説明

株式会社日立ハイテクサイエンスにより出願された特許

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【課題】ダブルチップイメージの影響を受けることなくフォトマスクのAFM観察を行って、欠陥部分とマスクパターンとを明確に区別した状態で認識すること。
【解決手段】基板2と該基板2a上に所定のパターンで形成されたマスクパターンとを有するフォトマスクをAFM観察し、マスクパターンから突出した突起状の欠陥部分5の形状を認識する方法であって、AFM観察時に欠陥部分の輪郭線が最初に確認された観察画像を参照画像として記憶する記憶工程と、該記憶工程後、これ以降の走査で得られる観察画像で確認される欠陥部分の輪郭線L2を、参照画像を参照しながら正規のラインL1に補正する補正工程と、を備え、補正後の観察画像に基づいて欠陥部分の形状を認識するフォトマスク欠陥の形状認識方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】 探針とサンプルを破損することなしに確実に近接させることが可能で、近接にかかる時間も短縮することが可能な探針とサンプルの近接方法を提供する。
【解決手段】 加振機構によりカンチレバーを加振し、変位検出機構によりカンチレバーの振幅を検出しながら、粗動機構により探針とサンプルを近接させるときに、STEP3でカンチレバーの振幅が任意の量だけ増加した振幅量を設定し、STEP5で変位検出機構により設定された振幅量を検出した時点で、粗動機構を停止させるようにした。 (もっと読む)


【課題】 比較的容易な操作で高精度な修正を可能とし、連続的に長時間の作業を可能とし、熱ドリフトによる加工精度の低下も防止する。
【解決手段】 原子間力顕微鏡の自由端に探針1が形成されたカンチレバー11と、上記カンチレバー11を駆動して探針1も駆動する駆動手段であるXYZスキャナー12と、上記探針1にフェムト秒レーザー3を照射するフェムト秒レーザー光源4と対物レンズ5により構成されるフェムト秒レーザー照射手段を有し、上記探針1を一主面上にパターンが形成されてなるサンプル6に相対向させ、上記サンプル6上に形成されたパターンの余剰部分に接触させて駆動することにより、上記余剰部分を除去し、余剰部分除去後の探針1に付着している加工屑2にフェムト秒レーザー照射手段からフェムト秒レーザー3を照射し、上記加工屑2をレーザーアブレーションで除去する。 (もっと読む)


【課題】複数軸方向へ駆動する位置決め装置において、高速駆動する移動機構を低速駆動する移動機構と組み合わせた際にクロストークによって高速駆動する軸方向の共振周波数が低下することを防止し高速な測定を可能とする走査型プローブ顕微鏡に好適な位置決め装置を提供する。
【解決手段】XY方向の面の略中央に平面略正方形をなし、少なくともその一辺にX軸方向に撓む第1の弾性支持体と前記一辺に直交する少なくとも一辺にY軸方向に撓む第2の弾性支持体を有するXY方向への被駆動部3と、その対向面がXY方向への被駆動部3の対向面に平行に相対向するようにXY方向へのステージ部1を支持する支持部9を有し、少なくとも前記XY方向への被駆動部3に対応する面と、これに相対向する支持部9の対向面の間が所定の厚さの間隙を有し、前記間隙に粘性剤10が注入されている位置決め装置M1を用いた走査型プローブ顕微鏡とした。 (もっと読む)


【課題】 ピンセットの基板への接触、試料の把持検出、試料の形状測定ができるピンセット付き走査型プローブ顕微鏡の提供。
【解決手段】ピンセット付き走査型プローブ顕微鏡は、探針部が形成された第1のアームと、第1のアームに対して開閉自在に設けられた第2のアームと、開閉駆動電圧が印加され、第2のアームを開閉駆動する静電アクチュエータと、静電アクチュエータ6が有する電気的等価回路を帰還回路として用いることにより自励発振させ、その自励発振により第2のアームを振動させる増幅器91と利得調整手段95を有し、第2のアームの物体への接触による振動状態の変化を検出する振動状態検出部93とを備える。 (もっと読む)


