説明

株式会社日立ハイテクサイエンスにより出願された特許

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【課題】集束イオンビーム装置による加工の際、マニピュレータとして微小ピンセットとその回転機構とを用いることで、傾斜機構を必要とせずに試料の向きを変えて試料ホルダへ固定可能な集束イオンビーム装置を提供する。
【解決手段】試料20を固定するための固定面62sを有する試料ホルダ62と、試料ホルダが設置されている試料台61と、集束イオンビームを試料に照射する集束イオンビーム照射機構120と、試料を挟持し、その軸方向Lが試料台の表面と所定の角度θをなす微小ピンセット50と、微小ピンセットを開閉させる開閉機構53と、微小ピンセットを軸方向の周りに回転させる回転機構54と、微小ピンセットの位置を移動させる移動機構55とを備えた集束イオンビーム装置100である。 (もっと読む)


【課題】微小な特定箇所を劈開して断面を得ることができるミクロ断面加工方法の提供を提供する。
【解決手段】試料表面2aに、観察対象3が含まれる線状の断面予想位置3Lを決定する工程と、断面予想位置に対して、集束イオンビーム20Aを垂直または傾斜角を持って照射させ、断面予想位置の前方の位置で断面10を形成する工程と、断面の両端部に集束イオンビームを照射させ、断面予想位置より後方の位置まで延びる側面切込み12、12を形成する工程と、断面予想位置より後方の位置まで延びる底部切込み14を形成する工程と、側面切込みから断面予想位置に沿って集束イオンビームを照射させ、底部切込みに接続する楔16,16を形成する工程と、試料の断面予想位置より前方の部位2xに衝撃を加え、楔で挟まれた断面予想位置の近傍を劈開させ、劈開面Sを形成する工程とを有するミクロ断面加工方法である。 (もっと読む)


【課題】ヒートシンクと冷却ブロックとの間の熱抵抗体への冷却ヘッドからの熱流入を抑制し、測定精度や冷却効率を向上させることができる示差走査熱量計を提供する。
【解決手段】測定試料及び基準物質を収納するヒートシンク10と、ヒートシンクを加熱するヒータ12と、ヒートシンクと離間しつつヒートシンクの下方に位置する冷却ブロック20と、ヒートシンクと冷却ブロックとの間に接続されてこれらの間に熱流路を形成する熱抵抗体14と、冷却ブロックに取外し可能に嵌合されるための内孔30iを有し外部の冷却装置によって冷却される冷却ヘッド30と、測定試料と基準物質との温度差を熱流差信号として出力する示差熱流検出器3、5とを備え、冷却ブロックのうち熱抵抗体との接続部20cより外側に、内孔と嵌合する側壁21pwが形成され、冷却ヘッドの上面30uが接続部より上方にはみ出さないように配置される示差走査熱量計1である。 (もっと読む)


【課題】 振動方式の走査型プローブ顕微鏡において、効率的にカンチレバーを振動させることができる加振機構を備え、変位検出機構のノイズを抑制するとともに、部材の振動ノイズを抑え、分解能の高い測定が可能となるような走査型プローブ顕微鏡用のカンチレバーの加振方法を提供する。
【解決手段】 先端に探針3を有し末端にベース部5を有するカンチレバー4の該ベース部を保持する保持ブロック14を備えたカンチレバーホルダと、前記保持ブロック14を振動させて前記カンチレバー4を加振するための加振機構15とを有する走査型プローブ顕微鏡において、前記保持ブロック14を含む前記カンチレバーホルダの構造体が共振状態の振動モードで振動するときの周波数と、走査型プローブ顕微鏡の測定を行う際のカンチレバー4の動作周波数とを、一致するように調整した。 (もっと読む)


【課題】FIB装置に組み込んだ微小マニピュレータ部をその場でエッチング加工することで、従来困難であった1μm以下の微小物のハンドリングの確実性を高めるとともに、マニピュレータの再利用により作業効率やメンテナンス性を向上する。
【解決手段】微小マニピュレータ部を位置および向きを変えることのできる移動機構で保持することにより、マニピュレーション作業前にマニピュレータ先端部をFIB加工するとともに、作業中のマニピュレータ先端の汚染や破損があった場合でも、加工により再度使用可能な形状に再生する。 (もっと読む)


