説明

ジェイ・エム・フーバー・コーポレーションにより出願された特許

1 - 7 / 7



Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189

【解決手段】(a)酸性化剤およびケイ酸アルカリ金属を液状媒質の流れを含むループ反応領域に連続的に供給し、ここで前記酸性化剤およびケイ酸アルカリ金属の少なくとも一部が反応してシリカ生成物を前記ループ反応領域内の液状媒質において形成し、(b)前記液状媒質をループ反応領域を経て連続的に再循環し、(c)前記シリカ生成物を含む液状媒質の一部を前記ループ反応領域から連続的に取り出すことを備えるシリカ生成物を調製する連続方法を開示する。シリカ生成物および該シリカ生成物を含む歯磨剤組成物も開示する。連続ループ反応器も開示する。 (もっと読む)


【解決手段】ここに開示するシリカ材料は、その表面の少なくとも一部に金属付加物を含む。シリカ材料は揮発性の硫黄化合物(VSC)を結合し、これにより口臭を低減することが可能である。また、シリカ材料を含む歯磨剤組成物および口臭ケア組成物、ならびにシリカ材料の製造方法および使用方法も開示する。 (もっと読む)


シリカまたはケイ酸塩材料を一般的な洗口方法によって歯の表面まで送達することができる新規洗口液(すなわち、マウスウォッシュ)組成物を提供する。こうした組成物は、同時に適切な洗口特性をもたらしながら、保存中の沈殿を防ぐため、シリカまたはケイ酸塩材料(微粒子形態)の適切な懸濁を示さなければならない。こうしたシリカまたはケイ酸塩材料は、こうした材料が洗口によって運搬しやすく、対象の歯との接触に際して沈着について適切な親和性を示す限り、それら自体いくらでも治療上または美観上の利点を示すことができる。こうしたシリカまたはケイ酸塩材料は、1つの実施形態において、効果的な静電誘引および対象の歯面上への最終的な蓄積を可能にするため、特定のイオン電荷レベルおよび十分に小さい粒径を示さなければならない。本発明は、口臭消臭および/または洗浄、ならびにシリカもしくはケイ酸塩材料の歯への蓄積のためのこうしたマウスウォッシュの使用方法も含む。 (もっと読む)


歯磨剤組成物において研磨剤または増粘剤として利用し、同時に歯の象牙質における象牙質細管の遮断により象牙質の知覚過敏を軽減する沈積シリカ材料を提供するものである。このような沈積シリカ材料は、十分に小さな粒径を有し、かつ、例えば歯磨剤組成物から歯に塗布するとき、効果的な静電的吸引力および象牙質細管内部での最終的な堆積をもたらすよう所定の金属による処理を行って沈積シリカ材料のゼータ電位特性を調節することで、特定のイオン電荷レベルになる。 (もっと読む)


歯磨剤組成物で使用するためのゲル/沈降シリカ複合材料は、約1.432〜約1.455の屈折率範囲内で少なくとも25%の最大光透過;少なくとも50%の、けい砂と比較したときの相対的香料利用可能性;約40未満のCTABを有し;かつ、20重量%の量で歯磨剤組成物の中に組み込まれるときに、当該歯磨剤は、多くとも130のRDA(相対的象牙質磨耗)値;0.7〜1.3のPCR(ペリクル清浄比):RDA比;および約50%未満の24時間後のヘイズ値を有する。 (もっと読む)


【課題】塩化セチルピリジニウムを含んでいる歯磨き剤に用いる沈降シリカ製品を提供すること。
【解決手段】沈降シリカは、水銀圧入によって測定されるように、6m2/gを下回る500オングストロームより大きい直径を有する全ての細孔のための累積表面積を有する多孔性シリカ粒子を含み、そして約85%を超えるパーセンテージ塩化セチルピリジニウム(%CPC)親和性を有する。沈降シリカ製品は特に塩化セチルピリジニウムを含んでいる歯磨き剤に用いるのに適している。そして、有意義なレベルの低表面積シリカ製品に付着せず、このように抗菌作用に利用できるままである。シリカ製品を作製するためのプロセスは、CPCとのこの種の親和性を強化するために異なるプロセスステップの間に、硫酸ナトリウム粉の導入が含まれる。 (もっと読む)


1 - 7 / 7