【課題】欠陥部分の根元側周辺の画像をダブルチップイメージの影響を受けることなく正確に取得して、欠陥部分とマスクパターンとを明確に区別した状態で認識することができると共に、該欠陥部分を切削除去加工により高精度に除去すること。
【解決手段】プローブの変位が一定となるように探針と基板表面2aとの距離を制御しながら複数のラインを1ライン毎に順々に走査して欠陥部分5の形状をAFM観察により認識する観察工程と、認識した欠陥部分に探針を所定の力で押し付けた状態で複数のラインを1ライン毎に順々に走査して欠陥部分を切削除去加工する加工工程と、を備え、観察工程の際、1ライン毎の走査方向をマスクパターン3のエッジ3aに対して平行な方向(C方向)に設定すると共に、マスクパターン側から欠陥部分の先端側に向かう方向(D方向)に複数のラインを順々に走査するフォトマスク欠陥修正方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】 扉の開閉動作時において付勢力を利用した扉ばね機構、摩擦ブレーキ機構を用いることによって、安定した開閉動作が可能となる扉開閉機構を提供することにある。
【解決手段】 扉開閉機構1は、測定する試料をセットするための試料ステージ(図示せず)や検出器などの測定機構(図示せず)が戴置される本体土台7を有する本体と、試料を交換などで開閉するための扉2とを有し、この扉2は本体土台7に固定された支持ホルダ3に支持されている回動軸4に接続しており、回転軸4が回転することで、扉2が開閉動作できるようになっている。さらに、回動軸4の外周面を覆うように摩擦機構5が設置されている。扉2を開く際に付勢するための弾性体8は、所定の間隔で複数固定されている。 (もっと読む)


【課題】切削時に生じた切削屑を、人手を介さずに自動的且つ確実に移動させて固着を解くことができ、ヒューマンエラーを防止しながら時間を極力かけずに効率の良い修正作業を行うこと。
【解決手段】基板2とマスクパターン3とを有するフォトマスクを予めAFM観察した観察データに基づいて、欠陥部分5を切削除去加工して修正する方法であって、観察データに基づいて加工エリアE1を設定すると共に、該加工エリアに隣接したエリアを、切削除去加工で生じ固着していそうな切削屑を除去加工する切削屑除去加工エリアE2として設定するエリア設定工程と、加工エリア内においてプローブにより欠陥部分を切削除去加工する加工工程と、切削屑除去加工エリア内において探針を切削除去加工時よりも弱い力で押し付けながら走査して切削屑除去加工を行い、切削屑を移動させる移動工程と、を備えているフォトマスク欠陥修正方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】走査型プローブ顕微鏡において、高精度な観察と、安定した把持とを両立させることができるAFMピンセットの提供。
【解決手段】AFMピンセットは、三角柱部材の稜線の先端を走査型プローブ顕微鏡の探針として使用可能な第1のプローブ10Bと、第1のプローブ10Bに対して開閉自在に設けられた三角柱部材から成る第2のプローブ20Bとを備え、各三角柱部材の所定の周面がほぼ平行状態で対向するようにプローブ10B,20Bを並置した。そして、稜線の先端で試料を走査する際の試料との干渉を防止する切り欠き部100を、第1のプローブ10Bに形成した。 (もっと読む)


【課題】配線に何ら影響を与えず、感度の低下を防止しながら自己検知型プローブを利用して長期的に安定した状態で試料を液中測定すること。
【解決手段】カンチレバー11の変位量に応じて抵抗値が変化する歪抵抗素子と、カンチレバーの表面に露出した状態で設けられて歪抵抗素子に電気接続された配線部と、を有する自己検知型プローブ2と、探針及びカンチレバーが液体Wに浸された液中環境を作り出す液中設定手段3と、液体内に少なくとも一部が浸かった状態で配置された挿入電極4と、配線部の電位よりも挿入電極の電位の方が陽極側の電位となるように両者に電圧を印加する電圧印加手段5と、カンチレバーの変位量を検出する検出手段6と、カンチレバーの変位量が一定となるように探針と試料表面S1との距離を制御しながら自己検知型プローブを走査させて試料の表面形状又は物性を測定する測定手段7と、を備えている液中測定装置1を提供する。 (もっと読む)


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