【課題】マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系を提供する。
【解決手段】マイクロリソグラフィ投影露光装置（１）用の照明光学系は、光源（２、２’）からの照明光（３、３’）で物体表面（１９）を照明するのに用いられる。少なくとも二つの照明設定を照明光学系の瞳面（１２）に設定するために、少なくとも二つの個々の光学モジュール（２８、２９）を用いる。光学モジュールの上流にある光路には、第１の光学モジュール（２８）及び／又は第２の光学モジュール（２９）に照明光（３、３’）を任意に送る分離要素（９）がある。二つの光学モジュール（２８、２９）の下流にある光路には、第１の光学モジュール（２８）及び／又は第２の光学モジュール（２９）を通過した照明光（３、３’）を照明領域に送る結合要素（３５）がある。これにより、照明光学系と光源をも有する照明系とがもたらされ、異なる照明設定間の高速切り換えが可能となる。 （もっと読む）

【課題】温度の影響による変形を低減する、ＥＵＶリソグラフィ用の光学機構、特に投影レンズと、光学素子を有する該光学機構を構成する方法とを提供する。
【解決手段】反射面３１ａ及び第１ゼロ交差温度Ｔ_ＺＣ１でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された基板３２を備える第２ミラー２２と、反射面及び第１ゼロ交差温度とは異なる第２ゼロ交差温度でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された第２基板を備える第２光学素子とを備え、第１ゼロ交差温度における第１基板３２の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_１>）及び／又は第２ゼロ交差温度における第２基板の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_２）は負の符号を有する光学機構に関する。 （もっと読む）

【課題】高密度の荷電粒子小ビームを用い、高精度で荷電粒子小ビームを操作することのできる粒子光学システムを提供する。
【解決手段】粒子光学装置であって、荷電粒子ビームを発生させる少なくとも１つの荷電粒子源３０１と、複数の開孔を有し、その下流側で荷電粒子ビーム３０９から複数の荷電粒子小ビーム３が形成され、その集束領域に荷電粒子小ビームのそれぞれが焦点３２３を有する少なくとも１つの多孔プレート３１３と、荷電粒子小ビームの焦点が形成される多孔プレートの集束領域で視野レンズの効果を有する焦点レンズ装置３０７と、粒子光学装置の物体面内に位置決め可能な物体上に多孔プレートの集束領域をおおむね結像させるための対物レンズ１０２とを備える。 （もっと読む）

【課題】サポート構造体は光学素子ユニットをサポートし、且つ該サポート器具に設置された接触器具を備える。
【解決手段】接触器具の第１の接触面１０９．５を介して第１方向に光学素子ユニット１０８上に生じた保持力を作用し、前記第１の接触面は前記光学素子ユニットの第２の接触面に接触している。接触器具は、第１方向に対して横断方向の第２方向に沿って延在する第１リンク部及び第２リンク部を有する。 （もっと読む）

【課題】マスクを層上に結像するためのマイクロリソグラフィ投影露光装置を提供する。
【解決手段】マイクロリソグラフィ投影露光装置は、投影光源（ＬＳ）と、光学要素（Ｍ２）によって少なくとも部分的に吸収される加熱光（ＨＬ）を生成するための加熱光源（１００）とを含む。照明光学ユニット（１０２）は、光学要素（Ｍ２）の光学面（１０４）上で加熱光（ＨＬ）が所定の強度分布（１０８）を有するように、加熱光（ＨＬ）を光学要素（Ｍ２）上に向ける。本発明により、照明光学ユニット（１０２）は、回折光学要素（１１８；１１８ａ，１１８ｂ；２１８）又は屈折自由形状要素（３１８；４１８）として具現化された偏向要素を含み、この偏向要素は、その上に入射する加熱光（ＨＬ）を同時に異なる方向に向ける。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィーに適するとともに、浸液と長期的に接触しても安定した結像品質を有する投影対物レンズを提供する。
【解決手段】 自身の物体平面内に配置されるパターンを自身の像面に、光路上における自身の最後の光学素子と前記像面との間において配置される浸液媒体を利用して結像させる投影対物レンズにおいて、前記最後の光学素子は、透明な基板と、該基板に取り付けられるとともに、前記浸液媒体との接触用に設けられ、かつ前記浸液媒体によって引き起こされる劣化に対する前記最後の光学素子の耐性を高める役割を果たす保護層システムとを有する。 （もっと読む）

