【課題】基盤の色調を維持しつつ太陽光のエネルギーを効率よく反射して太陽光による基盤の加熱を抑制することができ、住宅等の冷房負荷を低減することができる輻射伝熱制御膜を提供する。
【解決手段】所定の粒径を有する第１微粒子１２が、太陽光の近赤外線成分を散乱可能に、所定の粒子密度で、可視光に対して透明な基材１１中に分布している。第１微粒子１２の粒径より小さい粒径を有する第２微粒子１３が、太陽光の紫外線成分を散乱可能に、所定の粒子密度で基材１１中に分布している。第１微粒子１２および第２微粒子１３は、酸化チタン、アルミナまたはジルコニアから成っている。 （もっと読む）

【課題】磁気素子本体に電流を流すことなく、磁性体電極の磁化反転が可能な磁気素子及び集積回路並びに磁気ランダムアクセスメモリを提供する。
【解決手段】磁気素子１は、基板６上に第１の強磁性体電極３及び第２の強磁性体電極４を隔置し磁気素子本体２と、第１の強磁性体電極３に接触して高スピンホール効果を有する電極５を配設し、高スピンホール効果を有する電極５に電流を流して第１の強磁性体電極３へスピン注入して磁化反転する。磁気素子本体２へ電流を流すのではなく、高スピンホール効果を有する電極５に電流を流すことでスピンホール効果によるスピン分極を発生させ、第１の強磁性体電極３への移行により磁化反転できる。高インピーダンスの微小磁気メモリ素子及び磁気論理素子やスピン電界効果トランジスタを多段に接続した再構成可能微小磁気論理素子の磁化反転が可能となる。 （もっと読む）

【課題】マグネトロンスパッタ法において短冊形ターゲットを使用して半導体ウエハにスパッタ成膜を効率的かつ均一に行えるようにする。
【解決手段】被成膜体の半導体ウエハをウエハ配置面Ｐ上の円形基準領域Ａにぴったり重ねて配置する。そして、円形基準領域Ａの中心Ａ_Oを通る法線を回転中心軸として半導体ウエハを所定の回転数で同軸回転させる。そうすると、半導体ウエハ表面の各部は、一回転毎に、半径Ｒ／２よりも内側のウエハ中心部は短冊形堆積領域Ｂ₁のみを通過する間に短冊形ターゲット１０(1)からのスパッタ粒子を浴び、半径Ｒ／２よりも外側のウエハ周辺部では両短冊形堆積領域Ｂ₁，Ｂ₂を通過する間に両短冊形ターゲット１０(1)，１０(2)からのスパッタ粒子を浴びるという形態のスパッタ成膜処理を受ける。 （もっと読む）

【課題】特性インピーダンスが入力側と出力側で異なる同軸管構造を有するプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波によりガスを励起させて基板をプラズマ処理するマイクロ波プラズマ処理装置１０は、処理容器１００と、マイクロ波を出力するマイクロ波源９００と、マイクロ波源９００から出力されたマイクロ波を伝送させる第１の同軸管６１０と、処理容器１００の内側に面した状態で第１の同軸管６１０に隣接し、第１の同軸管６１０を伝送したマイクロ波を処理容器１００の内部に放出する誘電体板３０５と、を備える。第１の同軸管６１０の内部導体６１０ａと外部導体６１０ｂとの太さの比は長手方向に沿って一様でない構造を有している。 （もっと読む）

【課題】多分岐部分にて特性インピーダンスを調整するプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波によりガスを励起させて被処理体をプラズマ処理するプラズマ処理装置は、処理容器と、マイクロ波源９００と、マイクロ波を伝送する伝送線路９００ａと、処理容器の内壁に設けられ、マイクロ波を処理容器内に放出する複数の誘電体板３０５と、複数の誘電体板３０５に隣接し、マイクロ波を複数の誘電体板３０５に伝送する複数の第１の同軸管６１０と、伝送線路９００ａを伝送したマイクロ波を複数の第１の同軸管６１０に分配して伝送する１段又は２段以上の同軸管分配器７００とを有する。同軸管分配器７００は、入力部Ｉｎを有する第２の同軸管６２０と第２の同軸管６２０に概ね垂直に連結された３本以上の第３の同軸管６３０とを含み、各第３の同軸管６３０は、インピーダンス変換機構を有する。 （もっと読む）

