説明

テイボテク・フアーマシユーチカルズにより出願された特許

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【化1】


Wが式(II)、(II)、(IV)又は(V)の複素環であり;そして残る可変項が明細書中で定義された通りである式(I)のHCV複製の阻害剤。
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式(I)
【化1】


[式中、各点線(−−−−−で表される)は場合により存在しうる二重結合を表し;XはN、CHであり、そしてXが二重結合を保有する場合にはそれはCであり;Rは−OR、−NH−SOであり;Rは水素であり、そしてXがCもしくはCHである場合には、RはまたC1〜6アルキルであることもでき;Rは水素、C1〜6アルキル、C1〜6アルコキシC1〜6アルキルもしくはC3〜7シクロアルキルであり;nは3、4、5もしくは6であり;RおよびRは相互から独立して水素、ハロ、ヒドロキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、C1〜6アルキル、C1〜6アルコキシ、C1〜6アルコキシC1〜6アルキル、C1〜6アルキルカルボニル、C1〜6アルコキシカルボニル、アミノ、アジド、メルカプト、C1〜6アルキルチオ、ポリハロC1〜6アルキル、アリールもしくはHetであり;WはアリールもしくはHetであり;Rは水素;アリール;Het;場合によりC1〜6アルキルで置換されていてもよいC3〜7シクロアルキル;または場合によりC3〜7シクロアルキル、アリールでもしくはHetで置換されていてもよいC1〜6アルキルであり;Rはアリール;Het;場合によりC1〜6アルキルで置換されていてもよいC3〜7シクロアルキル;または場合によりC3〜7シクロアルキル、アリールでもしくはHetで置換されていてもよいC1〜6アルキルであり;アリールは各々場合により1〜3個の置換基で置換されていてもよい、フェニルもしくはナフチルであり;Hetは、N、OもしくはSから各々独立して選択される1〜4個のヘテロ原子を含有しそして場合により1〜3個の置換基で置換されていてもよい5もしくは6員の飽和した、部分的に不飽和のもしくは完全に不飽和の複素環である]
のHCV複製の阻害剤およびそのN−オキシド、塩もしくは立体異性体;化合物(I)を含有する製薬学的組成物および化合物(I)を製造する方法。リトナビルと式(I)のHCVの阻害剤との生物学的に利用可能な組み合わせもまた提供される。
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【化1】


式(I)、そのN−オキシド、塩、および立体化学的異性体のHCV複製のインヒビター(式中の定義は明細書に記載する);式(I)の化合物を含有する製薬学的組成物、および化合物(I)の製造法。式(I)のHCVのインヒビターとリトナビルとの生物学的に利用可能な組み合わせ物も提供する。
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式(I)
【化1】


[式中、Aは、OR、NHS(=O)であり、ここで、Rは、水素、C−Cアルキル、C−Cアルキレンカルボシクリル、C−Cアルキレンヘテロシクリルであり、Rは、C−Cアルキル、C−Cアルキレンカルボシクリル、C−Cアルキレンヘテロシクリルであり、pは、独立して、1または2であり、nは、3、4、5または6であり、−−−は、任意の二重結合を表し、Lは、NまたはCRzであり、Rzは、Hであるか、或は星印付き炭素と一緒に二重結合を形成しており、Rqは、Hであるか、或はLがCRzの時には、RqはまたC−Cアルキルであってもよく、Rrは、場合によりC−Cアルキル、C−Cアルコキシ、ヒドロキシル、ハロ、ハロC−Cアルキル、アミノ、モノ−もしくはジアルキルアミノ、モノ−もしくはジアルキルアミノカルボニル、C−Cアルキルカルボニルアミノ、C−CアルキレンカルボシクリルおよびC−Cアルキレンヘテロシクリルから各々独立して選択される1、2または3個の置換基で置換されていてもよいキナゾリニルであり、Rは、水素、C−Cアルキル、C−CアルコキシC−CアルキルまたはC−Cシクロアルキルであり、Rは、水素、C−Cアルキル、C−Cアルコキシ、C−Cアルキレンカルボシクリル、C−Cアルキレンヘテロシクリル、ヒドロキシ、ブロモ、クロロまたはフルオロである]で表される化合物およびこれらのN−オキサイド、塩および立体異性体形態物はフラビウイルス感染、例えばHCVなどの治療または予防で用いるに有用である。
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式(I)
【化1】


[式中、破線は、原子C7とC8の間の任意の二重結合を表し、Rは、水素またはC1−6アルキルであり、Rは、水素またはC1−6アルキルであり、そしてnは、3、4、5または6である]で表されるHCV阻害剤およびこれらのN−オキサイド、塩および立体異性体、化合物(I)を含有させた製薬学的組成物、および化合物(I)の製造方法を提供する。また、式(I)で表されるHCV阻害剤とリトナビルの生物学的利用性組み合わせも提供する。
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【化1】


