、製造コストが比較的安いマイクロ流路チップを提供する。
【解決手段】マイクロ流路チップは、凹部を有する基板ホルダと、該基板ホルダの凹部に装着された反応基板と、該基板ホルダ及び前記反応基板を覆うように配置された第1のシートと、該第1のシートを覆うように配置された第2のシートと、を有する。反応基板は、前記反応チャンバに露出している第1の面と、前記基板ホルダの凹部に設けられた観察窓を介して外部に露出している第2の面と、を有し、前記反応基板の第1の面には微細構造からなる反応スポットが形成されており、該反応スポットは前記反応チャンバに露出されている。 (もっと読む)


【課題】透過型電子顕微鏡において、加熱しても試料を連続観察することができ、かつ試料とヒーターの温度差を減らすことができる試料ホルダーおよび試料観察方法を提供する。
【解決手段】試料を載置するための試料膜が固定された加熱部を備える。 (もっと読む)


【課題】半導体素子の微細化に伴って半導体製造装置から発生する微細粒径異物の低減が求められており、半導体処理装置のロードロック室と大気搬送手段間の試料搬入出処理時に乾燥窒素ガスを導入することにより、ロードロック室内のガス中に残留する水分を極力排除し、減圧排気時のガスの温度変化に伴う凝縮水の発生を大幅に抑制し、凝縮水の落下による試料上の付着異物によるパターン不良を低減しつつ、試料の生産効率を向上する。
【解決手段】ロードロック室9aと大気搬送手段間の試料搬入出処理操作に対し、乾燥窒素ガスを導入し、ロードロック室9a内の湿度を低減する構成とし、乾燥窒素ガスの導入時に多孔質材により構成するガス導入部材40を試料台14aに対向するロードロック室蓋21の上面に設置することにより構成する。 (もっと読む)


【課題】 ナノポアによる配列解析のマルチ化に際し、試料をナノポアにトラップする効率が必ずしも100%ではなく、トラップされていないポアの計測に無駄な時間を費やし、計測効率が低いという課題があった。
【解決手段】 試料に標識物質を結合し、ナノポアに標識物質付き試料をトラップする。標識物質を観察する装置を採用し、標識物質を観察し、個々のナノポアについて試料がトラップされているか否かを確認する。試料がトラップされているナノポアに対してのみ計測を行うことにより、計測効率を向上する。 (もっと読む)


【課題】パターンドメディアディスク上に繰り返し発生した欠陥をスタンパの経時的変化による劣化により発生した欠陥と、プロセスの不良により発生した欠陥とを識別して、スタンパの経時変化により発生した欠陥を検出する。
【解決手段】試料上に塗布されたレジストに微細なパターンを転写するためのスタンパの不良を検出するパターンドメディア用スタンパの検査方法において、表面に塗布されたレジスト膜にスタンパの微細なパターンが転写された試料に光を照射し、光が照射された試料からの反射光を分光検出し、分光検出して得た検出波形から欠陥を抽出し、抽出した欠陥のうち複数の試料上の同じ位置に発生した欠陥についてスタンパに起因する欠陥と、レジスト膜のパターンを形成するプロセスに起因する欠陥とを弁別し、スタンパに起因する欠陥の個数が予め設定した個数を超えたときに警告を通知するようにした。 (もっと読む)


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