本発明は第１の光学結像素子の結像動作を検査する方法に関し、その方法では、被写体は第２の光学結像素子によって像平面で結像され、像平面における光が空間分解的に検出され、２つの光学素子は少なくとも１つの撮像特性において異なる。輝度の値、および該光の少なくとも１つの第２の特性の値が決定され、値は像点において格納され、エミュレーションステップで処理される。第２の特性の影響を考慮して、第１の光学結像素子の該結像をエミュレートするエミュレーション画像が生成される。像点と関連する第２の特性の値が個々の画像と関連するサブドメインに収まる場合、第２の特性の値の範囲をサブドメインに分割し、画像を各サブドメインと関連付け、対応する輝度値を各画像の像点と関連付けることによって、一連の画像が生成される。そうでなければ、所定の輝度値が像点と関連付けられる。一連の画像はエミュレーションステップにおいて一連の中間画像に変換される。第２の特性の一定値は中間画像ごとにエミュレーションで使用され、値は該それぞれのサブドメインから生じ、他の中間画像のための第２の特性の値とは異なる。中間画像は続いて結合され、エミュレーション画像が形成される。
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本発明は、投影露光装置の焦点面（６）中の強度分布を決定する方法であって、大口径結像システム（７、８）がエミュレートされ、試料からの光が、エミュレーション結像システムによって局所分解検出器上に表される方法に関する。前記方法を実行する装置およびエミュレートされる装置も開示される。前記発明は、システムのアポダイゼーションを考慮に入れるので再現の質を改善することが可能になる。本発明の方法は、出力瞳中の積分された振幅分布を決定する工程と、前記積分された振幅分布と予め定められたアポダイゼーション補正を合成する工程と、変更された振幅分布によって補正されたアポダイゼーション像を計算する工程とで構成される。
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本発明は、特にリソグラフィによる位相マスクの干渉測定のための装置および同方法に関する。位相マスク（４）の干渉測定ための本発明の装置においては、コヒーレント・マスク（１）を通過する放射線が回折格子（３）によって干渉させられ、第１の結像光学部品（２）の瞳面内または近傍に、ｘ−ｙ方向に正確に位置決め可能な位相マスク（４）が配置され、この位相マスクによって、ｘ−ｙ方向に位相シフトされたインターフェログラムがコヒーレンス・マスク（１）または回折格子（３）をそれぞれ並進的に変位させることにより生成され、第２の結像光学部品（５）を用いて空間分解検出器（６）上に結像され、位相マスクの位相関数および透過関数が評価ユニットによって決定される。提案された解決法は、特にリソグラフィ用位相マスクの干渉測定のために提供されるが、この解決法は一般に、当然ながら生物学的構造などの平坦な位相物体に応用することができ、例えば、この場合は干渉顕微鏡に対する確立ポイントが提供される。
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【課題】本発明は光学的結像系の結像品質を決定する方法、並びに特に振幅分布が知られている照明光の振幅および位相前面分布への試料の影響を求めるための方法
【解決手段】試料２．１を検出装置上へ結像させることが可能なように構築群を互いに調整すること、いくつかの試料画像を最良焦点面に近いさまざまな設定平面で撮像し、特にノイズの低減化、検出装置の局所的感度差補正のための、および光強度の重心をそれぞれ結像の１箇所へセンタリングするための、画像加工による結像品質の改良すること、結像系４に起因する波面の歪曲を特徴付ける指数の評価および算定の目的で行う、ドット分解画像情報、光学的結像系に関する設定値およびシステム値ならびに試料情報の計算面で関連づけること、および結像品質に相当するものとしての指数のアウトプットおよび結像系への振り分け。
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【課題】 本発明は回折光学素子が照明光路にも結像光路にも使用される結像系に関するものである。
【解決手段】 この回折素子が反射モードで動作するか、あるいは透過モードで動作するかはシステム設計の仕様による。結像系用の本発明による回折ビームスプリッタの光路に存在する結像光学素子３の少なくとも１つが照明光路にも結像光路にも使用される。この素子は回折光学素子（ＤＯＥ）３であり、異なる回折配置の適用によって対象物空間における結像光路と照明光路との空間的分離を必要としない。回折光学素子を使用することで反射光学素子の数を減らすことができ、その結果システムのコストが下がり、また低電力ＥＵＶ源を使用することで光学部品の寿命を延ばすことができる。
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【課題】マイクロリトグラフィー用マスクなどの対象物の検査装置
【解決手段】対象物から放出される照明光をより長波長の光線へ変換するためのコンバータ、および画像記録のためのセンサが装備されていて、そのセンサが真空チェンバの外側にあって、真空チェンバからコンバータのセンサに到るまでの光学インタフェースとして配置されている、または結像対物レンズＯの少なくとも一部が窓として真空チェンバ内に配置されている、真空チェンバ内に存在する、特にマイクロリトグラフィー用マスクなど対象物ＯＦの検査装置。 （もっと読む）

本発明は、関連のある脆弱ポイントを早期に検出してそのポイントを修正するために、マスクの設計及び製造に使用可能なマスク検査方法に関する。マスク検査のための方法によれば、ホットスポットのリストを決定すべく、空間像シミュレーション、好ましくは全面空間像シミュレーションがマスクレイアウトに変換されるマスク設計図に基づいて行われる。マスク／テストマスクはＡＩＭＳツールを用いて解析されて、実空間像が生成され、その実空間像がシミュレートされた空間像と比較される。空間像間の決定された誤差を用いてマスク設計が改善される。本発明の装置によりマスク設計及びマスク製造のためのマスク検査を実行するための方法を行うことができる。ＡＩＭＳツールをマスク製造プロセスに直接使用することにより、エラー率及びコストを低減しつつ、マスク製造が迅速化される。
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【課題】本解決法は、光学機器の光路内に絞りを形成するための、個別制御可能な素子から成る２次元アレイの使用に関する。形態、位置および／または光学特性の変更可能な、光学機器用の絞り装置および／またはフィルタ装置
【解決手段】結像光路内および／または照明光路内に、絞りおよび／またはフィルタを形成するための、個別制御可能な素子から成る少なくとも１つの２次元アレイ５が配置されていて、それが個別素子制御のための制御ユニットと連結しており、電子制御によって、絞りおよび／またはフィルタの幾何学構造、光学特性および／または位置を極めて迅速に変更することができる。これらの変更は、測定および調整過程の間にオンラインで光学的微調整として行うこともできる。 （もっと読む）

【課題】 少なくとも２つの結像ステップから成る空間像測定システム（ＡＩＭＳ）による、特にマスクなど、マイクロリトグラフィーにおける対象物の分析方法
【解決手段】検出画像について第２またはそれ以降の結像ステップの伝達性が修正フィルタにより修正され、対象物の照明が落射光および／または透過光で行われる、しかもその場合、修正出力量がフォトリトグラフィー用のステッパまたはスキャナの結像に一致するように、再コンボリューションによって修正が行われ、測定または計算による修正値が修正に利用される方法である。 （もっと読む）