レプリサウルス テクノロジーズ アクティエボラーグにより出願された特許
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伝導材料中の構造を画定し、複製するための方法及び電極
【課題】マイクロ/ナノ構造に好適なエッチング及びめっき方法の提供。
【解決手段】本発明は、電気化学的パターン複製方法、ECPR及びマイクロ及びナノ構造を含むアプリケーションの製造のための伝導電極の構築に関する。伝導電極、マスター電極(8)により画定されるエッチング又はめっきパターンは、電気伝導性の材料、基材(9)上に複製される。マスター電極(8)は基材(9)と密接して置かれ、エッチング/めっきパターンが、密接エッチング/めっきプロセスを使用して直接的に基材(9)上に転写される。
密接エッチング/めっきプロセスは、マスター電極(8)と基材(9)の間の閉じた又は開いたキャビティ中の局所的なエッチング/めっきセル(12,14)中で実施される。
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