説明

有限会社三和知財研究所により出願された特許

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【課題】鋼板の溶融亜鉛めっきにおいて発生するドロスを除去するドロス除去装置を提供する。
【解決手段】ドロス除去装置は亜年めっき槽(以下めっき槽という)に連設して設けられ、追加されるめっき金属の溶解機能と、ドロス除去機能を有し、ドロス槽は、フィルタで2分割され、その第1の区画はドロス槽内に設けられたフィルタで清浄化された溶融亜鉛と追加されためっき金属を溶解する部分と、第2の区画は前記めっき槽から樋を通じて溶融亜鉛と軽ドロスを受ける部分とからなり、めっき槽とドロス槽との間には、第1の区画から清浄な溶融亜鉛をめっき槽に供給する電磁バルブを備えた第1の連通孔を備え、第2の区画は、前記めっき槽の溶融亜鉛表面に浮上している軽ドロスと溶融亜鉛浴中に浮遊したドロスを含む溶融亜鉛をドロス槽に移動させる樋を備え、めっき槽内に沈殿した重ドロスと浮上している軽ドロスをめっき槽から除去する。 (もっと読む)


【課題】従来のインゴット(CZ法等)によらず、シリコンウエハを含む半導体ウエハを直接製造する方法及び装置を提供する。
【解決手段】不活性ガスを充填したチャンバ1内において、長手方向に延長した保持炉3に半導体の溶融体5を保持し、前記保持炉3の上方からウエハ基板となる金属テープ2を所定の速度で供給し、下降させて供給し、前記シリコン溶融体5上面に接触させ、前記テープ2の少なくとも1面に前記半導体を凝固付着させ、該テープ2を上方に引上げ、基板で補強されたウエハを製造する。 (もっと読む)


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