【課題】光学要素を取り付けるのに十分な設計空間を、特に対物系の前方部分に確保する投影対物系を提供する。
【解決手段】物体視野が形成される物体平面（２０、１００、３００、２１０３）と、入射瞳（ＶＥ）と、前記物体平面において前記入射瞳（ＶＥ）を鏡像化することによって得られる、鏡像化入射瞳平面（１０３）内の鏡像化入射瞳（ＲＥ）と、像平面（２１、１０２、３０２、２１０２）と、光軸（ＨＡ）と、少なくとも第１の鏡（Ｓ１）と第２の鏡（Ｓ２）とを備える。この投影対物系の入射瞳のバック・フォーカスが負であり、物体視野の中心点から発生して、物体平面から像平面にかけて対物系を横断する主光線（ＣＲ、ＣＲＰ）が、少なくとも１つの交差点（ＣＲＯＳＳ）において光軸（ＨＡ）と交差し、すべての交差点（ＣＲＯＳＳ、ＣＲＯＳＳ１、ＣＲＯＳＳ２）の幾何学的位置が、像平面（２１、１０２、３０２、２１０２）と鏡像化入射瞳平面（１０３）との間にある。 （もっと読む）

【課題】 極紫外スペクトル範囲（ＥＵＶ）内の波長に向けて構成された反射投影レンズを用いてマスクを層上に結像するためのマイクロリソグラフィ投影露光装置を提供する。
【解決手段】 マイクロリソグラフィ投影露光装置は、投影光源（ＰＬＳ）と、加熱光源（ＨＬＳ）と、反射投影レンズ（２６）と、好ましくは投影レンズ（２６）の外側に配置され、ドライバ（１２４）を用いて第１の位置と第２の位置との間で変位させることができる反射スイッチング要素（１２２；２２２；３２２；４２２；１４；１４，１４０）とを含む。この場合、スイッチング要素の第１の位置では、投影光（ＰＬ）のみが投影レンズ（２６）に入射することができ、スイッチング要素の第２の位置では、加熱光（ＨＬ）のみがこの投影レンズに入射することができる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ投影露光装置の投影対物器械を修正／修理する方法を提供する。
【解決手段】屈折力を有する少なくとも１つの第１の光学要素を含む複数の光学要素を対物面（１２）と像平面（１６）の間に含むリソグラフィ投影露光装置（１０）の投影対物器械を修正／修理する方法は、光学要素の全てを差し替えることなく、少なくとも１つの第１の光学要素を現場で投影対物器械から取り外す段階、少なくとも１つの第１の予備光学要素を少なくとも１つの第１の光学要素の位置で投影対物器械内に挿入する段階、及び投影対物器械の像品質を望ましい品質へと調節する段階を含む。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光プロセスに使用される、長期にわたって良好かつ信頼性の高い結像特性を有する光学結像装置を提供する。
【解決手段】マスクユニット３と、基板ユニット４と、光学素子ユニットのグループを有するパターンの転写に適合された光学投影ユニット２と、光学素子ユニットのうちの１つのコンポーネントである第１結像装置コンポーネントと、第１結像装置コンポーネントとは異なり、且つ、マスクユニット３、光学投影ユニット２、及び基板ユニット４のうちの１つのコンポーネントである第２結像装置コンポーネントと、計測装置１０と、を有する光学結像装置が提供されている。計測装置１０は、第１結像装置コンポーネントと第２結像装置コンポーネントとの間の空間的な関係をキャプチャしている。計測装置１０は、第１結像装置コンポーネントに直接的に機械的に接続されている基準素子１０．２を有している。 （もっと読む）