説明

株式会社日立ハイテクサイエンスにより出願された特許

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【課題】基板上に成膜した薄膜の密着性を測定する密着性試験装置において、薄膜の微小領域を微小な垂直荷重により密着性の試験ができなかった。
【解決手段】密着性試験装置において、構造が小さく、かつバネ定数の非常に小さい弾性アームの変位量を制御することにより、軟らかい薄膜の微小領域で密着性の測定を可能にする。 (もっと読む)


【課題】測定者が必要とする試料上の領域のみを、必要最小限の動作で測定することで、マッピング分析に要する測定時間を短縮するX線分析装置を提供する。
【解決手段】マッピング像と試料の画像データとを重畳処理し、照射ポイントに相当する位置を決定し、その結果に基づき画像表示し、該表示された画像において測定実施領域を指定して、試料移動機構が指定された領域以外を高速で移動するようにした。 (もっと読む)


【課題】摩擦力顕微鏡においてカンチレバーによる定量的な摩擦力の測定を可能とすること。
【解決手段】摩擦力顕微鏡においてカンチレバーの有効な探針高さおよび捻れバネ定数を、それぞれカンチレバーの撓み方向の変位情報から求めた撓み感度および捩れ方向の変位情報から求めた捩れ感度により算定し、該算定値を用いた摩擦力の算定機構を備えた摩擦力顕微鏡を提供する。 (もっと読む)


【課題】光てこ方式又は自己検知型の変位検出ではないカンチレバーの変位検出機構ならびにそれを用いた走査型プローブ顕微鏡を提供することを目的とする。
【解決手段】LC共振器とF−V変換器とから構成されるカンチレバー変位検出器により、カンチレバーと試料表面との間の静電容量変化を検出することで、カンチレバーの変位を検出可能とした。これにより光を遮断した状態で形状測定や物性測定が可能となり、更には光の有無による試料の形状や物性情報の変化を測定可能とした。 (もっと読む)


【課題】負荷する衝撃力や摩擦力の大きさを予め設定することができ、試料の耐衝撃性や耐摩耗性等の機械的特性を適切に評価することができる、機械的特性評価方法および装置を提供すること。
【解決手段】試料に機械的に負荷する衝撃力および摩擦力を予め設定し、プローブを、プローブに対向配置された試料に対して垂直な方向(Z方向)に振動させると共に、プローブと試料とを、試料に対して水平な方向(XY方向)に相対的に振動させ、振動させたプローブと試料を接触させて衝撃力および摩擦力を負荷し、それによる痕跡の深さを測定し、得られた痕跡の深さのデータ、設定した衝撃力のデータ、および設定した摩擦力のデータから、試料の耐衝撃性および耐摩耗性を評価する。 (もっと読む)


【課題】粘弾性測定装置において、試料の熱膨張の結果生じる座屈などの好ましくない試料形状変化を除去することにより、変位検出器方向への熱膨張による変形や、試料把持部材とチャック間の試料の折れ曲がりを防ぎ、測定の正確度向上を図ること。
【解決手段】試料を保持する弾性アームの一部に細部を設けて試料の熱膨張力に対して変形し約することにより、試料が熱膨張した際に生じる座屈などの好ましくない形状変化を効果的に除去するとともに、試料の荷重に対して必要な剛性を保つことによって、測定の正確度を向上させた粘弾性測定装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】探針やサンプルの破損等を防止し、走査時間を短縮可能な、高分解能な表面性状測定装置を提供する。
【解決手段】探針とサンプルを、任意の測定点において近接または接触させて測定データを取得した後、それらを離間させると共に次の測定点に相対的に走査して、再び近接または接触させて測定データを取得する動作を繰り返しながら複数の測定点でサンプル表面の形状または物性を計測する表面性状測定装置の走査方法において、探針4とサンプル11を走査したときにサンプル上の凸部11aに対峙する探針の側面4gを探針先端を通るサンプル表面への垂線20に対して探針先端4aから探針末端4hに掛けてサンプル上の凸部方向に広がるように垂線20に対して任意の角度θで傾斜させ、測定点間の距離をΔx、探針とサンプルの離間量をΔhとした場合に、Δh>Δx/tanθの条件を満たすように探針4とサンプル11の離間量を設定した。 (もっと読む)


【課題】従来に比べ保磁力の大きい探針および磁気力顕微鏡を提供する。
【解決手段】先鋭部40を有する探針2において、前記先鋭部40にイプシロン型酸化鉄系化合物を含む磁性体42が設けられていることを特徴とする。イプシロン型酸化鉄系化合物は、保磁力が20kOe程度であるので、従来に比べ格段と保磁力の大きい探針2を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】従来のシリコンの水素化物やハロゲン化物を原料ガスとして用いたデポジションに比べ、高速な半導体膜デポジションが可能な荷電粒子ビーム装置を提供すること。
【解決手段】荷電粒子源1と、集束レンズ電極2と、ブランキング電極3と、走査電極4と、試料9を載置するための試料台10と、荷電粒子ビーム照射により試料9から発生する二次荷電粒子7を検出する二次荷電粒子検出器8と、シクロペンタシランを原料ガスとして収容するリザーバ14と、原料ガスを試料9に供給するガス銃11と、を備える荷電粒子ビーム装置を用いる。 (もっと読む)


【課題】本発明が解決しようとする課題は、特別な検出手段を要せず顕微鏡観察しながらマニピュレータを操作するだけで微小な試料へプローブが確実に且つソフトに接触するようにアプローチ出来る手法を提示すると共に、それを実行する装置を提供することにある。
【解決手段】プローブ1をチルトさせてその先端部を試料5の目標位置に接近させながら、プローブ1先端部と前記目標位置の距離を荷電粒子ビーム顕微鏡で観察しつつ、観察画面上で前記目標位置にてプローブ1とプローブ1の影との先端部が一致する方向へ、プローブ1を移動させる。 (もっと読む)


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