【課題】作業効率に優れ、かつ安全に試料測定を行える蛍光Ｘ線分析装置及び蛍光Ｘ線分析方法を提供する。
【解決手段】試料Ｓ上の照射ポイントＰ１に放射線を照射する放射線源２と、Ｘ線検出器３と、試料と放射線源及びＸ線検出器とを相対的に移動可能な移動機構８と、筐体１０と、筐体の内外に試料を出入りさせる開口１０ａを開閉する扉２０と、照射ポイントの高さを測定可能な高さ測定機構７と、測定した照射ポイントの高さに基づいて試料と、放射線源及びＸ線検出器との距離を調整する移動機構制御部９と、照射ポイントに可視光レーザを照射するレーザ部７と、扉が開状態の時、レーザ部を作動させて可視光レーザを照射させると共に、扉が閉状態の時、レーザ部を停止させるレーザ部作動制御部９と、扉が開状態の時、高さ測定機構を作動させて照射ポイントの高さを測定させる高さ測定機構作動制御部９と、を備えた蛍光Ｘ線分析装置１００である。 （もっと読む）

【課題】加速電圧を小さくしてもビーム径の小さい集束イオンビームを照射可能な荷電粒子ビーム装置を提供すること。
【解決手段】イオンビーム１１を発生するイオン源２と、イオンビーム１１を試料１３に集束させる第一の対物レンズを形成する第一の対物レンズ電極６、７、８と、第一の対物レンズ電極６、７、８よりも試料１３に近い位置に配置され、低い加速電圧で加速されたイオンビーム１１を試料１３に集束させる第二の対物レンズを形成する第二の対物レンズ電極９と、を有するイオンビーム鏡筒１０を備えた荷電粒子ビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 測定対象が変わっても測定対象の反射率などの光学特性、あるいは形状や機械的特性に依存せずに検出感度やノイズの割合が調整可能で、測定対象への照射光による測定対象の熱変形の影響が小さくでき、最適な条件下で測定精度を確保することが可能な光学式変位検出方法を提供する。
【解決手段】 測定対象となるカンチレバー６に光を照射する光源１０と、光源１０を駆動する光源駆動回路２１と、光源１０からカンチレバー６に照射した後の光を受光し、光強度を検出する光検出器１６と、光検出器１６の検出信号を所定の増幅率で増幅する増幅器２２から構成される光学式変位検出機構において、光強度調整器２８と増幅率調整器２７を設けカンチレバー６への照射光強度や光検出器１６の増幅率を調整できるようにした。 （もっと読む）

【課題】試料に照射するイオンビーム電流量を増大させ、試料加工のスループットが高い集束イオンビーム装置を提供すること。
【解決手段】エミッター１にガスを供給し、エミッター１先端に電界を形成し、供給したガスを電界電離させイオンビーム７を放出する電界電離型イオン源のエミッターにおいて、エミッター１先端は、原子レベルの突起部１ｃと、突起部を有する球状部と、球状部に続く傾斜角を有する円柱部と、からなり、球状部の曲率半径が１１０ｎｍ以上であり、かつ、傾斜角が、１５°以下である電界電離型イオン源のエミッターを有する集束イオンビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】高感度測定が出来るが装置の劣化を早めるプラズマの発生軸方向測定と、装置劣化は少ないが感度が低下するプラズマの横方向測定の、それぞれの特徴を生かした高感度かつ、装置の劣化を軽減させた斜め方向測定を行える装置。
【解決手段】ＩＣＰ分析装置における集光部によるプラズマの光の取り込み方向に対して、前記プラズマトーチを任意の角度に設定するために、プラズマトーチと集光部とを対向的に直線状に配置したときを基準として、少なくともいずれか一方を回動させることにより任意の角度で対向させる構成とした。 （もっと読む）

【課題】 光源からの光を測定対象や光検出器の受光面へ位置合わせを行う際に、位置合わせを容易に、かつ確実に行うことが可能な光学式変位検出機構のスポット光の位置合わせ方法を提供する。
【解決手段】 測定対象となるカンチレバー６に光を照射する光源１０と、光源１０を駆動する光源駆動回路２１と、光源１０からカンチレバー６に照射した後の光を受光し、光強度を検出する光検出器１６と、光検出器１６の検出信号を所定の利得で増幅する増幅器２２から構成される光学式変位検出機構において、光検出器１６で検出される検出感度を利得（増幅率）調整器を用いて実際に測定対象を測定する時よりも小さい値に設定して、光検出器１６の所定の位置に光検出器用位置決め機構１８により光のスポット２０の位置決めを行うようにした。 （もっと読む）

【課題】熱分析装置の加熱炉周囲の温度環境の変化の影響を排除して、測定精度の向上を目的とする。
【解決手段】少なくとも二層以上の密閉された層構造であって外界と隔離するように前記加熱炉周囲を覆う複層構造体を備えた。また、その層間は、加熱炉内に存在する気体と同等の熱容量をもつ物質で満たした。 （もっと読む）

【課題】集束イオンビームでＴＥＭ観察用の薄片化試料を作製し、低加速電圧の気体イオンビームで試料表面のダメージ層を除去する装置において、電子顕微鏡と試料とを最適な距離に配置すること。
【解決手段】集束イオンビーム鏡筒１と、走査電子顕微鏡筒２と、気体イオンビーム鏡筒３とを備えた複合荷電粒子ビーム装置であり、集束イオンビーム鏡筒１のビーム照射軸と、走査電子顕微鏡筒２のビーム照射軸と、気体イオンビーム鏡筒３のビーム照射軸とは１点で交わり、かつ、集束イオンビーム鏡筒１のビーム照射軸は、走査電子顕微鏡筒２のビーム照射軸と略直交するように配置し、気体イオンビーム鏡筒３のビーム照射軸は走査電子顕微鏡筒２のビーム照射軸と９０度より小さい角度で交わるように配置する複合荷電粒子ビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＴＥＭ薄片観察の能力を向上させ、かつその構成において効率よく試料の配置と姿勢を制御することを図ること。
【解決手段】ＦＩＢ鏡筒１のビーム照射軸と、ＳＥＭ鏡筒２のビーム照射軸と、回転可能な台の第一の回転軸が、試料観察位置でそれぞれが互いに略直交に交わり、回転可能な台が第一の回転軸を中心に回転可能な支持部を有し、支持部が試料５を試料観察位置に配置可能な並進機構と接続する。 （もっと読む）

【課題】 光源の出力を大きくして光路上の光の伝達効率を高めることで、光検出器の受光面への入射光量を大きくし、検出感度に対するショットノイズやジョンソンノイズの割合を少なくするような変位検出方法を提供する。
【解決手段】 測定対象６に光を照射する光源１０と、光源１０を駆動する光源駆動回路２１と、光源１０から測定対象６に照射した後の光を受光し電気信号に変換して光強度を検出する半導体よりなる光検出器１６と、光検出器１６の検出信号を所定の増幅率で電流／電圧変換する電流／電圧変換回路を含む増幅器２２からなる光学式の変位検出機構９において、スペクトルの半値幅が１０ｎｍ以上となる光源１０を用いて、光源１０の強度を２ｍＷ以上で駆動してもモードホップノイズや戻り光ノイズの発生を抑えるようにした。 （もっと読む）