式(I)のHCV複製のインヒビター及びそれらのN−オキシド、塩及び立体異性体[式中、点線はそれぞれ場合により存在しうる二重結合を表し;XはN、CHであり、そしてXが二重結合を担持する場合はそれはCであり;R1a及びR1bは水素、C3−7シクロアルキル、アリール、Het、C1−6アルコキシ、場合によりハロ、C1−6アルコキシ、シアノ、ポリハロC1−6アルコキシ、C3−7シクロアルキル、アリール又はHetで置換されていてもよいC1−6アルキルであるか;あるいはR1a及びR1bは、それらが結合されている窒素と一緒になって、場合により置換されていてもよい、4〜6員の複素環式環を形成し;Lは直接結合、−O−、−O−C1−4アルカンジイル−、−O−CO−、−O−C(=O)−NR5a又は−O−C(=O)−NR5a−C1−4アルカンジイル−であり;Rは水素であり、そしてXがC又はCHである場合は、RはまたC1−6アルキルであってもよく;Rは水素、C1−6アルキル、C1−6アルコキシC1−6アルキル、C3−7シクロアルキル、アミノ、モノ−もしくはジC1−6アルキルアミノであり;Rはアリール又は飽和、一部不飽和もしくは完全に不飽和の5もしくは6員の単環式又は9〜12員の二環式複素環式環系であり、ここで該環系は1個の窒素及び、場合によりO、S及びNから選択される1〜3個の更なるヘテロ原子を含有し、そしてここで残りの環員は炭素原子であり;ここで該環系は場合により置換されていてもよく;nは3、4、5又は6であり;pは1又は2であり;アリールは、それぞれ、場合により1、2又は3個の置換基で置換されていてもよいフェニル、ナフチル、インダニル又は1,2,3,4−テトラヒドロナフチルであり;そしてHetは、場合によりベンゼン環と縮合されていてもよく、そしてHetは場合により1、2又は3個の置換基で置換されていてもよいN、O及びSから選択される1〜4個のヘテロ原子を含有する、5もしくは6員の飽和、一部不飽和又は完全に不飽和の複素環式環である];化合物(I)を含有する製薬学的組成物並びに化合物(I)を製造する方法。
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【化1】


式(I)[式中、Qは水素、場合により複素環で置換されていてもよいC1−6アルキルであるか、あるいはQは基−OR及び複素環の双方で置換されたC1−6アルキルであり;ここで該複素環はオキサゾリジン、チアゾリジン、1−オキソ−チアゾリジン、1,1−ジオキソチアゾリジン、モルホリニル、チオモルホリニル、1−オキソ−チオモルホリニル、1,1−ジオキソチオモルホリニル、ヘキサヒドロオキシアゼピン、ヘキサヒドロ−チアゼピン、1−オキソ−ヘキサヒドロチアゼピン、1,1−ジオキソ−ヘキサヒドロチアゼピン、ピロリジン、ピペリジン、ホモピペリジン、ピペラジンであり、その複素環は1〜2個の置換基で置換されていてもよく;各AlkはC1−6アルカンジイルであり;RはArあるいは、場合により置換されていてもよいピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピリジル、ピラジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、フラニル、テトラヒドロ−フラニル、チエニル、ピロリル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、イソチアゾリル、ピラゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、キノリニル、キノオキサリニル、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル、ベンズイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンズチアゾリル、ピリドピリジル、ナフチリジニル、1H−イミダゾ[4,5−b]ピリジニル、3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジニル、イミダゾ[1,2−a]ピリジニル又は2,3−ジヒドロ−1,4−ジオキシノ[2,3−b]ピリジルであり;RはヒドロキシC1−6アルキル、C1−6アルコキシC1−6アルキル、シアノC1−6アルキル、アミノカルボニルC1−6アルキル、モノ−もしくはジ(C1−6アルキル)アミノカルボニル−C1−6アルキル、カルボキシル−C1−6アルキル、C1−6アルコキシカルボニル−C1−6アルキルであり;Rは水素又はC1−6アルキルであり;R及びRは水素、C1−6アルキル、Ar、Ar1−6アルキル、C1−6アルキルカルボニル、Arカルボニル、Ar1−6アルキルカルボニル、C1−6アルキルスルホニル、アミノスルホニル、Arスルホニル、Ar1−6アルキルスルホニル、C1−6アルキルオキシC1−6アルキル、アミノC1−6アルキル、モノ−もしくはジ(C1−6アルキル)−アミノC1−6アルキル、ヒドロキシC1−6アルキル、アミノカルボニルC1−6アルキル、C1−4アルキルオキシカルボニル−C1−6アルキル、ヒドロキシカルボニルC1−6アルキル、アミノスルホニルC1−6アルキル、Het、Het−C1−6アルキル、Het−カルボニル、Het−スルホニル、HetC1−6アルキルスルホニル、Het−C1−6アルキルカルボニルであり;Hetは場合により置換されていてもよい複素環である]のRSV複製インヒビター、それらの付加塩及び立体化学的異性体形態物、化合物(I)を含有する製薬学的組成物並びに化合物(I)を調製する方法。
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【化1】


