【課題】 大面積のパターンでも熱膨張の影響を受けにくい型を提供すること。
【解決手段】 樹脂、特に好ましくはインプリント技術により成型可能な樹脂からなり被成形物200に転写するための成型パターン１ａを有する成型層１と、樹脂の熱膨張係数より低い材料、例えば金属からなる基層２とを有し、被成形物200の被成形面に対し可撓性を有するフィルム状に形成されるインプリント用型。基層２と成形層１の間に基層２及び成形層１の両方と結合する材料からなる中間層を有していても良い。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構造で容易に位置調節を行うことができるインプリント装置及びこれに用いるアライメント機構又は着脱機構を提供すること。
【解決手段】 移動体２とベース部材１との間をシールし閉じた空間を形成するためのシール部材３と、移動体２又はベース部材１に設けられ、シール部材３を収納するための収納溝４と、シール部材３を収納溝４内で移動させるためのシール部材移動手段５と、移動体２、ベース部材１及びシール部材３の間に形成された空間の流体を排出する流体排出手段６と、を具備する着脱手段。また、当該着脱手段と共に、移動体２をベース部材１に対して浮揚させるために、移動体２とベース部材１の間に流体を供給する浮揚流体供給手段８と、移動体２の位置を変えるための変位手段９とを備えるアライメント機構。当該アライメント機構を用いたインプリント装置。 （もっと読む）

【課題】 装置を大型化する際の自由度を上げると共に、ガス漏れが生じにくい切替バルブ、これを用いた熱交換器およびガス処理装置を提供すること
【解決手段】 複数の共通流路２の共通口２Ａに対し、第一ガスを流す第一流路と第二ガスを流す第二流路とを切り替えて接続するための切替バルブ１であって、円筒部15の内部に、第一流路と共通口とを接続するための第一ガス室11と、第二流路と共通口２Ａとを接続するための第二ガス室12とを有すると共に、第一ガス室11を共通口２Ａに接続するための第一接続口11Ａと第二ガス室12を共通口２Ａに接続するための第二接続口12Ａとが円筒部15の曲面13に形成された筐体と、筐体を円筒部15の中心を軸として回転させるための回転手段と、少なくとも共通口２Ａ側に設けられ、筐体が回転する際に円筒部15の曲面13と摺動しながら第一ガスと第二ガスが互いに混合するのを防止するシール部材30と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】 細胞と細胞接着面との接着性を向上し、培養効率を改善した細胞培養構造体、細胞培養容器及びこれらの製造方法を提供すること。
【解決手段】 所定の単位構造を規則的に複数配列した細胞接着面として機能する凹凸構造に放射線を照射して細胞培養構造体を形成する。放射線としてはガンマ線を用いることができる。照射するガンマ線の線量は、５ｋＧｙ以上１５ｋＧｙ以下に調節するのが好ましい。また、凹凸構造は、単位構造間の幅が３μｍ以下である方が良く、また、単位構造の最小内径が３μｍ以下である方が良い。また、凹凸構造としては、環状オレフィン系熱可塑性樹脂等を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】 基板と金型の搬入と搬出とを自動的に実行することができ、効率的に基板の表面にパターンを形成することが可能なパターン形成装置を提供する。
【解決手段】 パターン形成装置は、搬入搬出部１と、パターン形成部３と、これらの搬入搬出部１とパターン形成部３との間に配置された搬送部２と、第２搬送部５とを備える。パターン形成部３は、基板と金型とを位置決めして重ね合わせる位置決めユニット３１と、位置決めユニット３１において位置決め後の基板に対し位置決め後の金型を押し付けるパターン形成ユニット３３と、パターン形成ユニット３３においてパターンが形成された基板からパターン形成に使用された金型を剥離する剥離ユニット３２とを有する。 （もっと読む）

【課題】 大面積の培養面上で培養している細胞の剥離を抑制する細胞剥離抑制器具及びこれを用いた培養容器、細胞剥離抑制方法を提供すること
【解決手段】 細胞を培養するための培養容器１であって、細胞接着面として機能する培養面を有する培養容器本体２と、培養容器本体２に着脱可能であって、当該培養容器本体２内の溶液の動きを抑制するように培養面20を仕切る細胞剥離抑制器具３と、を具備するように形成する。この場合、細胞剥離抑制器具３は、培養面20を仕切る１以上の穴を有するように形成すれば良く、好ましくは、穴の面積を2.25ｃｍ^２以下にするのが良い。 （もっと読む）

【課題】 二次元培養において増殖速度の異なる２種以上の細胞が存在する場合に、増殖速度の遅い細胞が駆逐されることなく、２種以上の細胞が共存して増殖することができる、スフェロイドの作製方法を提供すること。
【解決手段】 細胞接着面として機能する所定の凹凸構造を有する細胞培養基材上で２種以上の細胞を培養することにより、二次元培養用基材上では増殖速度が異なる２種以上の細胞が共存するスフェロイドを形成することが可能となる。この際、凹凸構造面は、所定の平面形状からなるセルを規則的に複数配列した凹凸構造である方が好ましい。 （もっと読む）

【課題】 型と被成型物の間に圧力を均一に加えることができると共に、高速に昇降温することができるインプリント装置及びインプリント方法を提供すること
【解決手段】 型１００のパターンをフィルム状の被成型物２００に転写するためのインプリント装置１であって、型１００を保持するためのステージ１１と、被成型物２００と共に加圧室１２を構成する加圧室用筐体１３と、加圧室用筐体１３と被成型物２００との間を密閉する密閉手段１４と、加圧室用筐体１３と被成型物２００との間を開閉する開閉手段１５と、加圧室１２内の気圧を調節する加圧手段１６と、被成型物２００を加熱するための加熱手段１７と、型１００と被成型物２００の間の気体を除去する脱気手段１８と、を具備するインプリント装置１。 （もっと読む）

【課題】熱インプリント性、耐エッチング性の良好なエッチングマスク、エッチングマスク付き基材、および微細加工品およびその製造方法の提供。
【解決手段】特定の環状オレフィンの開環重合体もしくはその水素化物を少なくとも１種類含有する熱可塑性樹脂からなるエッチングマスク。 （もっと読む）

【課題】ＧａＮ系半導体を用いた発光装置において、光取出効率を増大させる。
【解決手段】サファイア基板１０の表面にナノインプリントプロセス及びＲＩＥでナノ寸法の凹凸構造を形成し、その上にＧａＮ層１４、ｎ型ＧａＮ層１６、活性層１８、ｐ型ＧａＮ層２０を形成する。凹凸構造により活性層１８からの光の反射を抑制する。サファイア基板１０とＧａＮ層１４との界面にＳｉＯ_２あるいは金属を蒸着してもよい。ｐ型ＧａＮ層２０の外表面にナノ寸法の凹凸構造を形成してもよい。 （もっと読む）