説明

ショット アクチエンゲゼルシャフトにより出願された特許

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【課題】反射防止層の耐摩耗性を改良したコーティングされた基板とそのコーティング方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一面に、多層反射防止コーティング5を有し、その多層反射防止コーティング5は、より高い屈折率を有する層51,53とより低い屈折率を有する層52,54とが交互になっている、異なる屈折率を有する複数の層から形成されており、その際、より低い屈折率を有する層52,54は、アルミニウム分を有する酸化ケイ素から形成されており、ケイ素に対するアルミニウムの物質量の比は、0.05より大きく、好ましくは0.08より大きいが、ケイ素の物質量は、アルミニウムの物質量に比べて多く、その際、より高い屈折率を有する層51,53は、ケイ化物、酸化物または窒化物を含有している。 (もっと読む)


【課題】一方で付加的な部材又は支持要素の組込みを排除し、他方で動的応力及び静的応力に対する略等価な機械的安定性を示す、基板用の軽量構造を提供する。
【解決手段】モノリシック基板10は、軽量構造を有するためにガラス又はガラスセラミックを含む。軽量構造は、網状構造、例えば四角形又は四つ角を有する形状のポケットを形成する網状構造によって範囲が定められる凹部を含む。該軽量構造に起因して、基板10の重量が大幅に低減されると同時に、高い剛性が確保され得る。基板10は好ましくは、ミラー支持体又はミラーとして使用され、地球上及び/又は地球外で利用することができる。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、ウェハ・レベル・パッケージング・プロセスに関係し、またこの方法でパッケージングされたコンポーネントに関係する。
【解決手段】
本発明の目的は、高い歩留まりを保証し、光学および/または微小機械コンポーネントにも好適であり、機能領域からの接続部の改善された熱機械的減結合を達成するこのタイプのプロセスを実現することである。
本発明のプロセスによれば、ベース基板は、複数の本体領域と複数の接続領域に分割され、本体領域はそれぞれの場合に機能領域上に広がり、接続領域は接触接続陥凹部に関してオフセットされる。次いで、コンポーネントは、本体領域および接続領域内で異なる厚さを持つようになるまで本体領域または接続領域内で薄くされ、その後、ウェハ・アセンブリは複数のチップにダイスカットされる。 (もっと読む)


【課題】1.5mm未満の厚さ、少なくとも1800mmの長さ、少なくとも1800mmの幅をもち、及び最小厚と最大厚の差が50μm未満である、特にディスプレイ製作用の薄平板ガラス基板を提供する。
【解決手段】品質向上された平板ガラス基板製造のためのフロートガラス加工処理において、形成中のガラスシートの両面上の熱拡散領域中の溶融金属中にフラグを設けて形成される薄平板ガラス基板における厚さ変動を最小減に抑える。 (もっと読む)


【課題】特にPbO、TlO、TeO及びAsを用いない、好ましくは弗素及びGdを用いない環境保護的考慮がなされた光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率nが1.91≦n≦2.05、アッベ数vが19≦v≦25である鉛及び砒素非含有光学ガラスであって、次の組成(酸化物に基づく重量%で)、即ちBi55−70、GeO13−21、SiO0−9、B0−10、LiO0−5、NaO0−5、KO0−5、CsO0−6、MgO0−10、CaO0−10、SrO0−10、BaO0−10、ZnO0−10、TiO0−5、La0−7、Wo0−6、Nb0−6、Σアルカリ金属酸化物0−5、Σアルカリ土類金属酸化物0−10、Σ(La+WO+Nb+TiO)0−8、通常の清澄剤0−2を含み、BiとGeOの比を5以下とすることを特徴とするガラス。 (もっと読む)


【課題】ガラス製造のための成形プロセスを、高いスズ含分を有するガラス溶融物、特にリチウムアルミノシリケートガラスセラミックについて許容される範囲の粘度を保証しつつ、可能にする
【解決手段】ガラス溶融物を生成する段階、ガラス溶融物を造形する段階、冷却し、且つ応力を緩和する段階、および、後処理する段階を含む製造方法において、成形プロセスについて還元条件を生じさせるために、ガラスの境界面にて、ガラスを収容し、ガラスを導き、またはガラス内に導入される物体にて、および/または必要とされる媒体内で、支配的な酸素分圧(pO2)を局所的に調整して、ガラスからのスズ含有成分の離溶を回避することを特徴とする、製造方法によって解決される。 (もっと読む)


【課題】光学構成部分を製造するための、経済性と加工処理可能ガラスの種類とに関して改善された方法提供する。
【解決手段】ガラス融液が割り当てられ、割当てによって保持されたガラス割当て分7が、浮揚支持台5の上に作られた浮揚クッション15の上に支持され、ガラス割当て分7の粘性は支持中に表面において粘着粘性にまたはそれ以上になるまで冷却され、ガラス割当て分7は内部においては少なくとも部分的に軟化点以下の粘性を有し、ガラス割当て分7はプレス型の中に送られ、プレス型の中でガラス成形される。 (もっと読む)


【課題】赤外線放射を反射する熱安定性の透明ガラス又はガラスセラミック製窓ガラスを製造する方法に関し、オーブン又は暖炉のための前面窓ガラス、及び防火ガラスのような、高温において利用するためののぞき窓ガラスに用いるガラスセラミック製窓ガラスを提供する。
【解決手段】透明ガラス又はガラスセラミック製窓ガラス1は、4.2未満の熱膨張係数αを有するガラス又はガラスセラミック基板2と、単層反射層として形成され、2.2よりも大きな屈折率を有する赤外線放射反射層3とを含む。 (もっと読む)


【課題】特にエアバッグやベルトテンショナの点火装置のように高い圧力を受ける装置の特に金属・固定材料ブッシングのためのリング状またはプレート状の部材を提供する。
【解決手段】リング状またはプレート状の部材1は、貫通孔10を有しており、貫通孔はリング状またはプレート状の部材の実質的に中央部に配置されており、リング状またはプレート状の部材は厚みDを有している。リング状またはプレート状の部材が貫通孔の領域に開放領域5を有しており、リング状またはプレート状の部材が開放領域で少なくとも開放領域の高さHFだけ低減された厚みDRを有しており、該厚みは、低減された厚みをもつリング状またはプレート状の部材から貫通孔を打抜くことができるように選択されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、プラズマ化学気相堆積時の基板の加熱を低減する目的に基づいている。
【解決手段】そのために、プラズマ気相堆積を用いて基板をコーティングするための方法および装置が提供されるが、その方法および装置では、コーティングしようとする基板の基板表面の周囲の少なくとも一部が排気され、コーティングのための開始物質をもつプロセス・ガスが入れられ、コーティングが、プロセス・ガスで満たされた基板表面の周囲で電磁エネルギーを放射することによって点火されるプラズマにより堆積される。電磁エネルギーは、好ましくはマイクロ波または無線周波のパルスの、多数のパルス・シーケンスの形態で放射され、そのパルス・シーケンスは第1の間隔で時間的に間隔をあけられた多数のパルスをもち、放射された電磁エネルギーはその間隔で停止され、パルス・シーケンス間の間隔は、パルス・シーケンス内のパルス間の第1の間隔より少なくとも3倍、好ましくは少なくとも5倍長い。 (もっと読む)


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