式(I)[式中、Rは式(a)又は(b)の基であり;Qは水素又は、場合により複素環で置換されていてもよいC1−6アルキルであるか、あるいはQは基−OR及び複素環の双方で置換されたC1−6アルキルであり;AlkはC1−6アルカンジイルであり;XはO又はSであり;−a=a=−a=a−は−N=CH−CH=CH−、−CH=N−CH=CH−、−CH=CH−N=CH−又は−CH=CH−CH=N−であり;RはAr又は複素環であり;Rは水素、C1−6アルキル、置換C1−6アルキル、C3−7シクロアルキルであり;Rは水素、C1−6アルキル、シアノ、アミノカルボニル、ポリハロC1−6アルキル、C2−6アルケニル又はC2−6アルキニルであり;Rは水素又はC1−6アルキルであり;Arはフェニル又は置換フェニルであり;Hetは複素環である]により表すことができる式(I)のRSV複製のインヒビター、それらの塩及び立体化学的異性体形態、化合物(I)を含有する製薬学的組成物並びに化合物(I)を調製する方法。
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【化1】


式(I)[式中、Qは水素、場合により複素環で置換されていてもよいC1−6アルキルであるか、あるいはQは基−OR及び複素環の双方で置換されたC1−6アルキルであり;ここで該複素環はオキサゾリジン、チアゾリジン、1−オキソ−チアゾリジン、1,1−ジオキソチアゾリジン、モルホリニル、チオモルホリニル、1−オキソ−チオモルホリニル、1,1−ジオキソチオモルホリニル、ヘキサヒドロオキシアゼピン、ヘキサヒドロチアゼピン、1−オキソ−ヘキサヒドロチアゼピン、1,1−ジオキソ−ヘキサヒドロチアゼピン、ピロリジン、ピペリジン、ホモピペリジン、ピペラジンであり、その複素環は1〜2個の置換基で置換されていてもよく;各AlkはC1−6アルカンジイルであり;RはAr又は、場合により置換されていてもよいピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピリジル、ピラジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、フラニル、テトラヒドロフラニル、チエニル、ピロリル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、イソチアゾリル、ピラゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、キノリニル、キノキサリニル、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル、ベンズイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンズチアゾリル、ピリドピリジル、ナフチリジニル、1H−イミダゾ[4,5−b]ピリジニル、3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジニル、イミダゾ[1,2−a]ピリジニル又は2,3−ジヒドロ−1,4−ジオキシノ[2,3−b]ピリジルであり;RはヒドロキシC1−6アルキル、C1−6アルコキシC1−6アルキル、シアノC1−6アルキル、アミノカルボニルC1−6アルキル、モノ−もしくはジ(C1−6アルキル)アミノカルボニル−C1−6アルキル、カルボキシル−C1−6アルキル、C1−6アルコキシカルボニル−C1−6アルキルであり;R、R及びRは水素又はC1−6アルキルであり;Hetはピリジル、ピラジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、フラニル、テトラヒドロフラニル、チエニル、ピロリル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、イソチアゾリル、ピラゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、キノリニル、キノキサリニル、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル、ベンズイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンズチアゾリル、ピリドピリジル、ナフチリジニル、1H−イミダゾ[4,5−b]ピリジニル、3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジニル、イミダゾ[1,2−a]ピリジニル及び2,3−ジヒドロ−1,4−ジオキシノ[2,3−b]ピリジルであり;Arは場合により置換されていてもよいフェニルである]のヘテロシクリルアミノアルキル置換ベンズイミダゾールのRSV複製インヒビター、それらの塩及び立体化学的異性体形態、化合物(I)を含有する製薬学的組成物並びに化合物(I)を調製する方法。
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本発明は、反応工程が一容器工程でありうる、4−オキソ−1,6−ジヒドロ−ピリミジニルカルボン酸エステル(II)から出発するまたはアルコキシ−メチレンマロン酸エステルと反応して(I)に転化されるエステル(II)となるグアニジン誘導体から出発する、4−[(1,6−ジヒドロ−6−オキソ−2−ピリミジニル)アミノベンゾニトリルの製造方法に関する。 (もっと読む)


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