説明

株式会社日立ハイテクノロジーズにより出願された特許

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【課題】微細構造転写方法およびその装置において、比較的コンパクトな装置でかつ高いスループットで泡の入り込みを防止しつつパターンの転写を実現可能にする。
【解決手段】
微細構造を転写する方法において、表面にレジストがコーティングされた被転写体に裏面を真空吸引してスタンパを密着、加圧させる際に、スタンパを球面状に変形または湾曲させて密着面を中心部から周辺部に拡大させていくことで被転写体とスタンパとの間に気泡の入り込みを防止した。 (もっと読む)


【課題】被検査体の表面内を均一な検出感度にて検査することができる表面検査装置及び表面検査方法を提供する。
【解決手段】表面検査装置は、被検査体移動ステージ、照明装置と、検査座標検出装置、光検出器と、A/D変換器と、異物・欠陥判定部、を有する。照明装置は、検査座標検出装置によって得られた照明スポットの半径方向の位置に基づいて、照明スポットの円周方向の寸法を変化させるように構成されている。照明スポットが被検査体上を外周部から中心部に移動する間に、照明スポットにおける照射光量密度が一定となるように構成されている。 (もっと読む)


【課題】3次元トランジスタ構造のPolyシリコンゲート側壁の窒素含有シリコン膜をシリコン基板削れを抑制しつつ、所望の形状に加工する方法を提供する。
【解決手段】3次元トランジスタ構造上の窒素含有シリコン膜をプラズマエッチングするために、堆積性の高いガスでエッチングする第1ステップと、堆積成分を除去する第2ステップとを有し、前記第1ステップと前記第2ステップを交互に繰り返すことにより、Polyシリコンゲート電極31の側壁にのみ窒素含有シリコン膜34を残し、かつ、シリコン基板33の削れを抑制するようにエッチング加工する。 (もっと読む)


【課題】欠陥検査装置では検出した結果が誤ってたとしても、正常な検出結果として報告しており、歩留まり管理の精度が低下してしまう点については配慮がなされていなかった。また、報告が挙がってからでは管理情報の修正は不可能であるため、報告前に検査結果の妥当性を確認し、妥当性の判断を行う必要がある点についても配慮がなされていなかった。
【解決手段】画素ごとの信号を計算し、前記検出部の異常を判定する第1の処理部と、前記異常が発生した画素を補正する第2の処理部と、前記第2の処理部による補正後の画素の検出結果を用いて、前記基板の欠陥を判定する第3の処理部と、を有する。 (もっと読む)


【課題】チャックの開口を塞ぐ蓋の高低により発生する露光むらを効果的に抑制する。
【解決手段】チャックに、少なくとも1つの開口と、開口を塞ぐ蓋14と、チャックに対する蓋14の取り付け高さを調整する高さ調整機構とを設ける。チャックの開口の周囲に非真空区画を形成し、非真空区画からチャックの裏面へ通じる空気通路を設け、非真空区画の周囲に真空区画を形成する。高さ調整機構により、チャックに対する蓋14の取り付け高さを調整して、蓋14の上面の高さをチャックの上面の高さより低くし、真空区画により基板を真空吸着して、基板をチャックに固定し、空気通路により非真空区画を大気開放して、基板が非真空区画に吸着されるのを防止する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、予備照射領域内に異なる複数の材質が含まれていたり、予備照射領域内のパターンの密集度が位置によって異なるような試料であっても、帯電の不均一さを抑制することが可能な荷電粒子ビーム照射方法、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、予備照射領域を複数の領域に分割し、当該複数の領域に対し、異なるビーム照射条件のビームを用いて、帯電を付着する荷電粒子ビーム照射方法、及び荷電粒子線装置を提案する。上記構成によれば、予備照射領域内で、各位置の帯電の差異を抑制し得るような照射条件に基づいて、予備照射領域に対する帯電の付着が可能となるため、荷電粒子ビームや試料から放出される電子に対する電界の影響を抑制することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】表示基板に接続されたTABとPCBとの相対的な位置ずれを防ぐFPDモジュールの組立装置を提供する。
【解決手段】FPDモジュールの組立装置は、PCB搬送部84と、予熱用ヒータ96A,96Bと、カメラ85A,85Bと、本圧着部76とを備える。PCB搬送部84は、PCB103を保持して搬送する。予熱用ヒータ96A,96Bは、PCB搬送部84に保持されたPCB103に接触してPCB103の予熱を行う。カメラ85A,85Bは、ヒータによって予熱されたPCB103の位置を検出する。本圧着部76は、カメラ85A,85Bの検出結果に基づいてPCB搬送部84により搬送されたPCB103と表示基板101に接続されたTAB102とを熱圧着する。 (もっと読む)


【課題】基板を汚染することなく非接触で保持する基板保持装置では、基板の自重によるたわみが発生したり、使用条件の中で回転動作の風圧による基板のたわみが発生するために、各種処理の障害になっている。
【解決手段】基板の上面を所望の面高さに保持したり、あるいは平面度を保持したりするために、基板上面に基板面の高さを測る非接触の変位センサを設置し、また、載せ台上面には複数の溝と障壁を設け、基板と乗せ台の間にエアーを供給してその圧力によって基板の変位を可能として、さらに、変位センサの出力をフィードバックすることで基板を任意の凸,凹形状に変形したり、平面化することを可能とする構造を持つ基板搭載装置。 (もっと読む)


【課題】従来の方法では、膜種が同じで、膜厚が異なる場合等は再度の実測が必要となり、検査条件を設定するのに時間がかかってしまう。
【解決手段】複数の検出光学系がそれぞれ、検光角を変える光学素子と、前記検光角を制御する検光角制御部と、を有し、処理部は、前記複数の検出光学系毎の、前記検光角と、前記検光角に対応した信号対雑音比と、前記基板の膜種と、前記基板の膜厚との関係を保存したデータベースを有し、前記データベースを更新していく。さらにSNR閾値を設ける。 (もっと読む)


【課題】交換時間を低減した稼働率の高いACF貼付装置及びACF貼付方法、及びACFテープの貼付け位置での位置再現性の優れた信頼性の高いACF貼付装置及びACF貼付方法を提供する。
【解決手段】搭載部品を表示基板の搭載位置に貼付けるACFを有するACFテープをACF供給リール160から引き回し前記ACFを前記搭載位置に貼付ける際に、前記ACF貼付装置20は前記ACF供給リール160を具備し前記ACFテープを引き回したACFカセット100と前記ACFカセット100を固定するカセット固定部200とを有し、前記ACFカセット100を前記カセット固定部200に対し所望の姿勢に固定する位置姿勢方向3軸と回転姿勢方向3軸の計6軸を規定する位置決め部材141〜143、241〜243を前記ACFカセット100と前記カセット固定部200に対に複数組設けたことを特徴とする。 (もっと読む)


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