【課題】結晶配向を制御したセラミックスの製法の提供。このように結晶配向制御されたセラミックスは電気抵抗に異方性を持ち、熱電変換セラミックスとして利用することができる。
【解決手段】拡散による結晶粒間の変形の緩和が生じうる温度と歪み速度を選定することにより大歪み加工を達成した。即ち、不整合結晶構造を持つＣｏ酸化物から成る多結晶を８００℃以上から該結晶の融点の３０℃下の温度までの温度範囲にて１．０×１０^−５〜１．０×１０^−３ｓ^−１の歪み速度で圧縮加工を行うことにより、この多結晶の（００１）面上ですべり変形を生じさせることができる。 （もっと読む）

【課題】イオン液体を含有する高強度の新規なゲル状組成物、及びその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ポリエチレングリコール骨格を有するポリマー、及びイオン液体を含むゲル状組成物であって、当該ポリマーが前記ポリエチレングリコール骨格の架橋により網目構造を有する、ゲル状組成物。該ポリマーがハイドロゲルを形成し得るポリマーであり、末端アミノ基を有するポリマー（１）と末端スクシンイミドを有するポリマー（２）を含み、互いの末端がアミド結合で架橋することにより網目構造を有するゲル状組成物。 （もっと読む）

【課題】側鎖にヘテロ原子に結合したカルボニル基（Ｃ＝Ｏ）を有し、カルボン酸基を有さないポリマーを用い、かつ現像液にテトラ置換アンモニウムヒドロキシドを含む水溶液を用いてフォトレジストを形成する方法を提供する。
【解決手段】基板上に側鎖にヘテロ原子に結合したカルボニル基を有し、カルボン酸基を有さないポリマー及び光酸発生剤から成るフォトレジスト層を設け、所望のパターンでマスクする段階、このパターン面に紫外線を照射する段階、及び該フォトレジスト層を現像液で処理する現像段階から成る反応現像画像形成法であり、この現像液はテトラ置換アンモニウムヒドロキシド及び低分子アルコールを含む水溶液である。ポリマーの構造により、ポジ型又はネガ型のフォトレジストが得られる。 （もっと読む）

【課題】グラフェンリボンの幅を揃えることを可能にすると共に、幅の揃ったグラフェンリボンを基板全面に備えることが出来る、グラフェンリボンを備える単結晶絶縁性基板の製造方法、及び、グラフェンリボンを備える単結晶絶縁性基板を提供する。
【解決手段】単結晶絶縁性基板を用意し、基板表面にグラフェンを固定し、コア粒子を内包するタンパク質の外径をピッチとして、コア粒子を内包するタンパク質を等間隔にグラフェン上に配置し、タンパク質を除去してコア粒子をグラフェン上に配置し、コア粒子によりグラフェンを切断して、グラフェンリボンを形成する。 （もっと読む）

【課題】優れた熱伝導性を有する新規な高結晶性の六方晶炭窒化ホウ素及びそれを高い反応率で効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】黒鉛化指数（ＧＩ）が７．０以下である六方晶炭窒化ホウ素が提供される。また、炭化ホウ素を、窒素を含む雰囲気中２３００℃以上２５００℃以下で加熱する六方晶炭窒化ホウ素の製造方法が提供される。また、窒素を含む雰囲気の圧力が、０．１ＭＰａ以上１ＭＰａ以下である六方晶炭窒化ホウ素の製造方法。樹脂及び／又はゴムに六方晶炭窒化ホウ素を含有させてなる組成物が提供される。 （もっと読む）

【課題】ｈ−ＢＮと新規な高結晶性ｈ−Ｂ_４ＣＮ_４の混合物及びそれを高い反応率で効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】黒鉛化指数（ＧＩ）が７．０以下である、六方晶窒化ホウ素及び六方晶炭窒化ホウ素の混合物。六方晶窒化ホウ素及び炭化ホウ素の混合物を窒素雰囲気下、１９５０〜２５００℃で加熱することを特徴とする、六方晶窒化ホウ素及び六方晶炭窒化ホウ素の混合物の製造方法。樹脂及び／又はゴムに六方晶窒化ホウ素及び六方晶炭窒化ホウ素の混合物を含有させてなることを特徴とする組成物。 （もっと読む）

【課題】ゼオオライトを粉砕して粒径が０．５μｍ以下の微細なゼオライト結晶を製造しようとすると、非晶質化し、結晶性が低下して、ゼオライト本来の性能を発揮できなくなる。非晶質の無い又は非常に少ない微細なゼオライトを製造する方法を提供する。
【解決手段】一旦ゼオライトを粉砕して得られる粒径が０．５μｍ以下の微細なゼオライトを、特定組成のシリケート溶液に分散させ、再結晶させることにより、非晶質の無い又は非常に少ない微細なゼオライトを製造する。得られたゼオライト微粒子は、結晶性が向上し、触媒特性などの性能に優れる。 （もっと読む）

【課題】モノシランガスの原料であるシリサイドを安定かつ安価に提供する。
【解決手段】炭素-珪素化合物をマグネシウム含有金属存在下で加熱する。 （もっと読む）

【課題】新規な化学構造の植物用抵抗性誘導剤の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物を有効成分とする植物用抵抗性誘導剤（式中、Ｘ^１は下記一般式（１ａ）又は（１ｂ）で表される基であり；Ｘ^２及びＸ^３はカルボニル基又は下記一般式（１ｃ）で表される基であり；Ｚは水素原子以外の一価の基であり；Ｒ^１は水素原子又は炭化水素基であり；Ｒ^２は炭化水素基であり；Ｙ^１は芳香族基であり；ｍは０〜４の整数である。）。
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【課題】水平方向に無指向性であり、低姿勢化された水平偏波用のアンテナと、偏波共用のアンテナとを提供する。
【解決手段】水平偏波用のアンテナは、導電性の反射板、誘電体基板、給電点、励振部、無給電素子、給電部、地導体を備える。励振部は、誘電体基板の反射板の反対側の面上に形成される。地導体は、誘電体基板の反射板側の面上に配置される。地導体を切り欠くことでノッチが３つ以上放射状に形成される。励振部は、ノッチと対応する位置にノッチを横切るように形成された励振線路と、給電点と励振線路とを接続する給電線路とで構成される。無給電素子は、誘電体基板の一方または両方の面に形成される。偏波共用のアンテナは、水平偏波用のアンテナに、導体板、導体板に形成された第２の給電点、複数のショートピンを付加する。導体板は、反射板と誘電体基板との間に配置される。 （もっと読む）