【課題】微細ラインパターン上のエッジラフネスのうち、デバイスの作成上あるいは材料やプロセスの解析上特に評価が必要となる空間周波数の成分を抽出し、指標で表す。
【解決手段】エッジラフネスのデータは十分長い領域に渡って取得し、パワースペクトル上で操作者が設定した空間周波数領域に対応する成分を積算し、測長SEM上で表示する。または、十分長い領域のエッジラフネスデータを分割し、統計処理と理論計算によるフィッティングを行って、任意の検査領域に対応する長周期ラフネスと短周期ラフネスを算出し測長SEM上で表示する。 （もっと読む）

【課題】気圧変動がある場合でも高精度の描画でき、かつスループットが維持でき、しかも安価な電子線描画方法、および電子線描画装置を提供すること。
【解決手段】電子ビームにより試料に描画を行う電子線描画方法において、前回描画較正時に計測された気圧との気圧差および前回描画較正時からの経過時間を逐次計測し、前記経過時間に対する前記気圧差の割合が、気圧変動割合規定値以上のときには、描画精度の較正を実行することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】露光／非露光部にて電子ビームを高速にＯＮ／ＯＦＦして描画する電子ビーム描画装置において、ビームＯＮ時間に対するビーム照射量の非直線性により、試料上に形成される描画パターンの寸法精度が悪化するという課題がある。
【解決手段】露光／非露光部にて電子ビームを高速にＯＮ／ＯＦＦして描画する電子ビーム描画装置において、ビームＯＮ時間に対するビーム照射量の特性を予め計測し、ビームＯＮ時間の補正データを作成しておき、描画時には前記補正データに基づいて、所望のビーム照射量が得られるようにビームＯＮ時間を補正する。 （もっと読む）

【課題】同一視野でミラー電子顕微鏡観察と低エネルギー電子顕微鏡観察とを両立させ得る反射結像型電子顕微鏡を提供するとともに、この反射結像型電子顕微鏡を用いて、試料上に形成されたパターンの欠陥部を、高分解能でかつ高速で検出し得る欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】電子源１から出射した電子線を試料７に面状の照射電子線３０１として照射する照射レンズ系と、試料７から出射した反射電子線３０２を投影拡大して試料像を投影結像させる結像レンズ系と、照射電子線３０１と反射電子線３０２を分離するビームセパレータ４とを備えた反射結像型電子顕微鏡において、ビームセパレータ４は、電界と磁界を直交かつ重畳させたＥｘＢ偏向器で構成され、照射電子線３０１に対する偏向角をほぼ一定に保ちながら、反射電子線３０２に対して、電界と磁界による偏向作用が打ち消しあう、ウィーン条件となるように偏向器を制御する制御手段２８を設ける。 （もっと読む）

【課題】
グレインやモホロジーの誤検出や干渉光強度ムラの影響を低減して、様々なプロセスにおけるターゲット欠陥を安定に検出できるパターン欠陥検出方法及びその装置を提供すること。
【解決手段】
複数波長を出力する照明手段３および４から射出された光を、ビームスプリッタ６で反射しウェハ１に照射する。ウェハ１からの回折光は対物レンズ８で集光され、光変調ユニット７、１１、１３を通して、光検出部１７にてイメージセンサに結像し、信号処理部１８にて欠陥を検出する。ここで、光変調ユニットは複数の光学部品を選択的に用いて対象欠陥に最適化する。 （もっと読む）

【課題】
ドライエッチング装置において、真空容器壁のスパッタで生じる被加工試料への汚染や異物発生の抑制および真空容器壁交換に伴うランニングコスト増加や稼働率低下を抑制することが可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】
平行平板構造のドライエッチング装置において、被加工試料４と対向する位置に配置され、放電生成用高周波電源２が接続される放電生成用電極１に、放電生成用高周波電源２の周波数に対して高インピーダンスで、かつ直流的に低抵抗でアースと接続される低周波通過フィルタを３接続するか、または直流的に低抵抗でアースと接続される低周波通過フィルタ３とそれに直列に挿入された直流電源を接続する構成とする。 （もっと読む）

【課題】振動の発生が少なく、描画精度の良好な電子ビーム描画の試料台移動制御方法を提供すること。
【解決手段】試料の描画領域は、試料台の移動方向に縦列するサブ描画領域区画と、サブ描画領域区画内を試料台の移動方向に対し直交する方向に縦列するように区分するサブサブ描画領域区分に仕切られ、かつ電子ビームの照射走査を繰り返す描画が前記サブサブ描画領域区分の単位で行われ、サブ描画領域区画に占めるサブサブ描画領域区分の大きさに応じて、位置の移動制御に用いるサブサブ描画領域区分毎の目標位置値が求められ、サブサブ描画領域区分毎の描画がサブ描画領域区画の一端から他端に向かって順番に行われる際に、描画の順番が進む度毎に目標位置値が加えられる各々の移動目標位置値に応じて試料台の移動制御が行われることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】短時間で容易に高精度の条件設定を行うことのできる荷電粒子線装置を提供すること。
【解決手段】試料から発生する二次電子を含む発生信号を検出して画像を得る荷電粒子線装置において、荷電粒子線が流れる荷電粒子光学系に印加される電流値と電圧値を入力する入力手段と、荷電粒子光学系の形状と位置と物性及び印加される電流ないし電圧の精度とを記憶する記憶手段と、荷電粒子線経路付近の電磁場計算を行う電磁場計算手段と、計算された電磁場中での荷電粒子線の軌道を計算する荷電粒子軌道計算手段と、軌道計算の結果を記憶する記憶手段と、計算結果に基づき前記荷電粒子光学系を制御する制御部とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】前方散乱光と後方散乱光のどちらか一方を他方に比べてより効率よく選ぶこと。
【解決手段】被検査体に対面する対物レンズと、この対物レンズを通じて被検査体に照明光の光束を照射する光源と、光源と対物レンズとの光路に置かれ、かつ照明光の光軸を中心として光透過領域と光不透過領域を点対称に設けた照明側空間フィルタと、対物レンズで集められた被検査体からの反射集光を受光するイメージセンサーと、対物レンズと前記イメージセンサーとの光路に置かれ、かつ回折・散乱光を含む反射光から前方散乱光または後方散乱光を選ぶ受光側空間フィルタを備え、受光側空間フィルタは、反射光の光軸を中心として光透過領域と光不透過領域を点対称に設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 処理室内のデポ膜の除去と壁面材料の腐食を抑えることできる、プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 処理室内１０１に処理ガスを導入してプラズマ１１０を発生させ、被処理物を真空処理するプラズマ処理装置において、プラズマ発生手段１０６〜１０８と、処理室内壁１０２を構成する材料を含む反応物の存在を検出するモニタ手段１１２と、処理室内壁１０２を構成する材料を含む反応物の存在が所定量以上となったことを報知するアラーム手段を具備し、任意のエッチング処理毎にプラズマクリーニングを行い、その後Ｏ_２ガスあるいはＦガスを用いて壁面安定化処理を実行する。 （もっと読む）