【課題】表面に有機物が形成されている試料の断面を精度よく得ることができる断面加工方法及び断面観察試料の製造方法を提供する。
【解決手段】有機物の層又は構造8を表面に有する試料2に、集束イオンビーム装置100を用いて集束イオンビームを照射し、試料の断面加工位置Lに断面加工を行う方法であって、保護膜となる原料ガスの存在下、断面加工位置を含む試料の表面に集束イオンビームを照射し、有機物の層又は構造の表面に保護膜7aを形成する保護膜形成工程と、保護膜が形成された断面加工位置に、保護膜形成工程における加速電圧より高い電圧で集束イオンビームを照射し、断面加工を行う断面加工工程とを有する試料の断面加工方法である。 (もっと読む)


【課題】本発明が解決しようとする課題は、FIB鏡筒とSEM鏡筒を備えたシステムにおいて、FIB加工を実行している過程をリアルタイムでSEM観察する際に、FIB照射によって放出される二次電子がSEM検出信号のノイズとならないようなシステムを提供することにある。
【解決手段】本発明はFIB鏡筒と、SEM鏡筒を備えた複合装置において、FIB用のアパーチャに加工形状のスリットを備えることにより、集束したイオンビームの走査ではなく試料面にパターンを転写することによりイオンビーム加工するようにした。 (もっと読む)


【課題】ピクセルを複数含む加工領域画像を変形しても、もとの画像を再現した加工を行うことができる集束イオンビーム装置を提供する。
【解決手段】集束イオンビーム20Aを試料2に照射する集束イオンビーム照射機構20と、集束イオンビームを試料に照射して生じる二次荷電粒子を検出する検出器70と、検出器の検出データに基づき、試料の試料画像を生成する画像生成手段90と、試料画像上で、集束イオンビームの照射位置に対応したピクセルを複数含む加工領域画像を設定する加工領域設定手段90と、加工領域画像に含まれるピクセルの座標を、試料への照射位置として設定する照射位置設定手段90と、ピクセル毎に定められた輝度に応じて、集束イオンビーム照射機構から照射される集束イオンビームのドーズ量を設定するビーム設定手段90と、加工領域画像が変形された場合に、該加工領域画像を補間処理する補間手段90とを備えた集束イオンビーム装置100である。 (もっと読む)


【課題】光を照射しながら走査型プローブ顕微鏡の測定を同時に行うことが可能で変位検出部の機能を損なうことなしに機能性の被膜を容易に行うことができ、光、電気、磁気などの物性を高精度で容易に測定可能となる自己変位検出型カンチレバー及び走査型プローブ顕微鏡を提供する。
【解決手段】先端に探針2を有し末端に基端部3を有するカンチレバー4と、カンチレバー4に設けられカンチレバー4の変位を検出するための変位検出部5と、変位検出部5に接続され基端部3に連通する電極部6からなる自己変位検出型カンチレバー1において、カンチレバー4上の電極部6と変位検出部5に絶縁膜7を設け、絶縁膜7上に任意の機能性材料8を被膜した。 (もっと読む)


【課題】 過去の測定結果情報との比較により、容易な変化点管理を行うことが可能な蛍光X線分析装置を提供すること。
【解決手段】 被測定物205を特定する特定情報を入力する入力部201と、被測定物の測定部位画像を取得する撮像部210と、蛍光X線の測定後においては、少なくとも、被測定物の分析結果を表示する表示部208と、特定情報に対応づけられた過去の測定情報を蓄積したデータベース209と、を備え、測定情報は、被測定物の測定部位画像と分析結果とを含み、表示部は、蛍光X線の測定条件設定時においては、少なくとも、撮像部で得られる被測定物の測定部位画像と、データベースに蓄積されている測定情報のうち入力部で入力された特定情報に対応する測定情報に含まれる被測定物の過去の測定時の測定部位画像と、を同時に表示可能である、蛍光X線分析装置。 (もっと読む)


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