【課題】測定光による検査対象物の損傷等を抑制しながら高い精度で異状検査を行う。
【解決手段】異状検査装置１では、ベルトコンベア２が動くことにより、製造ラインに沿った載置面２ｂ上に載置された検査対象物３が製造ラインに沿って輸送される。検査対象物３が進行方向２ａに進むと同時に、検出ユニット２０の視野領域Ｌ１上に載置された検査対象物３に対してＳＣ（スーパーコンティニューム）光源１１から出射された近赤外光Ｌ１を照射部１２から照射し、検査対象物３からの拡散反射光Ｌ２を分光器２２で分光し受光部２３において検出し、分析部３０において分析を行うことにより、検査対象物３の異状検査が行われる。 （もっと読む）

【課題】シラフィンを用いたバイオシリカの新規製造法等を提供すること。
【解決手段】本発明のバイオシリカ製造法は、用いるケイ酸原を選択すること並びに／又はシラフィン及びケイ酸原を含有する反応液のｐＨを変えてｐＨ勾配を形成することにより、得られる形状を制御することを特徴とするバイオシリカの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】基板表面が分子レベルで平坦化された単結晶ＳｉＣ基板を提供する。
【解決手段】炭素ゲッター効果を有する嵌合容器に単結晶４Ｈ−ＳｉＣ又は単結晶６Ｈ−ＳｉＣからなる単結晶ＳｉＣ基板５を収容し、前記嵌合容器の内部をシリコンの飽和蒸気圧下かつ高温真空下とし、更に、前記嵌合容器の内部圧力が外部圧力よりも高くなる状態を維持しながら１５００℃以上２２００℃以下で加熱制御する。これによって、当該単結晶ＳｉＣ基板５の表面が、単結晶ＳｉＣ基板を構成するＳｉＣ分子の積層方向の１周期分であるフルユニットの高さ又は半周期分であるハーフユニットの高さからなるステップで終端し、分子レベルで平坦化される。前記方法で製造した単結晶ＳｉＣ基板と炭素供給フィード基板とを対向配置し、その間にシリコンの極薄融液層を介在させつつ加熱することで、準安定溶媒エピタキシー法によって単結晶４Ｈ−ＳｉＣを液相エピタキシャル成長させる。 （もっと読む）

【課題】成形体の使用後に微生物の働きによって水と二酸化炭素に分解される生分解性ポリエステルの中でも特に結晶化の遅いＰ３ＨＡの欠点である結晶化の遅さを改善し、成形加工性、加工速度を向上させること。
【解決手段】微生物により生産される、式（１）：［−ＣＨＲ−ＣＨ₂−ＣＯ−Ｏ−］（式中、ＲはＣ_nＨ_2n+1で表されるアルキル基で、ｎは１〜１５の整数である。）で示される繰り返し単位からなる脂肪族ポリエステル系重合体（ポリ（３−ヒドロキシアルカノエート））を含む生分解性樹脂組成物を加熱溶融混練して成形体に成形する際に、加熱溶融混練した後の成形機出口での残存結晶量を近赤外分光法によるスペクトルにより確認し、前記成形体の近赤外分光法による結晶化ピークが成形直後から２００秒以内に観察されるように前記成形機出口での残存結晶量を調整する生分解性樹脂成形体の製造法により上記課題が解決される。 （もっと読む）

【課題】電子ビームによる改質領域を縮小して微細なマスクを精密に形成可能にするとともに、当該マスクを利用して精密な三次元微細構造を作製できる三次元微細加工方法を提供する。
【解決手段】ＧａＡｓ基板１の表面に、Ａｓ薄膜２と、Ｇａ₂Ｏ₃薄膜４と、Ａｓ薄膜５と、で構成される３層無機レジスト酸化膜１０を形成する。選択図の（ｆ）から（ｇ）に示す工程では、真空中で３層無機レジスト酸化膜１０の表面に照射した電子ビームによって、Ｇａ₂Ｏ₃薄膜４とＧａＡｓ基板１の表面の一部が密着し、熱耐性を有する改質マスク部１７が形成される。（ｈ）に示す工程では、Ａｓ薄膜２が昇華され、改質マスク部１７以外の部分のＧａ₂Ｏ₃薄膜４が脱離してＧａＡｓ基板１の表面が露出する。（ｉ）に示す工程では、エッチング処理を行って、ＧａＡｓ基板１の露出部分からＧａを優先的に剥離させることで窪み等が形成された三次元微細構造を作製する。 （もっと読む）

