【課題】 シール性能が安定して信頼性の高いプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 その内側が減圧される真空容器５０９と、この真空容器の壁に配置されその内外を連通し処理対象の試料がやりとりされる開口１２０１と、前記壁の外側に配置され前記開口１２０１を気密に閉塞および開放する弁体１００１と、この弁体上の前記開口の周囲の前記壁と接する側に配置されこの弁体が開口１２０１を閉塞した状態で前記壁及び弁体１００１と接触して前記開口の内側を封止するシール部材１００２と、このシール部材を構成する前記壁と接触する凸状の曲面を有した第１の凸部及びこの凸部から延在し弁体１００１と係合してその内側に取り付けられる張り出し部と、弁体１００１の前記壁と接する側に取り付けられ前記張り出し部の少なくとも一部をこの弁体に押し付けて位置決めするカバー１００３とを備えた真空処理装置。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、吸音材もしくは制振材から発生する異物の飛散を抑制してクリーンルームで使用可能にするとともに、吸音材もしくは制振材で効率良く音波を減衰するのに好適な荷電粒子線装置を提供することである。
【解決手段】
上記目的を達成するため、荷電粒子線装置の鏡体，試料から発生する二次信号粒子を検出する検出手段，二次信号粒子検出手段の信号により試料像を取得する試料像取得手段，試料ホールダ，試料ステージを包囲する外装カバーと、外装カバーの内面に防塵繊維で包囲された吸音材もしくは制振材を取付ける取付け手段とを具備したものである。 （もっと読む）

【課題】
マルチビーム型露光装置において、マルチビームを平行に照射し、歪が少ない配列で、ビームアライメントを効率よく行なうことができる荷電粒子ビームを提供する。
【解決手段】
マルチビームと同じ間隔の開口を有する絞り板３３を設置し、マルチビームをまとめて絞り板上を走査し、検出された像が極小になるようにコリメータレンズ２１のレンズ値を設定する。また、検出像が所望の対称性をもつように、非点補正器２２を調整する。検出結果を表示機構において、像を視野中心に設定することにより、ビーム検出を可能とするビームアライメント条件を導出する。 （もっと読む）

【課題】検査対象の搬入、搬出が容易であり、内部の状況を容易に観察でき、小型、軽量で、大きい磁場遮蔽率をもつ高性能な磁場遮蔽装置及びこれを用いる生体磁場計測装置、生体磁場計測方法を提供する。
【解決手段】円周面に形成される開口部を具備する鍔状板材２４と、１層又は複層の円筒部材とを、鍔状板材の開口部及び円筒部材の各中心軸を一致させて結合された補助円筒体２３と、ｙ軸に対して第１、第２、第３の角度範囲をもつ円筒型遮蔽体１、２、３と、ｙ軸に平行な部位に切欠き部１０をもち、円筒型遮蔽体２、３が一体化された回転扉４と、鍔状板材２４が回転扉４の開口部２２を囲み結合された円筒型遮蔽体１を、両端の円弧部で支持する遮蔽体支持体６ａ、６ｂと、円筒型遮蔽体１の円周部に沿ってｙ軸の周方向で回転扉４を回転させて周方向の開口部９の開閉を行う回転部７ａ、７ｂと、補助円筒体の開口部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】
マルチビーム方式の電子ビーム描画装置において、高精度な電子ビーム調整を行うことが出来る電子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】
電子源１１０から放出された電子ビーム１１１を、コンデンサレンズ１１２を通して平行ビームとなし、アパーチャ−アレイ１１３により複数のポイントビームに分離せしめ、個別にアライメント用偏向が可能なマルチアライナーアレイ１２９と、個別にオンオフ用偏向が可能なブランカーアレイ１１５とブランキング絞り１１９とを通して、前記複数のポイントビームを個々に試料１２４上に結像せしめる電子光学系を備えた電子ビーム描画装置において、前記マルチアライナーアレイ１２９によって前記ブランキング絞り１１９位置での電子ビームの位置を個々に調整するよう構成したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理室へシャワー状にガスを供給するシャワープレートのガス供給孔内での放電を防止し、装置の安定稼動を実現する。
【解決手段】プラズマ処理室内に導入される電磁界のシャワープレート面内における電磁界分布に従い、所定の電界強度以下となる電界の弱い領域にシャワープレートのガス供給孔を配置する。 （もっと読む）

【課題】走査型顕微鏡を用いた半導体装置検査工程においてパターンのラインエッジ形状を高精度で広範囲に渡って抽出するための各種パラメータを簡便に最適化する。
【解決手段】走査型顕微鏡の制御系ないし隣接する端末から画像処理工程で必要になる各種パラメータのうち操作者に理解しやすいものを入力すると、残りのパラメータが自動的に最適化されるようにする。必要な走査線の本数が装置側の可能な値を超えた場合は複数の画像データに分けて走査し取得した画像を重ね合わせて1枚の画像とする。 （もっと読む）

【課題】外乱による影響を抑制することのできるプラズマ処理装置および処理方法を提供する。
【解決手段】真空処理室内に収容した試料に処理を施すプラズマ処理装置２３と、前記処理中のプロセス量をモニタするセンサ２４と、前記センサからのモニタ出力および予め設定した加工結果の予測式をもとに加工結果を推定する加工結果推定モデル２５と、前記加工結果の推定モデルの推定結果をもとに加工結果が目標値となるように処理条件の補正量を計算する最適レシピ計算モデル２６を備え、該最適レシピ計算モデルが生成したレシピをもとに前記プラズマ処理装置２３を制御する。 （もっと読む）

【課題】
リニアイオントラップからイオンを一部ずつパルス排出して飛行時間測定を行う質量分析装置において、リニアイオントラップに蓄積された全イオンの排出に要する時間を短縮し、高感度な質量分析技術を提供する。
【解決手段】
リニアイオントラップに蓄積されたイオンを少量ずつパルス排出し、排出されたイオンパルスが飛行時間型質量分析部の直交加速部４に到達した時点において、直交加速部４に加速電圧パルスを印加して飛行時間測定する構成を有する質量分析装置において、イオンのパルス排出を繰り返す間、リニアイオントラップを構成する入口側レンズ電極１の電位を徐々に上昇させてリニアイオントラップ内部のポテンシャル井戸の底辺部の長さを短縮することにより、リニアイオントラップ内部のイオン密度を維持する。これにより、リニアイオントラップに蓄積されたイオンの質量分析時間が短縮されるため、イオン利用率が向上し、その結果、質量分析装置の検出感度が向上する。 （もっと読む）

【課題】
安定した所望の電圧波形を被処理物に印加することのできるプラズマ処理技術を提供する。
【解決手段】
処理ガスの導入口５、真空排気手段２および試料を載置するステージ６を備え、導入した処理ガスをプラズマ化して試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、ステージ６に高周波電力を供給して試料に入射するイオンを加速する高周波電圧発生手段８と、ステージに供給される高周波電圧を検出して、該電圧が設定値になるように高周波電圧発生手段を制御する電圧センサ１０と、前記ステージに並列に接続され、前記高周波発生手段８の負荷として作用する固定インピーダンス回路９を備え、固定インピーダンス回路のインピーダンス値は、固定インピーダンス回路側に供給される電力が前記高周波電圧発生手段８の出力の５０％以上になるように設定した。 （もっと読む）