【課題】本発明は、試験管供給作業を行う上で重要な試験管方向判定装置に関して、通常一種類の試験管しか対応していなかった試験管の方向判定を、さまざまな酒類の試験管に対応させることを目的とする。
【解決手段】試験管の内部に挿入可能な接触部を試験管に接近させ、試験管底部を向けているときは接触部と接触し、接触したことをセンサが検知することで試験管が底部を向けていることを判定する。試験管が開口部を向けているときは、接触部は試験管内部に挿入され、接触しないことから試験管が開口部を向けていることを判定する。この接触部の移動量を、試験管の種類ごとに予め設定しておき、オペレータが方向を判定したい試験管の種類を操作部で入力すると、それに対応した接触部の移動量が制御できる。これにより多種類の試験管に対応した方向判定ができる。 （もっと読む）

【課題】基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する際、各区画の境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止する。
【解決手段】マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを設け、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近で移動させて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ照射される露光光の光量を調節する。基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの露光時に、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂにより光量を調節した露光光を、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ重ねて照射する。 （もっと読む）

【課題】攪拌対象となる容器中の反応液に対し、容器上側に設けた空気噴出口から空気を噴出して反応液を攪拌する自動化学分析装置反応容器に対し、噴出される空気の状態を確認することで、信頼性が高い化学分析装置を提供する。
【解決手段】反応容器設置台（反応ディスク）１６１に細孔２４０と、細孔につながる圧力検出手段２４１を設け、攪拌動作前後に、空気を噴出しながら噴出口（ノズル）１７０を移動し、圧力検出手段からの出力値を予め測定しておいた正常値と比較することで、攪拌機構が正常であることを保障する。 （もっと読む）

【課題】多量の描画データを空間的光変調器の駆動回路へ高速に供給すると共に、光ビーム照射装置の照射光学系に含まれる光学部品の歪みによる露光量のばらつきを補正して、描画精度を向上させる。
【解決手段】描画データを、光ビームによる基板の走査方向と直交する方向において、光ビーム照射装置の空間的光変調器の隣接するミラーの中心点間の距離に応じた等間隔の座標毎に分けて、等間隔の座標毎にまとめてメモリ７２に記憶する。光ビームによる基板の走査に伴い、描画データを等間隔の座標毎にまとめてメモリ７２から読み出し、メモリ７２から読み出した描画データの座標を、光ビーム照射装置の照射光学系に含まれる光学部品の歪みに応じて補正し、補正後の描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ供給する。 （もっと読む）

【課題】自動分析装置上で散乱光測定法によってラテックス免疫反応を高感度に測定するための、装置ならびに試薬上の好適な条件を提供する。
【解決手段】波長０．６５〜０．７５μｍの範囲の照射光を用い、照射光の照射方向に対して１５〜３５°の受光角度で、反応容器８の回転移動中に、反応液から生じる散乱光を受光する。試薬は、平均ピーク粒径が０．３μｍ〜０．４３μｍであって抗体が感作されたラテックス粒子を含有する。反応液は、波長０．７μｍの照射光に対する吸光度が０．２５abs〜１．１０absとなる濃度のラテックス粒子を含み、ラテックス粒子がサンプル内の抗原を介して凝集することで起こる散乱光の光量変化を測定し定量する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、蓋を容易に取付け取外すことができ、かつ、試料を空気にさらすことなく試料室内に導入することを可能にする試料ホルダーを提供する。
【解決手段】開口部を有し内部で試料３９を保持する試料台３７と、試料台３７の開口部を閉塞する蓋３６と、試料台３７に設けられた蓋押さえ３８と、蓋押さえ３８に設けられた第一の突合せ部と、前記第一の突合せ部との嵌合により、試料台３７に蓋３６を押し付け、蓋３６と試料台３７で囲まれた空間を密閉する蓋３６に設けられた第二の突合せ部と、備える試料ホルダー１００を提供する。 （もっと読む）

【課題】自動分析装置における従来技術では、反応容器への接触位置を精度よく測定することが難しい。
【解決手段】反応容器にサンプルプローブ３が接触したときに生じるサンプルプローブの振動変化を検出する振動検知機構（例えば、加速度センサ１６１）をサンプリング機構１に設け、該振動検知機構が検出した振動変化に基づき、プローブが反応容器５に接触した時点を判定し、各反応容器底面２０１への底面までの距離２１０を精度よく測定できる。 （もっと読む）

【課題】 試料内複数点の測定時に生じる像ドリフトを低減する。
【解決手段】 測長画像の取得後に測長画像取得より低倍走査での電子ビーム照射により除電を行う。その際に、走査領域が２０μｍ角以上、２００μｍ角以下の倍率に設定される。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬなどの成膜をおこなう成膜室に設置された防着板の取付け、取外し作業の時間を短縮し、かつ交換時の安全性を確保した成膜装置を提供する。
【解決手段】基板上に材料を成膜するための成膜室と、成膜する材料を前記基板に供給する成膜材料供給源と、少なくともその一部が、前記成膜室の筐体と前記成膜材料供給源の間に設けられ、該成膜材料供給源から供給される成膜材料が該筐体に付着するのを防止する防着板１と、を備えた成膜装置において、前記防着板は、少なくとも上下方向で複数部材に分割されており、かつ、上方の防着板を下方に移動させる防着板搬送機構を備える。また、前記防着板搬送機構は、前記筐体に係合する枠と、該枠に沿って移動する第一の搬送ブロックと、前記成膜室の開口部と直交する方向に敷説されたレールと、前記レールに沿って移動する第二の搬送ブロックとを備える。 （もっと読む）

【課題】経年変化に伴ってレーザー測長系のレーザー光源の出力特性が変化しても、移動ステージの位置を精度良く検出して、基板の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】移動ステージに複数の反射手段３４ａ，３４ｂ，３５を取り付け、複数のレーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３により、レーザー光源３１ａ，３１ｂからのレーザー光と各反射手段３４ａ，３４ｂ，３５により反射されたレーザー光との干渉を複数箇所で測定する。各レーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３の測定結果から、移動ステージの位置を検出し、検出結果に基づき、移動ステージによりチャック１０ａ，１０ｂを移動して、基板１の位置決めを行う。各レーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３が受光したレーザー光の強度の変化を検出し、検出したレーザー光の強度の変化を補う様に、レーザー光源３１ａ，３１ｂへ供給する駆動電流を制御する。 （もっと読む）