【課題】ウエハ上のイオンエネルギーを所望の範囲の値に調節して、高精度な加工または長期間安定して処理を行うことのできるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】真空容器内に配置され内部でプラズマが形成される処理室と、この処理室内に配置されその上部の載置面に処理対象のウエハが載せられるステージと、このステージ内部に配置された電極にバイアス電位を形成するための高周波電力を供給する電源とを備え、前記電源から前記高周波電力を供給しつつ前記プラズマを用いて前記ウエハを処理するプラズマ処理装置であって、前記ステージの前記載置面の外周側に配置されその上方に形成される前記バイアスの電圧の値から最大値及び最小値との差の成分Ｖppと直流の成分Ｖdcとを検出する検出器と、この検出器からの出力に基づいて前記処理中Ｖpp／２＋｜Ｖdc｜の値を一定になるように高周波バイアス電力の出力を調節する制御器とを備えた。 （もっと読む）

【課題】複数の半導体処理装置或いはリアクタ同士の間での処理室内部或いはプラズマの状態の差を低減することができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】リアクタ１０１内部の処理室１２０内の試料台１０８内に配置された電極に高周波電源１２５からの電力が整合器１２４を介して供給しつつ前記プラズマを用いてウエハ１０７が処理されるプラズマ処理装置であって、前記処理中に前記電界の電力を複数の値に変動させて検出された前記電力の値の変化に対する前記プラズマの発光の強度、前記プラズマの発光の強度の時間変動の大きさ、前記整合器の整合位置及び前記電極に供給される前記高周波電力の電圧の値の変化を含む特性データのうち少なくとも２つ種類のデータの値の遷移点の前記電力の特定の値が、別のリアクタにおいて前記ウエハと同じ種類のウエハの前記処理中に検出された前記特性データを用いて検出された前記特定の値に合わせる。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、インラインのプロセス管理の一環として適用が可能な，高スループットなレジストパターンの膜減り検知ないし，膜減り計測を実現するシステムを提供することにある。
【解決手段】
走査型電子顕微鏡を用いて表面にレジストパターンが形成された試料の画像を取得する電子線画像取得手段と、該取得した画像を処理して前記レジストパターンの所望の領域の画像の明るさのばらつきの特徴を定量化する定量化手段と、該定量化手段で定量化した画像の明るさのばらつきの特徴を前記レジストパターン膜厚基準値からの減少量と関連付ける指標値を算出する指標値算出手段と、該指標値算出手段で算出した指標値の情報を画面上に表示する表示手段とを備えたことを特徴とする電子顕微鏡システムである。 （もっと読む）

【課題】短時間で封止プロセスを行うことができると共に太陽電池モジュール内に残留する空気を軽減することができるようにする。
【解決手段】封止樹脂が溶融する温度よりも低い温度で積層体１０，２０を加熱加圧して、封止樹脂を軟化させる。次に、積層体１０，２０を加熱加圧し、積層体１０，２０の中央部から昇温させて封止樹脂を溶融させる。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス作業後、及び、装置稼動前に行う装置性能の校正作業を迅速に安価に行えるようにする。
【解決手段】（１）イオン源８に流入させる試料ガス流量を常に一定にするため、イオン源、及び、質量分析部を有する真空チャンバー１３に設けた真空計２０ａ，２０ｂの真空度変化からバルブ６の絞り部径、オリフィス１５の径などを求め、基準値との差分を補正するため、試料導入部、イオン源、真空チャンバーの真空度を変化させる手段を有する。
（２）イオン源でのプラズマ生成状態を一定にするため、放電電圧、放電電流、プラズマ発光強度を計測し、現状の状態を把握し、基準値との変化分を補正するため、放電電圧などの放電条件を変化させる手段を有する。
（３）質量分離部に流入するイオン量を常に一定にするため、オリフィス径の変化分を補正するため放電時間などの放電条件を変化させる手段を有する。 （もっと読む）

【課題】導電性フィルムの太陽電池セルまたは電線への個片貼りを複数一括して行うことにより、太陽電池セルと電線との接続時間を大幅に短縮する。
【解決手段】導電性フィルム貼付ユニット１０３は、切断機構１３８と、複数の貼付ヘッド３１と、摺動部材５４と、ガイドレール３６と、カム体４１と、カム駆動部４２を備えている。カム体４１は、複数の貼付ヘッド３１の摺動部材５４が摺動する複数のカム溝４１ａを有する。そして、カム駆動部４２は、カム体４１を回動または回転させる。そして、カム体４１が回動または回転することで、摺動部材５４がカム溝４１ａを摺動し、複数の貼付ヘッド３１における隣り合う貼付ヘッド３１との間隔が変位する。 （もっと読む）

【課題】ナノポアを用いた計測方法において、低濃度の試料に関してナノポアを通過する通過頻度を向上させ、スループットを改善させることが可能なナノポア式生体高分子分析装置及びそれを用いた生体高分子分析方法の提供。
【解決手段】ナノポア式生体高分子分析装置であって、基板で隔てられた試料導入区画と試料流出区画とを有するチャンバと、前記試料導入区画に設けられた第１の電極及び前記試料流出区画に設けられた第２の電極と、前記基板に形成されている薄膜と、前記基板の薄膜に設けられた、前記試料導入区画と前記試料流出区画とを連通するナノポアと、前記基板の前記ナノポアの近傍に配置された第３の電極と、電極に対する電圧印加手段と、を備えたチャンバ部を有し、前記電圧印加手段が、第１の電極と第３の電極の間、第１の電極と第２の電極の間、及び第３の電極と第２の電極の間にそれぞれ電圧を印加する手段を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】設計レイアウトに記録された情報を、直接、解析して、所望の領域を抽出し、この抽出方法を用いて検査レシピを生成し、効率的な検査を実現する。
【解決手段】設計レイアウトデータの階層情報を解析して、その内部データであるセル一つ一つが設計レイアウトデータ内での参照回数を計算して、参照回数の多い順に並び替えて、対象を探索し、その上位セルを追跡することによって、メモリマットなどの所望の回路モジュールの領域抽出を容易にする。 （もっと読む）

【課題】
荷電粒子ビームを用いた計測装置ないし検査装置において、検査の高感度と高安定性とを両立する。
【解決手段】
帯電制御電極A４２０の被計測試料ないし検査試料側に帯電制御電極B４２１を設置し，試料の帯電状態に応じて、帯電制御電極Bの帯電制御電極制御部４２３から一定の電圧を与えることにより、検査前に形成した試料表面の帯電状態と電位障壁の変動を抑制する。帯電制御電極制御部６６によりリターディング電位が印加され、試料と同電位に調整される帯電制御電極A４２０の更に下部に帯電制御電極B４２１が設けられることにより、一次電子ビーム19が照射されるウェハ９などの試料から放出された二次電子４０９の試料への戻り量を調整することが可能になり，高感度な検査条件を検査中安定的に維持することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】簡便にＳＥやＢＳＥの角度とエネルギーを弁別し、観察対象試料の必要な情報を画像化する荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】一次荷電粒子線を放出する荷電粒子源と、当該一次荷電粒子線を試料上に集束する集束レンズと、当該試料上の照射点から放出された二次荷電粒子を検出する検出器とを備える走査型荷電粒子線装置において、前記検出器からの信号を波形処理し、二次荷電粒子のエネルギー分布情報を作成する波形処理部と、前記エネルギー分布情報の任意のエネルギー範囲の情報を選択して表示部に画像表示する制御部を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 （もっと読む）