説明

サーモ フィッシャー サイエンティフィック インクにより出願された特許

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結晶試料のX線回折(XRD)分析と蛍光X線(XRF)分析の両方を実行するための装置。試料ホルダが、排気可能チャンバ内に配置される。蛍光X線源と個別のX線回折源が、排気可能チャンバ内に取り付けられる。また、前記蛍光X線源からX線を照射した結果として結晶試料の表面から放出された二次X線を検出するためのXRF検出機構が提供される。次に、結晶試料によって回折された固有波長(特性波長)のX線を検出するためのXRD検出機構が提供される。XRD源と試料ホルダ間の相対運動のためにXRD源を取り付けるように構成された第1の部分と、XRD検出機構と試料ホルダの間の相対運動のためにXRD検出機構を取り付けるように構成された第2の部分とを有する可動式XRD支持アッセンブリが提供される。
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【課題】高い感度で二次荷電粒子のスペクトル観測を行い、高品質の試料光学画像を生成できる荷電粒子分光装置を提供する。
【解決手段】一次粒子による分光装置(10)は、試料表面に対してほぼ垂直な試料観測と二次荷電粒子捕集を実現する。捕集チャンバ(22)は、放出された粒子を、第一の垂直軸(24)に沿って下流方向に集束させ、これによって荷電粒子の光学クロスオーバ地点(25)を画定する二次荷電粒子レンズ装置(20)と、レンズ装置の下流にあり、結像光(41)を受け取り、これを第二の垂直軸(42)から遠ざけるように反射して、表面の観測可能な画像を提供するよう構成された光反射光学素子(50)をクロスオーバ地点(25)またはその付近に配置し、貫通する穴(52)を有し、集束した粒子が、光学素子によってほぼ遮ぎられることなく、下流での分光分析を受けるために開口部を通過するようになっている。 (もっと読む)


【課題】嵩張って重いRF電子回路を動かす必要がなく、RF輻射を抑圧でき且つインピーダンスマッチング向け調整幅が小幅な誘導結合プラズマ(ICP)整列装置を得る。
【解決手段】ガス中にICPを発生させるコイル10、その一部又は全部がコイル10の内側にあるトーチ20、並びにコイル軸100に対するトーチ軸200の配置が変化するようコイル10に対するトーチ20の位置を調整する手段である調整機構80によって、ICP整列装置を構成する。調整機構80によって、コイル軸10とトーチ軸200の角度、距離又はその双方を調整し、またトーチ軸200をコイル軸100に対しほぼ平行に保ちつつトーチ軸200とコイル軸100の距離を調整する。コイル10の位置は、ICP由来の光子又はイオンをサンプリングする開口に対しほぼ固定する。 (もっと読む)


周波数、波長又は質量スペクトルデータを拡張する方法であって、周波数、波長又は質量スペクトルデータをフーリエ逆変換し、得られた逆変換データをゼロフィル(及び望みならアポダイズ)し、そしてフーリエ変換して、周波数、波長又は質量領域へと再変換する。この処理によって得られるスペクトルデータは、ピークの位置、形状及び高さをより正確に示すものとなる。
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質量分析計に使用されるイオン源で、電子ビームを放出する電子エミッタアセンブリ、イオン化室、電子レンズおよび少なくとも1つの電極を具備する。前記電子エミッタアセンブリは、基板に固定されており前記電子ビームを放出するカーボンナノチューブ束と、前記電子ビームの放出を制御する第1制御格子と、前記電子ビームのエネルギーを制御する第2制御格子を含む。前記イオン化室は、前記電子ビームを導入させる電子ビーム入口と、試料を導入する試料入口と、イオン化試料分子を出すイオンビーム出口を含む。前記電子レンズは、前記電子エミッタアセンブリと前記イオン化室の間に配置され、前記電子ビームを集束する。前記少なくとも1つの電極は、前記イオンビーム出口の近傍に配置され、前記イオン化室から出る前記イオン化試料分子を集束する。

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真空紫外放射線検出装置10は、チャンバ12内に放射線検出器30を含む。検出器30は、放射線源36から紫外放射線を受け取る。チャンバ12は、乾式真空ポンプ18によって、5Pa以上の比較的低い真空まで排気される。チャンバ12内の全圧力が100〜1,000Paとなるように、UV透過ガスが、比較的低い流量(約0.1リットル/分)でガス供給部26からチャンバ12内に供給される。比較的安価なポンプをより低いガス流量と併せて使用することによって、大幅な費用節減が実現される。
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