【課題】より少ない努力で作製することが可能なマイクロリソグラフ投影露光装置の照明系用光インテグレータを提供する。
【解決手段】
光学軸と、第１の平面内に配置され、光学軸（ＯＡ）に対して垂直なＸ方向に第１の屈折力を有し、Ｘ方向における幅が２ｍｍ未満である第１のマイクロレンズ（７０Ｘ）のアレイを備えるマイクロリソグラフ投影露光装置（１０）の照明系のための光インテグレータ。このインテグレータでは、さらに同様の記述があてはまる第２のマイクロレンズ（７２Ｘ）のアレイが設けられる。第１と第２のマイクロレンズ（７０Ｘ、７２Ｘ）は交差面に円弧形状に湾曲した屈折面を備えており、従ってより容易に製造することが可能である。本発明によれば、全屈折率が、マイクロレンズのより単純な形状にもかかわらず、後続視野平面において極めてよく近似した放射照度分布が得られるような最適化された方法で第１と第２の屈折力間で分割される。 （もっと読む）

【課題】投影露光システムの単純な設計により、投影光学系の少なくとも１つの屈折サブユニットの構成要素を効率的に利用することが可能になるように、投影露光システムのための投影光学系を改良すること。
【解決手段】少なくとも１つの曲面ミラーＭ１〜Ｍ６を含む投影光学系６は、物体視野を像平面８内の像視野にマップする。投影光学系６は、物体平面４と像平面８との間の結像ビーム・パス内に少なくとも１つの屈折サブユニット２７を有する。投影光学系６の少なくとも１つのミラーＭ１〜Ｍ６の反射面が回転対称関数によって説明不可能な静的自由曲面として構成されている。 （もっと読む）

【課題】新規なマイクロリソグラフィ投影露光装置を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのリターデイション素子400を有する複屈折リターデイション装置を持っているマイクロリソグラフィ投影露光装置。リターデイション素子が、第１の光学結晶軸を持つ光学的に正の一軸性の結晶材料でできた第１のサブエレメント420と、第２の光学結晶軸を持ち、かつ、前記第１のサブエレメントの前又は後に、前記リターデイション素子の素子軸線に沿って配置されている光学的に負の一軸性の結晶材料でできた第２のサブエレメント430とを含む。双方の光学結晶軸がそれぞれ、光学系軸線に垂直な平面内に配置され、かつ、互いに０°±５°の角度で、又は、互いに９０°±５°の角度で配置されている。 （もっと読む）

【課題】マイクロリソグラフィ用の投影露光装置が複数の鏡（Ｍ１からＭ６）とともに結像光学系（６）を備える。これらの鏡により、像平面（８）内の像視野に物体平面（４）内の物体視野を結像させる。
【解決手段】これらの鏡のうちの１つ（Ｍ６）は、結像光（３）が通過するスルーホール（２３）を備える。少なくとも１つの鏡（Ｍ１からＭ６）の反射面は、回転対称関数では記述できない自由曲面の形態である。投影露光装置は、照明光と結像光（３）用の光源、及び照明光（３）を結像光学系（６）の物体視野に照明光（３）を当てるためのレンズ系を備える。レチクル及びウェハを備えることにより、またレチクル上の構造をウェハの感光層上に投影することにより、又はウェハ上に微細構造を形成することで、投影露光装置により微細構造構成要素を形成する。物体平面及び像平面が入れ替わる対応する結像光学系を顕微鏡レンズとして使用することができる。 （もっと読む）

【課題】非テレセントリック系入射瞳と軸外れ照明されたフィールドを有する投影レンズの場合に、照明系によってもたらされる主光線分布を改善すること。
【解決手段】視野絞り（３６）と、
前記視野絞り（３６）を像平面（３４）の上に結像し、かつ、中間像平面（１００）を有する視野絞りレンズ（３７”）と、
から構成されることを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明系。 （もっと読む）

