説明

エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ.により出願された特許

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【課題】光ビームのダイバージェンスを測定する。
【解決手段】光学素子は、該光学素子上への入射角を変化させながら、スキャンされた放射ビームの少なくとも1部の内部反射を提供するよう構成されている。この光学素子は、表面プラズモン共鳴(SPR)効果をもたらすよう構成されたフィルムを有する。検出器は、光学素子から反射された放射を電気的に検出するよう光学素子に対して配置されている。放射ビームの発散角は、入射角に対する反射率の変化に基づいて計算される。 (もっと読む)


【課題】改善された検査装置、反射屈折対物系および屈折対物系を提供する。
【解決手段】検査装置500は、第1ビーム522を受け、第1ビーム524をウェーハ508から反射するべく誘導するように構成された反射屈折対物系504と、反射したビームによって作り出された第1の像を検出する第1センサ510、第2ビーム524をウェーハ508から反射するべく誘導するように構成された屈折対物系506と、反射したビームによって作り出された第2の像を検出する第2センサ512を備える。検査装置500は、ウェーハから反射されたビームによって作り出された第3の像を検出するように構成される第3センサ514も備えることができ、第1および第2の像は、CD測定に使用され、第3の像は、OV測定に使用され得る。第2ビームは、約200nm〜約425nmのスペクトル範囲を、第3ビームは約425nm〜約850nmのスペクトル範囲を有する。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィ装置において物品サポートに対して物品を静電的にクランプするように構成された静電クランプを提供する。
【解決手段】静電クランプはスタックを含む。スタックは、電極の第1の面6が第1の誘電体または半誘電体層19に接触し、電極の第2の面8が第2の誘電体または半誘電体層21に接触しているように配置された電極7、9を含む。誘電体または半誘電体層19、21は、少なくとも第1の部分7上に与えられた電荷を維持するために与えられている。電極は、クランプ1の外面上に配置されているわけではなく、電圧供給源とアースへの電気的接続も、静電クランプ1のスタック構造内に与えられていている。 (もっと読む)


【課題】均一性補正システムを含むリソグラフィ装置を開示する。
【解決手段】本発明の一実施形態によると、放射ビームを調整するように構成された照明システムを含むリソグラフィ装置が提供される。照明システムは、放射ビームで照明されたときに実質的に一定の瞳を受けるように構成された、平面に配置された均一性補正システムを含む。均一性補正システムは、放射ビームのそれぞれの部分の強度を補正するために放射ビームと交差するようにおよび交差しないように移動可能となるように構成されたフィンガを含む。リニアモータアクチュエータ構成は、不均一な照明を補償するためにフィンガをそれぞれの適切な位置に駆動させる。制御は、フィンガを正確に運ぶ操作をする制御システムによって提供される。 (もっと読む)


【課題】照明ビーム均一性ドリフトを補償するためのシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】
均一性補正システムを含むリソグラフィ装置が開示される。
本発明のある実施形態によると、放射ビームを調整するよう構成された照明システムを含むリソグラフィ装置が提供される。照明システムは、放射ビームに照らされたときに実質的に一定の瞳を受け取るよう構成された面上に設置される均一性補正システムを備える。均一性補正システムはフィンガと、作動デバイスとを含む。フィンガは、放射ビームの各部分の照度を補正するよう放射ビームとの交差の内側へおよび外側へと移動可能に構成される。作動デバイスは、フィンガのうちの対応する一つに結合され、対応するフィンガを動かすよう構成される。 (もっと読む)


【課題】例えば、支持体の移動に関連する何らかの問題に対処する構成を提供する。
【解決手段】ある装置は、一実施例においては、第1流れ制限表面を有する第1平面要素を含むパターニングデバイス支持体と、第1流れ制限表面に対向する第2流れ制限表面を含む第2平面要素と、第2平面要素に対し支持体をある方向に沿って直線的に移動させる支持体駆動部と、を有し、第1及び/又は第2の流れ制限表面は第1及び第2の流れ制限表面間に1つ又は複数の凸部及び/又は凹部を有し、第1及び/又は第2の流れ制限表面の凸部及び/又は凹部は、流れに垂直な第1及び/又は第2の流れ制限表面単位幅につき、上記方向に垂直な流れに対してよりも上記方向に平行な流れに対して小さい流れ抵抗を提供するよう配設されている。流れ制限表面は発熱する駆動部分に気体流れを向けてもよい。 (もっと読む)


【課題】真空環境用の改良されたリニアモータを提供する。
【解決手段】真空環境用のリニアモータは、コアおよびハウジングを備える。コアは、複数の冷却板501A,501B,501Cと、複数の冷却板501A,501B,501Cの間に挟まれた複数の電気コイル517,519,523,525とを含む。コアは、複数の電気コイル517,519,523,525と複数の冷却板501A,501B,501Cとの間に位置する複数の熱伝導性エポキシ層513A,513B,513C,513Dと、複数の電気コイル517,519,523,525と複数の冷却板501A,501B,501Cとの間に設置され、両者間の距離を定める複数のシム515と、をさらに含む。コアは、ハウジング内に組み付けられる前に試験されるように構成されている。ハウジングはコアを包囲し、本体と複数の供給口と蓋とを備える。 (もっと読む)


【課題】高加速度下で機能することができるパターニングデバイスのスリップ防止解決法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置のパターニングデバイスステージの移動中のパターニングデバイス270の滑りを実質的に除去するための構成が提供される。このような構成の一つは、保持システムとサポート輸送装置230とを含む。保持システムは、支持デバイス250と、保持デバイス280と、磁歪アクチュエータ260とを含む。保持デバイス280はパターニングデバイス270を支持デバイス250に解放可能に結合する。磁歪アクチュエータ260は、パターニングデバイス270に解放可能に結合され、パターニングデバイス270に加速力を付与する。サポート輸送装置230は支持デバイス250に結合され、磁歪アクチュエータ260による力の付与と同時に支持デバイス250移動し、パターニングデバイス270滑りを防止する。 (もっと読む)


【課題】基板の近くから液体を効果的に除去し、振動および他の外乱を起こさない装置を提供すること。
【解決手段】不均一な流れを均一にするために、浸漬リソグラフィ投影装置の液体除去システムで、多孔性部材を使用する。多孔性部材の両端の圧力差は、多孔性部材の泡立ち点以下に維持することができ、そのため一相の液体の流れを得ることができる。これに代えて、多孔性部材を、二相流内の不均一を低減するために使用することもできる。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィ露光プロセスにおいて放射ドーズ量制御に使用されるリソグラフィ装置のサブシステムで使用するための必要性能条件を満たす可変減衰器を提供する。
【解決手段】高速可変減衰器を与えるシステム及び方法。この減衰器は、初回の放射パルスに続いて放射ドーズ量を補正する1回又は複数回の補正パルスの放射照度を制御するためにリソグラフィ装置内部で使用され得る。 (もっと読む)


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