【課題】スキャン移動の効率を向上させることができるレチクルアセンブリを備えるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】第１イメージフィールドおよび第２イメージフィールドが基板上の第１ターゲット部分および第２ターゲット部分上に投影されるリソグラフィプロセスにおいて使用されるレチクルアセンブリＭＴであって、第１イメージフィールドと第２イメージフィールドとの距離が第１ターゲット部分と第２ターゲット部分との距離に対応するように、第１イメージフィールドを有する第１レチクルＭＡ１および第２イメージフィールドを有する第２レチクルＭＡ２を保持するように配置される、レチクルアセンブリＭＴである。 （もっと読む）

【課題】基板表面の高さレベルを決定する際のより多くの融通性及び／又は効率的レベルセンサ技術を提供する。
【解決手段】基板Ｗ表面の高さレベルを決定するように構成されたレベルセンサであって、基板Ｗ上の反射後に測定ビームを受光するように配置された検出ユニットを備え、検出ユニットは、各検出素子が測定エリア８１、８２、８３、８４の測定サブエリア８ａ上に反射した測定ビームの一部を受光するように配置された検出素子のアレイを備え、それぞれの検出素子によって受光された測定ビームの部分に基づいて測定信号を提供するように構成され、処理ユニットは、測定サブエリア８ａでの選択された解像度に応じて、測定サブエリア８ａの高さレベルを計算し、又は複数の測定サブエリア８ａの組合せの高さレベルを計算するように構成された、レベルセンサを提供する。 （もっと読む）

【課題】例えば、１つ又は複数の放射ビームの波長の公称値からのずれによってもたらされる１つ又は複数の問題を緩和し又は最小化することができるリソグラフィシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、複数の放射ビームを基板に投影する投影系を有しており、複数の放射ビームは、第１波長範囲内の放射から形成される第１の１つ又は複数の放射ビームのグループと、第１波長範囲と異なる第２波長範囲内の放射から形成される第２の１つ又は複数の放射ビームのグループと、を備える。また、本装置は、第１のグループの１つ又は複数の放射ビームが第２のグループの１つ又は複数の放射ビームと異なる角度で分散素子に入射し、かつ分散素子から出力される第１及び第２のグループの１つ又は複数の放射ビームが実質的に平行であるように構成されている分散素子を備える。 （もっと読む）

【課題】基板を基板テーブル上に、低応力または応力がない状態で位置決めする。
【解決手段】パターニングデバイスから基板上にパターンを転写するように配置されたリソグラフィ装置であって、リソグラフィ装置は、基板を保持するように構築された基板テーブルと、基板を基板テーブル上に位置決めするように配置されたグリッパと、を備える。グリッパは、基板をその上面においてクランプするように配置された真空クランプを有する。一実施形態では、真空クランプは、基板頂面の周縁外側帯の少なくとも一部をクランプするように配置される。グリッパを用いて、基板をリソグラフィ装置の基板テーブル上に位置決めすることを含む基板ハンドリング方法も提供される。かかる方法は、グリッパの真空クランプを用いて基板をその上面においてクランプすることを含む。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置においてウェーハの露光前の熱調整を改善または簡易化する。
【解決手段】 リソグラフィ装置は、基板を保持するように構築された基板テーブルと、基板テーブルを受けるように構成された区画と、露光対象の基板を受け取り、かつ該基板を熱調整するように配置された熱調整ユニットと、熱調整された基板を基板テーブルへ移送するように構成された移送システムと、を備え、基板テーブルおよび熱調整ユニットは、少なくとも熱調整された基板が熱調整ユニットから基板テーブルへ移送される間、リソグラフィ装置の前記区画内に配置される。 （もっと読む）

【課題】泡混入の可能性が少なくとも低減され、及び／又は、気体抗力原理を利用する流体ハンドリング構造内のガスのフローと比較して、ガスのフローを低減するリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】液体を空間に閉じ込めるリソグラフィ装置用の流体ハンドリング構造であって、空間を囲む下表面上において、流体ハンドリング構造の下表面上へと液体を供給する液体供給口を備えるとともに、液体供給口の空間に対して半径方向内側に、液体を空間から抽出し液体供給口から下表面上の液体を抽出する液体抽出口の二次元アレイを備える。 （もっと読む）

【課題】１つ又は複数の薄膜コンポーネントなどの１つ又は複数の電子コンポーネントがその上で形成される基板テーブル又は基板ホルダを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置の基板ホルダは、その表面に設けられた平坦化層を有する。平坦化層は、電子コンポーネントを形成する薄膜スタックを形成するために滑らかな表面を提供する。平坦化層は実質的に均一な厚さである、及び／又はその外面は１０μｍ未満の山部から谷部までの距離を有する。平坦化層は、異なる濃度の２つの溶液を付与することによって形成することができる。バールに表面処理を施して、平坦化層材料の溶液を反発することができる。 （もっと読む）