【課題】フラットな物品、例えばシリコン基板の、発生する反応ガスを吸引しながら行う片面の湿式化学的な処理を可能にし、その際、気泡の破裂に基づく上面の所望されない濡れの上述の問題を、この面の保護を必要とすることなく回避する装置及び方法を提供する。
【解決手段】捕集チャンバ（１０）が、出口（９）の領域に流入開口（１１）を備えるとともに、入口（８）の領域に流出開口（１２）を備えて、排気通路（１３）を形成し、搬送ガス（Ｇ）が、排気通路（１３）を搬送方向（７）とは逆向きに、かつ搬送平面（６）及び搬送方向（７）に対して略平行に通流可能であるようにした。 （もっと読む）

【課題】支持体の長手方向範囲全体に亘ってクリーニング液の均一な分配及び有効な利用を保証する。
【解決手段】装置長手方向軸線（Ｌ）に対して平行に配置された２つの区域を有しており、上側の区域はアダプタ区域１として構成されており、アダプタ区域１によって装置を機械機器に結合することができ、下側の区域は保持区域２として構成されており、保持区域２は、周囲で閉鎖された又は閉鎖可能なチャネルシステムの、チャネル１１として提供された部分を有しており、チャネルシステムに、閉鎖可能な供給開口５によってフラッシング液を供給することができ、チャネル１１の底部は、フラッシング液のための通過開口１５を提供するために基板ブロック１３Ａ，１３Ｂの切断中にスロット状の形式で開放させられ、チャネル１１は、装置長手方向軸線（Ｌ）に沿って複数の区域１１Ａ，１１Ｂに細分されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、例えばソーラーウェハなどの盤状基板（３）を分離、偏向及び搬送することに関する。
【解決手段】液体内に基板スタック（５）の形状で、送り方向に相前後して順次配置された複数の盤状基板（３）を分離、偏向及び搬送する装置（１）であって、少なくとも２つの搬送ベルト（１１、１１’’）を含む垂直方向のベルトコンベア（９）を備え、ベルトコンベア（９）の搬送域（１０）がスタック（５）の一方端の前方側（１２）に前方側（１２）と平行に配置されており、ベルトコンベア（９）は真空装置（１６）を有し、スタック（５）のうち最前方の基板（３）が真空装置（１６）によって少なくとも第１の搬送ベルト（１１）に対して吸引可能であり、垂直方向のベルトコンベア（９）のうち少なくとも２つの搬送ベルト（１１、１１’’）が隣接する領域で相互に同一平面上に配置されている。 （もっと読む）

本発明は、シリコン基板の湿式化学的処理の分野に関する。本発明は、特に、基板、例えばシリコン製基板の処理のために使用される水性プロセス溶液中の硝酸の濃度の測定方法に関する。本方法は、別の物質によって引き起こされる妨害的吸収を効果的に取り除く排除剤を用いたＵＶ分光分析法／測光法による硝酸イオンの測定を基礎とするものである。その際、硝酸イオンの濃度は、ほかならぬ硝酸の濃度に相当する。本発明によれば、酸混合物中の硝酸の含量が非常に正確に、特に未使用の酸混合物中でも、その使用目的に相応して使用された酸混合物中でも同様に測定できる丈夫な方法が提案される。
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【課題】シリコン表面に形成されるエッチングテクスチャの密度、サイズおよびサイズ分布を向上させるエッチング方法および使用、ならびに従来のエッチング液の寿命を向上させる使用を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン表面のエッチング方法は、少なくとも一種のハイドロコロイドを含有するアルカリ性のエッチング用水溶液である、５０℃〜９５℃の含ハイドロコロイドエッチング液を用意する工程と、シリコン表面を、所定の時間にわたって含ハイドロコロイドエッチング液と接触させる工程と、シリコン表面から含ハイドロコロイドエッチング液を除去する工程とを含む。少なくとも一種のハイドロコロイドを、従来のエッチング液に添加することにより、そのエッチング液の寿命を向上させることもできる。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つのプロセスモジュールを備える、平坦な基板の流体直列式処理のための装置及び方法に関する。特に、本発明は、基板の緩やかで且つ制御された搬送中のこのような処理に関し、処理は、基板の搬送にも関することができる。本発明によれば、処理平面５に実質的に水平に配置されており且つ下側流体クッション６Ａを形成するように設計された少なくとも１つの処理面７Ａを有する処理チャンバ２を含むプロセスモジュール１が設けられており、同じ平面における基板２２の線形送りのための入口３及び出口４の形式の２つの開口が、処理面７Ａに割り当てられており、処理チャンバ２内の基板２２の制御された送り９のための少なくとも１つのキャッチ１０を備えた少なくとも１つの送り装置が設けられている。さらに、本発明は、本発明による装置を使用する方法を提供する。
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本発明は、薄いウェハ（６）を洗浄する装置で、ウェハ（６）が各々の一辺で担持装置（２）に固定されており、２つの隣接する基板間に空隙（７）が形成されている。本装置は、流体を各空隙（７）内に注入するシャワー装置（１５）と、流体を満たすことができ且つ担持装置（２）を収容できる寸法を有する槽（１４）とから実質上構成される。本発明によれば、任意選択的に、シャワー装置（１５）が移動不能な担持装置（２）に対して移動可能であるか、あるいは担持装置（２）が移動不能なシャワー装置（１５）に対して移動可能であるか、あるいは担持装置（２）とシャワー装置（１５）が相対的に移動可能である。本発明による方法は、好ましい洗浄処理において、担持装置（２）を槽内で移動しながらまず温流体でシャワー洗浄を行った後、冷流体で超音波洗浄を行い、さらに温流体でシャワー洗浄を再度行うことを特徴とする。
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【課題】 本発明は特に、ソラーウェハなどのディスク状基板（１０２；２０２）の分離及び搬送に関する。
【解決手段】 本発明は、分離が流体中で行われ、薄い流体膜に基づく付着力がグリッパ（１０８；２０８）と分離すべき基板（１０２；２０２）の間で発生し、基板をグリッパ（１０８；２０８）に付着可能とすることを特徴とする。
送り方向（１０５；２０５）と直交する方向、特に基板（１０２；２０２）の平面形状と平行な方向に沿ったアンローディングにより、極めて優しい取り扱いで且つ効率的なディスク状基板（１０２；２０２）の分離が、短いサイクル時間で可能となる。 （もっと読む）

本発明は、物体、特に、半導体素子を超音波を用いて連続的に洗浄することに関し、被洗浄物体が液体中に配置されるものである。さらに、本発明は、本発明による方法を実施する装置に関する。本発明の基本概念は、液体で満たしたタンク（５）内の被洗浄物体（２）の表面が、タンク（５）内にある少なくとも一つの音源（８ａ）によって発せられた少なくとも一つの振動最大点を通過することである。一実施形態によれば、タンク（５）内に位置した音源フィールド（８）が搬送方向（４）に対して傾斜して配置される。 （もっと読む）

本発明は、一般的に、基板表面の処理または加工に関する。とりわけ、本発明は、シリコンウエハの表面を改質するための方法に関する。
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