【課題】複数台の搬送ロボットを備えた線形ツールにおいて、スループットを低下させない搬送効率の高い搬送制御を提供する。
【解決手段】真空処理装置の制御部を、処理室、搬送機構部、中間室、保持機構部のそれぞれにおける動作状態、並びに被処理体の有無およびその処理状態を表わす装置状態情報を実時間に更新して保持し、装置状態情報と、被処理体の処理時間とに基づいて、予め処理室の数・配置と被処理体の処理時間との組合せの条件毎に被処理体の搬送を制御する複数の搬送アルゴリズムをシミュレーションして得られた搬送アルゴリズム判定ルールの中から搬送アルゴリズムを選択し、および選択された前記搬送アルゴリズムに基づいて、前記被処理体の搬送先を算出するように構成した。 （もっと読む）

【課題】
一次電子による帯電を抑制し、観察標体から明瞭なエッジコントラストを得て、試料の表面形状を高精度に計測する。
【解決手段】
試料上のイオン液体を含む液状媒体が薄膜状または網膜状である観察標体を用いる。また、この観察標体を用いる電子顕微法において、試料上のイオン液体を含む液状媒体の膜厚を計測する工程と、前記イオン液体を含む液状媒体の膜厚に基づき一次電子の照射条件を制御する工程と、前記一次電子の照射条件で一次電子を照射し前記試料の形態を画像化する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】質量分析計を用いた分析方法および分析装置において、薬物と薬物代謝物とが混在する検体中の薬物成分を精度よく測定する。
【解決手段】薬物と、薬物が薬物代謝酵素により抱合体と抱合して代謝された薬物代謝物と、が混在する検体に入射電圧を印加して質量分析部に導入し、検体における薬物の濃度を分析する分析方法であって、入射電圧を変化させながら、薬物代謝物からの抱合体の解離状態をモニタリングするモニタリング工程Ｓ３０１と、モニタリング工程Ｓ３０１における解離状態に基づいて、入射電圧を選択する選択工程Ｓ３０２と、選択工程Ｓ３０２で選択された入射電圧を検体に印加して、検体における薬物の濃度を測定する濃度測定工程Ｓ３０５と、を含む。 （もっと読む）

【課題】透過照明方式により性能に優れ、かつ、マスクの有効活用が可能となるマスクアラインメント光学システムを提供する。
【解決手段】蒸着材料を基板上に蒸着する真空蒸着チャンバ１中において、基板６とメタルマスク１０２とのアライメントを行うマスクアラインメント光学システムでは、メタルマスクの周囲に形成されて四隅にＬ字状の導光路が形成された固定フレーム１０１と、基板を表面に搭載すると共に、その四隅にＬ字状の導光路が形成されたステージ２０１を備えており、固定フレームの一部に形成された導光路１０３、及び、ステージの一部に形成された導光路内に導かれた光によるアラインメントマークの透過像によって、メタルマスクとのアライメントを行うマスクアライメント光学システム。 （もっと読む）

【課題】そこで、本発明は、基材上にて核酸増幅反応を行うに際して、増幅された核酸断片を立体的に集積させ、単位面積あたりの核酸断片数を高める。
【解決手段】解析対象の核酸領域と核酸アプタマーに対応するアプタマー領域とを含む環状核酸を鋳型とし、当該核酸アプタマーと親和性を有する第１の物質が固定された基材上にてプライマーを起点とした鎖置換型のRCA反応を行い、アプタマー領域に対応する核酸アプタマー及び解析対象の核酸領域を含む一本鎖核酸分子を、当該核酸アプタマーと上記第１の物質との間の親和性により上記基材に固定する。 （もっと読む）

【課題】虚報を多発させることなく，システマティック欠陥を検出する半導体パターン検査装置を提供する。
【解決手段】検査に先立ち，前準備として，少数の実画像101と対応する設計データ102から，特徴量算出部でそれぞれのパターンの特徴を表す特徴量を算出し(106a，106b），これと，欠陥座標が指定された教示データ103とから，正常と欠陥を識別するルールである識別境界を識別境界算出部で算出する(107)。検査時には，検査対象の実画像104と，設計データ105から106a，106bと同様にして特徴量を算出し(108a，108b)，これらに対し，検査前準備にて算出した識別境界107を適用することにより，欠陥判定部で欠陥判定109を行う。 （もっと読む）

【課題】試料中の薬物を測定する際に、様々な種類や治療域の薬物を含む試料に対して試料ごとに最適な条件で前処理を行う分析装置および分析方法を提供する。
【解決手段】測定試料に含まれる薬物を測定する分析装置１００であって、固相抽出カートリッジ１０４内に固相抽出材を注入する抽出材液分注機構１０６と、固相抽出材が注入された固相抽出カートリッジ１０４内に測定試料を注入して固体抽出処理により抽出試料液を生成する前処理手段と、抽出試料液中の薬物を測定する測定手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】
各種のパターンに対応する計測方法については開示されておらず、特に計測対象パターンの両辺が直線乃至は曲線で構成され、両辺が非平行なパターンの計測方法についての開示はない。
【解決手段】
半導体ウェーハ上に形成されたパターンを撮像し、撮像画像に基づいてパターン寸法を計測する方法であって、画像上のパターンの両側のエッジ位置を特定するステップと、パターンの第１のエッジ上にある第１の点と、その反対側のエッジである第２のエッジ上にある第２の点において、該第１の点と該第２の点を結ぶ線分と、該第１の点における該第１エッジの第１の接線と、該第２の点における該第２エッジの第２の接線に基づいて計測を行うステップと、該線分の距離を計測するステップを有することを特徴とする半導体パターン計測方法である。 （もっと読む）

【課題】ウェハエッジ部の幅広い位置変化にも追従することができる光学式検査装置及びエッジ検査装置を提供する。
【解決手段】ウェハ１００の表面の欠陥を検査する表面検査装置３００と、この表面検査装置３００に対するウェハ１００の搬送路に設けたウェハステージ２１０と、このウェハステージ２１０上のウェハ１００のエッジ部を検査するエッジ検査部５３０と、このエッジ検査部５３０を当該エッジ検査部５３０の光軸に沿って移動させる移動装置６５０とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとの隙間を高精度に制御することのできる有機ＥＬデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】真空処理室内に設けられたシャドウマスクと、基板を載置する基板ホルダーと、基板とシャドウマスクとの間を、接近させ又は離間させる基板密着手段と、基板ホルダーの四隅に設けられた距離計測機構とを備え、距離計測機構は、基板ホルダーを貫通するように設けられた距離計測用空間と、基板ホルダーの表面上に設けられた透明ガラス板と、距離計測用空間に配置された距離計測部とを備え、距離計測部は、光を発射し反射光を受光して距離を計測する距離計と、距離計を真空処理室内の雰囲気から隔離する距離計筐体と、距離計筐体の一部に設けられた透明ガラス窓とを備え、距離計が、透明ガラス窓を介して透明ガラス板とシャドウマスクとの間の距離を計測するよう、有機ＥＬデバイス製造装置を構成する。 （もっと読む）