【課題】高い体積抵抗率と優れた温度特性を備え、さらに優れた熱間加工性を備えた抵抗合金を提供する。
【解決手段】本発明の抵抗合金は、化学組成が質量％で、Ｍｎ：２７．５〜３５％、Ａｌ：８〜１０％、Ｃｒ：５〜７％、Ｃ：１．０〜１．２％を含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる。前記基本成分に、Ｂ：１．５％以下、Ｎ：１．５％以下、Ｍｇ群（Ｍｇ、Ｓｉ）の内から１種又は２種を合計量で５．０％以下、Ｔｉ群（Ｔｉ、Ｍｏ）の内から１種又は２種を合計量で５．０％以下、Ｃｏ群（Ｃｏ、Ｎｉ）の内から１種又は２種を合計量で５．０％以下およびＷ：５．０％以下から選ばれる１種又は２種以上の元素を含有させることができる。 （もっと読む）

【課題】非晶質半導体薄膜の結晶化と選択的な高濃度不純物拡散をひとつの工程で行うことにより薄膜トランジスタの製造工程を簡単にし，製造コストを低減する。
【解決手段】絶縁基板上の非晶質半導体薄膜上に堆積した不純物を含む皮膜を所定の形状にパターン形成し、外方拡散防止膜で被覆したのち，連続発振レーザを照射することにより該非晶質の結晶化と同時に，該皮膜から不純物を該薄膜に選択的に高濃度に拡散させることにより半導体薄膜トランジスタを製造する。 （もっと読む）

【課題】細径かつ広い内腔を確保した高機能部品が作成可能であり、らせん加工により可撓性を付加することで硬性部を最適限の短さに最適化でき、さらに細径を保ったまま集積回路やマイクロセンサなどの各種微小部品を容易に実装できる高機能な低侵襲医療ツールを提供すること。
【解決手段】カテーテルや内視鏡等の低侵襲医療ツールにおいて、外周面に回路パターンを有するチューブ形状絶縁基板を貫通加工し機械的な機能を付加した。 （もっと読む）

【課題】分岐部分にて非垂直に延伸する同軸管を含んだ同軸管分配器を提供する。
【解決手段】マイクロ波によりガスを励起させて被処理体をプラズマ処理するプラズマ処理装置１０であって、処理容器１００と、マイクロ波を出力するマイクロ波源９００と、マイクロ波源９００から出力されたマイクロ波を伝送する伝送線路９００ａと、処理容器１００の内壁に設けられ、マイクロ波を処理容器内に放出する複数の誘電体板３０５と、複数の誘電体板３０５に隣接し、マイクロ波を複数の誘電体板３０５に伝送する複数の第１の同軸管６１０と、伝送線路９００ａを伝送したマイクロ波を複数の第１の同軸管６１０に分配して伝送する１段又は２段以上の同軸管分配器７００と、を有する。同軸管分配器７００は、入力部Ｉｎを有する第２の同軸管６２０と第２の同軸管６２０に連結された３本以上の第３の同軸管６３０とを含み、第３の同軸管６３０のそれぞれは、第２の同軸管６２０に対して非垂直に延伸する。 （もっと読む）

【課題】基板に対する処理の均一性をより向上させることを目的としている。
【解決手段】プラズマ処理される基板Ｇを収納する金属製の処理容器４と、処理容器４内にプラズマを励起させるために必要な電磁波を供給する電磁波源８５とを備え、電磁波源８５から供給される電磁波を処理容器８５の内部に透過させる、処理容器４の内部に一部を露出させた複数の誘電体２５を、処理容器４の蓋体３下面に備えたプラズマ処理装置であって、誘電体２５の下面に、蓋体３と電気的に接続された金属電極２７が設けられ、金属電極２７と蓋体３下面の間に露出する誘電体２５の部分が、処理容器４の内部から見て実質的に多角形の輪郭をなし、複数の誘電体２５は、多角形の輪郭の頂角同士を隣接させて配置され、処理容器４の内部に露出した蓋体３下面と金属電極２７下面に、電磁波を伝搬させる表面波伝搬部が設けられている。 （もっと読む）