【課題】 EUVLマスクのMo/Si多層膜またはMo₂C/Si多層膜中の振幅欠陥を修正する。
【解決手段】 Siを含む液体合金イオン源1から質量分離器3で質量分離され、イオン光学系6で集束された500V以下の低加速Siイオンビーム、または注入深さが浅くなるように斜めから500V〜2000Vの低加速Siイオンビームを入射させてMo/Si多層膜またはMo₂C/Si多層膜表面近傍の振幅欠陥を下層のMo/Si多層膜またはMo₂C/Si多層膜界面を壊されないように物理スパッタまたはガスアシストエッチングで除去する。 （もっと読む）

【課題】 液化窒素を用いた冷却装置と電気冷却装置の接続機構を共有化し、冷却装置の切替えを簡便化し、温度範囲を容易に切り替えられる示差走査熱量計を提供することを課題とする。
【解決手段】 測定試料と基準物質を収納するヒートシンク１と、ヒートシンク１を加熱するヒーター４と、ヒートシンク１の底板上に固定されている示差熱流検出器とを有する示差走査熱量計において、ヒートシンク１の底板下に固定された冷却機構５１を有し、冷却機構５１には冷却ガス導入用の冷却ヘッドあるいは電気冷却ヘッドを装着するための挿入穴７と、挿入穴７と導通する冷却ガスのガス流路１０を設ける。 （もっと読む）

【課題】 EUVLマスクのブランクスのMo/Si多層膜またはMo₂C/Si多層膜中の位相欠陥を修正する。
【解決手段】 ガラス基板2裏面よりガラスに吸収されない波長のレーザー4をレーザーアブレーションや融解の起きない程度の低パワー密度で対物レンズ5を用いてガラス基板上の異物3で集束するように入射することで異物近傍を加熱してMo/Si界面にシリサイドを形成しMo/Si多層膜またはMo₂C/Si多層膜1に生じた段差を緩和して多層膜中の位相欠陥を修正する。 （もっと読む）

【課題】 分子素子に用いる分子の性質を評価するために、サブナノメートルのギャップを持った電極を作製することを課題とする。
【解決手段】 試料表面の二点に接触する２本のプローバ２３と、プローバ２３が接触している二点間に一定の電圧を印加する電圧源２４と、前記二点間に流れる電流を測定する電流計２５とを有する集束イオンビーム装置であって、偏向電極１５とガス銃１８を動作させ前記２点間に導電膜をそのギャップが狭くなるように形成すると共に前記２点間に流れる電流をモニタし、前記電流が所定値になったらブランキング電極１３にて試料表面に照射される集束荷電粒子ビームをオフにする。 （もっと読む）

【課題】 原子間力顕微鏡技術を用いたフォトマスク上の微細パーティクル除去において石英またはガラス基板へのダメージを低減する。
【解決手段】 除去すべきパーティクル3上で300N/m以上のバネ定数を持った硬い原子間力顕微鏡探針4を押し込み、押し込み力に対するたわみを検知することでパーティクルの種類を判別し、パーティクルの種類に応じて除去に使用する探針の種類を変える。パーティクルが石英またはガラス基板よりも柔らかい場合にはパーティクルよりも硬く石英またはガラス基板よりも柔らかい原子間力顕微鏡探針5で物理的に除去する。除去すべきパーティクル3が石英またはガラス基板1より硬い場合には、そのまま押しこみに使用した高バネ定数のダイヤモンドのような硬い原子間力顕微鏡探針4を高加重で走査して物理的に除去する。 （もっと読む）

【課題】 高強度のダイヤモンドライクカーボン(ＤＬＣ)で膜厚５０ｎｍ以下の極薄メンブレンを用いた電子ビーム投影露光装置用メンブレンマスクの位置や寸法の変動のない欠陥修正を行う。
【解決手段】 Ｇａ液体金属イオン源を用いた集束イオンビームではなく、電子ビームでＤＬＣメンブレンマスクの欠陥修正を行う。白欠陥４にガス７を供給し、試料裏面から電子ビームを照射して試料を透過した電子ビームによって、白欠陥表面に吸着した原料ガス７を反応させ局所ＣＶＤを起こして加工する。この時ガス供給系と電子ビーム鏡筒の間にメンブレンマスク１を配置させることで、電子ビーム鏡筒への原料ガス７の流れ込みを抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】
本発明が解決しようとする課題は、試料へのアプローチに際し試料へのダメージを与えることがない試料とプローブの接触感知機能を備え、ピックアップ機構としては微細なサンプルを迅速で確実なハンドリングを可能とすると共に、試料の材質を選ぶことなく、しかも構造的にも単純な機構を提供することにある。
【解決手段】
本発明のプローブ機構とサンプルピックアップ機構は、観察装置または分析装置に備えられ試料に接触を図る針状体からなる先端部材を有し、駆動用の静電アクチュエータと、該静電アクチュエータの電極間の静電容量変化をモニターする手段とを備え、該モニターにより前記プローブがサンプルに接触したことを検知できることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 試料が把持されたか否かを確実にかつ容易に確認することができ、試料を適切な状態で把持することができるナノグリッパ装置の提供。
【解決手段】 駆動部６には各アーム３を駆動するめの固定電極および可動電極が設けられている。固定電極６０ａおよび可動電極６１ａは左側のアーム３を駆動するものであり、可動電極６１ａは支持部６２により台座７に弾性支持されている。同様にアーム３も支持部６３により台座７に弾性支持されている。電極６０ａ，６１ａ間に電圧を印加すると、クーロン力により可動電極６１ａが右側に移動しアーム３を閉駆動する。検出回路９１Ａ，９１Ｂにより検出される電極６０ａ，６１ａ間の静電容量および電極６０ｂ，６１ｂ間の静電容量の変化に基づいて、試料が把持されたか否かを判断する。 （もっと読む）

【課題】集束イオンビームによるフォトマスク欠陥修正でガラス基板に注入されたガリウムを除去してガリウム注入によるフォトマスクの透過率低下を改善する。
【解決手段】ガリウムと特異的に結合するキレート剤を添加した液中走査プローブ顕微鏡の導電性探針に電圧印加して電界または液中走査プローブ顕微鏡の導電性探針にレーザを照射して針先で増強された高電界により表面に注入されたガリウムを析出させ、ガリウムと特異的に結合するキレート剤で除去する。もしくはガリウムと特異的に結合するキレート剤を添加した液中近接場光学顕微鏡の探針から近接場光を照射した局所過熱、または液中走査プローブ顕微鏡の加熱した探針を接近させた局所過熱により表面に注入されたガリウムを析出させ、ガリウムと特異的に結合するキレート剤で除去する。 （もっと読む）

【課題】 試料の把持することができるとともに、試料を把持することによりその寸法を計測することができる測長機能付きナノグリッパ装置の提供。
【解決手段】 駆動部６には各アーム３を駆動するめの固定電極および可動電極が設けられている。固定電極６０ａおよび可動電極６１ａは左側のアーム３を駆動するものであり、可動電極６１ａは支持部６２により台座７に弾性支持されている。同様にアーム３も支持部６３により台座７に弾性支持されている。電極６０ａ，６１ａ間に電圧を印加すると、クーロン力により可動電極６１ａが右側に移動しアーム３を閉駆動する。アーム３が試料を把持した際の電極６０ａ，６１ａ間の静電容量および電極６０ｂ，６１ｂ間の静電容量と、記憶回路９３に記憶されたアーム３の間隔と静電容量との相関とに基づいて、試料の寸法を測定することができる。 （もっと読む）