株式会社日立ハイテクノロジーズにより出願された特許
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荷電粒子線装置
【課題】短時間で容易に高精度の条件設定を行うことのできる荷電粒子線装置を提供すること。
【解決手段】試料から発生する二次電子を含む発生信号を検出して画像を得る荷電粒子線装置において、荷電粒子線が流れる荷電粒子光学系に印加される電流値と電圧値を入力する入力手段と、荷電粒子光学系の形状と位置と物性及び印加される電流ないし電圧の精度とを記憶する記憶手段と、荷電粒子線経路付近の電磁場計算を行う電磁場計算手段と、計算された電磁場中での荷電粒子線の軌道を計算する荷電粒子軌道計算手段と、軌道計算の結果を記憶する記憶手段と、計算結果に基づき前記荷電粒子光学系を制御する制御部とを具備することを特徴とする。
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測定反応過程の異常の有無判定方法,該方法を実行可能な自動分析装置及び該方法のプログラムを記憶した記憶媒体
【課題】
本発明は反応過程における測定値を利用して、検査が適切に行われたか否かを判定する手段を提供し、1日に数千から数万テストが計測される中においても異常反応をしめす項目の見落しを防止することを目的とする。
【解決手段】
反応過程における光度計の値を計測し、反応過程データから分析測定結果を検証するものである。また正常な反応過程データに関するデータベース33を備え、測定された時系列の反応過程データ34を予め設定されたデータベース内情との照合することによって、所定の区分毎に或いは装置の進行プロセスに合致した区分毎に逐次、正常データか否かを判定する反応過程評価部35を備えている。さらに反応過程に関するデータベースを構築するために当該自動分析装置(検査項目)で測定したデータと、分析条件が異なり、結果が一定の許容範囲内の(一致している)測定結果を取得する演算部を備える。
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液体クロマトグラフ
【課題】分析開始時のクロマトユニットの動作条件によって生じる分離カラムや反応装置の傷みを低減する。
【解決手段】液体クロマトグラフにおいて、データ処理装置は、第1のポンプ、第2のポンプ、第1の加熱装置のそれぞれを分析開始するための動作状態に制御するためのウォーミングアップ用動作条件データを有し、分析開始時に前記ウォーミングアップ用動作条件データに基づいた制御を行うことを特徴とする。ウォーミングアップ時の分離カラムや反応装置への負荷を最小限にできる。
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荷電粒子線露光方法、荷電粒子線露光装置及びデバイス製造方法
【課題】 所望パターンを露光できるラスタースキャン荷電粒子線描画方法を提供する。【解決手段】 荷電粒子線を走査して基板上の複数のピクセルからなるパターンを露光する荷電粒子線描画方法において、前記パターンのエッジに位置するピクセルの露光時間が他のピクセルの露光時間よりも小さくなるように指令値を生成する生成ステップと、前記指令値を直前のピクセルの指令値に基づいて補正する補正ステップとを有する。 (もっと読む)
荷電粒子線露光装置及び該装置を用いたデバイス製造方法
【課題】 投影レンズの低収差条件と、物面、及び像面における電子線のテレセン性を維持し、且つクーロン効果による電子線のボケ量を低減する。
【解決手段】 荷電粒子線を用い、縮小投影系を介して基板を露光する荷電粒子線露光装置において、前記縮小投影系に含まれている磁界レンズ1−3,1−4には間隔を置いてそれぞれの両補助磁極1−8,1−9を設け、その両補助磁極は磁界レンズ1−3,1−4の磁極中心位置に対して対称に配置され、前記両補助磁極の間隔は、対応する磁界レンズの磁極の間隔より大きく、且つ両補助磁極の内径Ds1は前記磁界レンズの磁極の内径D1より小さい。
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液体吸引装置、及び液体吸引方法
複数の液体を一ポンプに連なる複数吸引路で同時に吸引する際、一の吸引終了が、他の吸引を妨げることがある。
複数の吸引路とポンプの間に、各吸引路とポンプを一体一に接続する多連弁を配置する。そして、吸引路とポンプの連通を、時分割で順次切り替えながら吸引する。ある一定時間において、ポンプと吸引路は他の吸引路から独立している。これにより、他の吸引路における吸引終了の影響を受けずに吸引できる。
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真空機器の製造装置及び製造方法、真空機器、荷電粒子線露光装置、デバイス製造方法
【課題】 真空シールしながら複数の真空部材を高い位置精度で配置する真空機器組立装置を提供する。
【解決手段】 第1部材としてのデバイス101と第2部材としてのベース102との間に真空シール材103を挟み真空シールするとともに、デバイス101とベース102の相対位置を所望の位置に固定する真空機器組立装置であって、真空シールするために真空シール材103を変形させる第1の方向であるZ方向と直交するXY平面内で、デバイス101を固定したまま、Z方向に該デバイス101を移動させる機構を有する。
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エッチング方法
【課題】
反応生成物の付着による加工形状の変動を抑制することのできるエッチング処理技術を提供する。
【解決手段】
シリコン基板上にSiC膜、SiOC膜、SiO2膜、反射防止膜およびフォトレジスト膜を順次積層した試料を、順次処理室内に配置した試料載置台に載置し、処理室内に生成した処理ガスのプラズマを利用して、フォトレジスト層をマスクとしてSiOC膜、SiO2膜および反射防止膜からなる積層膜をエッチングするエッチング方法であって、処理ガスとして反応生成物の堆積性の弱い第1の処理ガスを用いて積層膜をエッチングする工程、処理ガスとして反応生成物の堆積性の強い第2の処理ガスを用いて積層膜をエッチングする工程、および処理ガスとして反応生成物の堆積性の弱い第1の処理ガスを用い、且つ基板バイアス電力を印加することなくエッチングして、前記第2の処理ガスを用いて積層膜をエッチングする工程において発生した反応生成物を除去する工程を備えた。
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自動分析装置
【課題】
複数組の試料分注プローブの夫々でダミー試料を吸引できれば効率良く試料分注して測定することができるが、測定可能な分析項目数が少なくなるという問題が生じる。従来の装置では分析効率の向上を第1としていたため、すべての試料分注プローブで試料分注が実行されるようにプログラムされていた。
【解決手段】
試料の量が、分析に必要な試料の量に比べて少ない場合は、前記複数組の試料分注機構の少なくとも1つでは前記検体容器中の試料の分注を行わないように前記試料分注機構を制御する制御手段と、を備えた自動分析装置。
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偏向器およびその製造方法
【課題】 信頼性の高いブランキングアパーチャアレイを生産性良好に提供する。
【解決手段】 略同一形状の二対の電極に偏向用電圧を印加する配線が各電極に接続されている。配線の接続は、隣り合う電極に同一の配線が接続する。二つの電極へ接続された一つの配線のうち、いずれかの電極に不良が存在する場合に、いずれか一方の配線が補償回路となり、ブランキングアパーチャアレイの歩留まりが向上する。
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