【課題】リンク故障時においてもサーバへのアクセスを確保した上で、さらにサーバ集合までの距離を抑えるようなサーバ配置を決定する。
【解決手段】トポロジ情報・設計パラメタ入力部１０１は、ネットワークのトポロジとサーバ数の上限Ｓと整数ｋ，Ｂ，ｒを入力して記憶装置に格納し、サーバ配置箇所選択部１０２は、全てのノードに対して、辺独立な経路でｋ個以上のサーバに到達でき、かつ各ノードからｒ個の最近接サーバまでのホップ距離の総和がＢ以下となるように、Ｓ個以下のサーバを、各ノードからｒ個の最近接サーバまでのホップ距離の総和が最小となるよう、ネットワーク上のノード配置を特定し、サーバ配置箇所出力部１０３は、サーバ配置箇所選択部１０２が特定したノード配置情報を出力する。 （もっと読む）

【課題】ネットワークにおける単一リンク障害時の最大経路長増加率を抑制する最適なリンク増設箇所の選択を行うことを可能にする。
【解決手段】入力装置を介して入力されるネットワークのトポロジ情報Ｇと経路長増加率の上限値Ｋを記憶装置に格納する入力部１０１と、単一リンク障害による経路長の増加率を全て上限値以下にするために増設するリンクの数を最小とするリンクの増設箇所を、記憶装置に記憶したネットワークのトポロジ情報Ｇと経路長増加率の上限値Ｋを用いた集合被覆問題に対する近似アルゴリズムに従った処理を実行して選択するリンク増設箇所選択部１０２と、リンク増設箇所選択部１０２が選択したリンク増設箇所を出力装置に出力する出力部とを有し、最小限のリンク増設でネットワークにおける所望の連結度での対障害性と経路長増加率を満たすことを可能とし、ネットワークの高信頼化および高品質化を図る。 （もっと読む）

【課題】刺激に対するイメージスケールを容易に作成する。
【解決手段】イメージスケール作成装置１は、複数のコード進行における各コード進行間のアンケートにより得られた印象情報及び該印象情報から得られた代表としての所要数の代表コード進行を受け付けて取り込むデータ取得部１０１と、代表コード進行に対して得られた複数の形容詞に対するアンケート評価結果を受け付けて取り込み、かつ因子得点算出部１０３で所要数の因子における因子得点に変換し、さらに該所要数の因子に基づくイメージスケールの空間上の座標値として算出する第１マッピング処理部１０４と、残りのコード進行の各々について各代表コード進行との印象情報と、イメージスケール上の各代表コード進行の座標値とから、残りのコード進行のそれぞれについてイメージスケールの空間上の座標値を算出する第２マッピング処理部１０５とを備えた。 （もっと読む）

【課題】情報提供方法及び情報提供システムにおいて、マーカを付与された対象物の美感を損ねることなく、移動可能な対象物自体にマーカを付与し、しかもマーカを正確に検出する。
【解決手段】不可視マーカ７は、再帰性反射特性を有する透明な物質で構成される。カメラ３は、赤外光を照射するための赤外線ＬＥＤ３１と、赤外線領域及び可視光領域の両方の周波数領域の光を撮像可能なＣＭＯＳ３３と、赤外線ＬＥＤ３１を用いて対象物６に可視光下で赤外光を照射した状態で、可視光と赤外光の下での画像（以下、可視赤外画像という）をＣＭＯＳ３３により撮像する処理と、赤外光を照射しないで、可視光のみの下における画像（以下、可視画像という）を撮像する処理とを実行するように制御するＦＰＧＡ３４とを有する。ウェアラブルコンピュータ５は、可視赤外画像と可視画像との差分画像を生成して、この差分画像に含まれる不可視マーカ７を検出する。 （もっと読む）

【課題】人間の脳波を検知し、知覚・運動系の精神作業負荷と知覚・中枢系の精神作業負荷とを区別して推定できる精神作業負荷検出装置を提供する。
【解決手段】運転手３９の脳波を検知する脳波検知部４２と、脳波を解析して眼球停留関連電位を計測し、ラムダ反応を検出する眼球停留関連電位計測部４３と、スピーカ４５からの音に応じて事象関連電位を計測し、聴覚Ｐ３００を検出する事象関連電位計測部４４と、ラムダ反応が低減したか否かを判定するラムダ反応比較部４９と、聴覚Ｐ３００が低減したか否かを判定する聴覚Ｐ３００比較部４８と、ラムダ反応及び聴覚Ｐ３００が低減した場合、知覚・運動系及び知覚・中枢系の精神作業負荷が増加したと判定し、聴覚Ｐ３００が低減したが、ラムダ反応が低減していない場合、知覚・中枢系の精神作業負荷が増加したと判定する精神作業負荷判定部６０とを含む。 （もっと読む）