説明

モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッドにより出願された特許

31 - 40 / 94


インプリント・リソグラフィ・プロセスの分離プロセスにおける頑強層分離を改善するためのシステムおよび方法について述べる。この方法は、インプリントする基板とテンプレート間の歪みを一致させる段階、分離中にテンプレートおよび/または基板に印加される力を変更または修正する段階、または分離プロセスの動特性を変更または修正する段階を含む。
(もっと読む)


基板、および/またはテンプレートの制御された変形を使って基板にインプリントするための装置、方法、および工程。基板、および/またはテンプレートは、インプリント・リソグラフィ工程の間、シングルウェーブ形状、またはダブルウェーブ形状で位置させることができる。
(もっと読む)


インプリント・リソグラフィプロセスにおいてインプリント・リソグラフィ・テンプレートとパターン層を分離することにより、テンプレートのフィーチャおよび/またはパターン層のフィーチャに対する応力が生じることがある。そのような応力は、空領域内のダミー・フィーチャを含むテンプレート上の空領域を最小にしおよび/またはテンプレート上にフィーチャを選択的に位置決めすることによって減少されてもよい。
(もっと読む)


コーティング層が流体流路及び外面に施された流体分注システムが説明される。コーティング層は、流体分注システムの作動流体に対して化学的に耐性であり、流体分注システムからの複数のイオンの浸出を防止する。
(もっと読む)


インプリント・リソグラフィ・システムにおいて硬化させためのエネルギー源および方法を記載する。エネルギー源は、インプリント・リソグラフィ・システムの撮像ユニット監視素子の観察範囲の外に配設された1つまたは複数のエネルギー素子を含むことができる。各エネルギー源は、基板上の重合可能物質を固化させるために、経路に沿ってエネルギーを与えるように構成される。
(もっと読む)


インプリント・リソグラフィ・システムが、テンプレートと基板との間に配置された材料を固化するためのエネルギー源を設けることができる。さらに、エネルギー源及び/又は付加的なエネルギー源を用いて、テンプレート及び/又は基板から汚染物質をクリーニングすることができる。
(もっと読む)


ナノリソグラフィックインプリント・時に、粒子が基板および/またはテンプレート上に存在する場合がある。粒子は、上記のような局所的な除去技術および/またはインプリント・技術を使って削減および/または除去が可能である。
(もっと読む)


少なくとも1つのポートを持つ支持層、およびその支持層に結合されるパターン化表面層を有するナノ−インプリント・リソグラフィ・テンプレート・システム。支持層へのパターン化表面層の結合は、空洞を形成する。空洞内の圧力は、支持層のポートを通じて制御される。
(もっと読む)


膜シートの上に重合可能材料の小滴をパターン化することができる。膜シートの上に重合可能材料の小滴を分与することができる。膜シート上の重合可能材料の小滴の局部トラッピングが最小化され、かつ、小滴が合体して連続層が形成されるよう、インプリント・リソグラフィ・テンプレートに所定の力を印加することができる。重合可能材料を凝固させて、残留層および少なくとも1つのフィーチャを有するパターン化された層を形成することができる。
(もっと読む)


エネルギー源とインプリント・リソグラフィ・テンプレートとの間に配置されたデバイスが、基板上に分配された重合性材料の一部分に対するエネルギーの露光を遮断することができる。エネルギーから遮断された重合性材料の一部分は流体のままであり得るが、残りの重合性材料は凝固する。
(もっと読む)


31 - 40 / 94