株式会社日立ハイテクノロジーズにより出願された特許
11 - 20 / 4,325
試料ステージ及び荷電粒子装置
Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189
表面検査装置及び表面検査方法
Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189
半導体処理システム及びプログラム
Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189
プラズマエッチング方法
Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189
イオンビーム装置
Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189
検査装置
Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189
細胞の測定方法及び細胞の測定用試薬
Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189
磁気ヘッド検査装置及び磁気ヘッド検査方法
【課題】微動アクチュエータを内蔵した磁気ヘッドの検査において、熱ドリフトや熱膨張の影響を回避して、安定したサーボ制御を実現すること。
【解決手段】磁気ヘッド検査装置10は、磁気ヘッド4を磁気ディスク1上の所望の位置に位置決めする微動ステージ7と、微動アクチュエータの移動特性を測定するデータ処理回路15と、データ処理回路15の測定結果に基づいて磁気ヘッド4を磁気ディスク1上のサーボトラックに追従させるサーボ制御回路11を備える。サーボ制御回路11は、微動アクチュエータの移動量が許容範囲を超えるとき、微動ステージ7を駆動して磁気ヘッド4を移動させ、微動アクチュエータの移動量が許容範囲内に収まるように制御する。
(もっと読む)
プラズマ処理装置
【課題】ガス管路118からウエハ端部に至るガス流路に活性化したクリーニングガスを供給して、ガス噴出部、ウエハのエッジ部分等に堆積する堆積物を除去する。
【解決手段】真空排気装置が接続可能で内部が減圧可能な真空容器と、該真空容器内にガスを供給するガス供給手段と、前記真空容器内に供給されたガスをプラズマ化するプラズマ生成手段と、前記真空容器内に配置され、その上面に試料を載置し保持する試料台と、該試料台の外周をリング状に被覆して試料台をプラズマから保護するサセプタを備えたプラズマ処理装置において、前記サセプタは、ガスを導入して蓄積するガス充填部113、ガス充填部に充填されたガスを試料載置面側に噴出するガス噴出部115と、前記プラズマの発光を前記充填部に導入する光透過窓111を備えた。
(もっと読む)
シャワープレートの洗浄方法
【課題】プラズマ処理装置で用いるシャワープレートの穴部の残渣を効果的に除去することのできるシャワープレートの洗浄方法を提供する。
【解決手段】プラズマ処理室と、前記プラズマ処理室にガスを導入するシャワープレートとを備えたプラズマ処理装置で用いるシャワープレートの洗浄方法において、プラズマ処理室にガスを導入するための複数の穴を有し、研磨材で研磨処理されたシャワープレートを準備する準備工程と、濃硝酸と過酸化水素水とを含む硝酸過水を用いて研磨処理されたシャワープレートを洗浄する洗浄工程14とを有する。
(もっと読む)
11 - 20 / 4,325
[ Back to top ]