【課題】電子ビーム又はイオンビーム撮像機器による極端紫外線リソグラフィ（ＥＵＶＬ）マスク検査の技術を提供する。
【解決手段】結合モジュールは、開口を定める上側部分と、マスク接触要素と、チャック接触要素と、マスク接触要素と上側部分の間に接続された中間要素とを含むことができる。開口の形状及びサイズは、極端紫外線（ＥＵＶＬ）マスクのパターン転写区域の形状及びサイズに対応することができる。結合モジュールは、マスク接触要素がＥＵＶＬマスクの上側部分に接触した状態でチャック接触要素がＥＵＶＬマスクを支持するチャックに接触するような形状及びサイズとすることができる。結合モジュールは、ＥＵＶＬマスクがチャック上に位置決めされた時にＥＵＶＬマスクの上側部分とチャックの間に少なくとも１つの導電経路を更に提供することができる。 （もっと読む）

【課題】設計データを用いた自動レシピ生成の方法及びシステムを提供すること。
【解決手段】コンピュータが設計データに基づいて製造ツールのレシピを作成する。コンピュータは、基本要素及び該基本要素に対応する階層レベルを含む、設計データを取得する。コンピュータは、関心のある１つ又はそれ以上の基本要素を選択し、関心のあるレベルに対応する単純アレイセルの１つ又はそれ以上の組を生成する。コンピュータは、単純アレイセルの組を用いて、関心のあるレベルの座標において周期的領域を識別して自動レシピ作成を可能にする。周期的領域は、１つ又はそれ以上の基本要素に関して識別される。 （もっと読む）

【課題】検査物の急速放電のためのシステム及び方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビームシステム１００の変調器９００が、インダクタ４００に供給する変調信号を生成するように構成され、インダクタ４００が、この変調信号を受け取って、荷電粒子ビームシステム１００のための供給電圧信号をインダクタンスにより変調する。供給電圧信号の変調により、荷電粒子ビームシステム１００により生成された荷電粒子ビームの焦点距離を変更する。 （もっと読む）

【課題】ＯＨＴレールには、交流（ＡＣ）信号が供給される複数対の平行なコンダクタが含まれ、これらのＡＣ信号は電子ビームシステムに誤差を生じさせうる磁界を発生させる。ＡＣ電源システムは、また、粒子ビームの位置誤差を生じさせる磁界も生じさせる。
【解決手段】少なくもと一つの予め決められた周波数帯の中で磁気ノイズを検知し、これにより荷電粒子ビームの位置の検出と同期して磁気ノイズ測定値を供給する、互いに離間して設けられた一つ又は二つ以上のセンサを含む。磁気ノイズの測定及び磁気ノイズの値と粒子ビームの位置誤差との関係に基づいて、磁気ノイズ補償信号が生成される。そして、所望の粒子ビームスキャンパターン及び磁気ノイズ補償信号に応答して、粒子ビームによってオブジェクトがスキャンされる。 （もっと読む）

【課題】自動検査、特に、製造欠陥の解析の方法及びシステムを提供する。
【解決手段】欠陥解析方法は、検査パラメータ値のそれぞれの範囲によって特徴付けられる複数の欠陥部類に対する単一部類分類子を識別する段階を含む。各単一部類分類子は、それぞれの部類に対して、検査パラメータ値に基づいてそれぞれの部類に属する欠陥を識別し、一方でそれぞれの部類に入っていない欠陥を未知欠陥として識別するように構成される。検査パラメータ値に基づいて複数の欠陥部類のうちの１つに各欠陥を割り当てるように構成された多重部類分類子が識別される。検査データが受信され、欠陥を欠陥部類のうちの１つに割り当てるために、単一部類及び多重部類分類子の両方が適用される。 （もっと読む）

【課題】高電子エネルギベースのオーバーレイ誤差測定方法及びシステムを提供する。
【解決手段】方法、システム、及びコンピュータ可読媒体を提供する。本方法は、被検物の第１の層の第１の区域を表す第１区域の情報を取得するか又は受け取る段階であって、被検物が、第１の層の下に埋め込まれて第２の区域を含む第２の層を更に含む段階と、第１の区域と相互作用するように１次電子ビームの電子を誘導する段階と、第２の区域と相互作用するように１次電子ビームの電子を誘導する段階と、第１及び第２の区域のうちの少なくとも一方から散乱又は反射された電子に応答して検出信号を発生させる段階と、検出信号と第１区域の情報とに基づいて、第１区域の少なくとも１つの特徴部と第２区域の少なくとも１つの特徴部の間の少なくとも１つの空間関係を判断する段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】静電チャック、特に、基板に蓄積された電荷を放電するための放電要素を使用するチャックを提供する。
【解決手段】静電チャックは、少なくとも１つの電極を取り囲む絶縁基板と、ウェーハに接触するように配置された上側部分を有する複数の突起と、少なくとも１つの電極と複数の突起の上側部分との間に位置決めされた少なくとも１つの放電要素とを含み、この放電要素は、放電回路に結合された状態で絶縁基板に蓄積された電荷を放電するように配置される。 （もっと読む）

【課題】高速焦点変更能力を有する検査システムを提供する。
【解決手段】検査システムが、入射光ビームに適用される第１の焦点調節機能に対して高速焦点変更を行うように構成された第１の焦点調節装置４０を含む。移動レンズ音響光学装置５０が、第１の焦点調節機能により焦点調節された光ビームを受光し、無線周波数信号に応答して生じる複数の移動レンズを使用して集束点を形成するように構成される。これらの移動レンズが第２の焦点調節機能を適用し、移動レンズ音響光学装置が第２の焦点調節機能を高速で変更するように構成される。この検査システムは、集束点を被検査オブジェクト上に導くとともに、被検査オブジェクト２００からの放射をセンサへ導くように構成された光学素子も含む。 （もっと読む）

【課題】帯電粒子ビームの角状変位を判断し、高い側壁角度均一性の側壁を含むテストオブジェクトの複数の測定値に基づく帯電粒子ビームシステムを較正する為のシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】帯電粒子ビームの経路は、複数のビーム制御パラメータにより制御される。方法は、角状変位を実質的に減少させるパラメータを判断し、これらを適用して帯電粒子ビームシステムを較正する。 （もっと読む）

【課題】 ホトリソグラフィ・マスクに関連したエラー源を評価するシステム及び方法を提供する。
【解決手段】 マスクに関連したエラー源の評価は、（ｉ）異なる露光条件で得られたマスクの複数の画像を表すデータを受け取り、（ii）マスクの各画像の複数のサブフレームに対し、各サブフレームのピクセルの強度の関数の値を計算して、複数の計算値を与え、（iii）それらの計算値に応答し且つ各エラー源に対する関数の感受性に応答してエラー源を検出する、ことを含む。 （もっと読む）