【課題】小さな技術的努力でいくつかの照明設定間で交換することのできる照明光学を提供する。
【解決手段】ＥＵＶマイクロリソグラフィ用の投影露光装置において、照明光学は、二次光源を生成するように複数の視野ファセットを有する視野ファセット・ミラーと前記視野ファセット・ミラーによって生成された前記二次光源の場所に配置された複数の瞳ファセット・ミラーを備え、前記視野ファセット・ミラーは、少なくとも１つの視野ファセット１１を含んだ視野ファセット群をそれ自身が備えているサブユニットに分割されている。前記視野ファセット・ミラーのサブユニットの少なくとも１つを少なくとも１つの交換可能サブユニットと交換する交換デバイスが提供される。 （もっと読む）

【課題】 特に価値の高いＲＥＭＡ対物レンズを提供すること。
【解決手段】 有限の距離に位置する物体平面（１）を十字線平面（３３）に結像するＲＥＭＡ対物レンズ（１２３）は、レチクルに近い対物レンズ半体の中に位置するレンズ群（３００）を有し、そのレンズ群における主ビームの高さはエッジビームの高さより大きく、面垂線に対する空気中での主ビームの入射角の正弦（｜ｓｉｎ（ｉHaupt）｜） の最大値が０．３５、好ましくは０．５より大きい発散面（２８）が配置されている。 （もっと読む）

【課題】特にリソグラフィの応用例用の投影露光装置のための投影対物レンズまたは照射システムのための紫外線に対する光学系において使用されるレンズのためのレンズを製造する方法を提供する。
【解決手段】２５０ｎｍ未満、特に２００ｎｍ未満の動作波長を持つ光学系用の、Ｈ₂含有量を増加させた合成石英ガラスのレンズを製造する方法。外周境界表面と、向かい合う側に位置する２つの基部表面を備えた合成石英ガラスの前駆体製品に、２×１０¹⁵分子／ｃｍ³未満の第１のＨ₂含有量を供給する。前記基部表面の少なくとも１つの少なくとも１つの部分表面は曲面を有する。第１のＨ₂含有量に対して増加された第２のＨ₂含有量、１０¹⁶分子／ｃｍ³を超える第２のＨ₂含有量を持つ合成石英ガラスの前駆体製品を作成するために、Ｈ₂含有雰囲気中で前駆体製品を処理する。第２のＨ₂含有量を持つ前駆体製品の少なくとも１つの光学特性を測定する。 （もっと読む）

【課題】光学要素を取り付けるのに十分な設計空間を、特に対物レンズの前方部分に確保する投影対物レンズを提供する。
【解決手段】物体視野が形成される物体平面（２０、１００、３００、２１０３）と、入射瞳（ＶＥ）と、前記物体平面において前記入射瞳（ＶＥ）を鏡像化することによって得られる、鏡像化入射瞳平面（１０３）内の鏡像化入射瞳（ＲＥ）と、像平面（２１、１０２、３０２、２１０２）と、光軸（ＨＡ）と、少なくとも第１の鏡（Ｓ１）と第２の鏡（Ｓ２）とを備える。この投影対物レンズの入射瞳のバック・フォーカスが負であり、物体視野の中心点から発生して、物体平面から像平面にかけて対物レンズを横断する主光線（ＣＲ、ＣＲＰ）が、少なくとも１つの交差点（ＣＲＯＳＳ）において光軸（ＨＡ）と交差し、すべての交差点（ＣＲＯＳＳ、ＣＲＯＳＳ１、ＣＲＯＳＳ２）の幾何学的位置が、像平面（２１、１０２、３０２、２１０２）と鏡像化入射瞳平面（１０３）との間にある。 （もっと読む）

本発明はマイクロリソグラフィ用の投影露光システムに係り、該システムが投影光を生成する照明装置と、複数のレンズ等の光学素子（Ｌ５）を備え、投射対物レンズの物体平面に配置することのできるレチクルを、投影対物レンズの像平面に配置することが出来て担体（３０）に設けられた感光面（２６）上に結像させることのできる投射対物レンズとを備える。本発明システムには、投影対物レンズの像側最終光学素子（Ｌ５）と感光面（２６）との間にあって、浸漬液体（３４）を浸漬チャンバ（５０）内に導入する浸漬装置も備わっている。前記浸漬装置は、浸漬液体（３４）内のガス気泡（４８）の出現を防止し、像品質に影響を与えることができ、かつ／又は実在するガス気泡（４８）を除去できる手段（４４；６６）を備える。前記手段は、例えば超音波源（６６）又は脱気装置（４４）とすることができる。
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