説明

AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社により出願された特許

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【課題】収縮率および引っ張り応力の低いアイソレーション構造の形成方法の提供。
【解決手段】基板表面に多孔質化剤を含む第1のポリシラザン組成物を塗布および焼成して、屈折率が1.3以下の多孔質シリカ質膜を形成させ、次いでその膜の表面に第2のポリシラザン組成物を含浸させ、焼成することにより、屈折率1.4以上のシリカ質膜からなるアイソレーション構造を形成させる。 (もっと読む)


【課題】内部の液体の汚染を抑制する液体用コンテナとその組み立て方法の提供。
【解決手段】液体容器本体と、前記液体容器本体の下部に設けられた排出管とからなる液体収容部と、
排出管連結管とバルブとからなるバルブ部材と、
内部に液体を貯蔵することができる内側ライナーと
を具備する液体用コンテナ。前記内側ライナーは、ライナー本体部分と管状液体排出部分とを具備する形状を有している。また、前記管状液体排出部分は前記排出管内部を貫通し、前記管状液体排出部分の内側が前記排出管連結管と連結するように配置され、前記管状液体排出部分の端部が前記排出管と前記排出管連結管との間に挟まれて固定されている。 (もっと読む)


【課題】パターン倒れとメルティングとを同時に改良することができる、リソグラフィー用リンス液とそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】アルキルアミンなどの特定の含窒素化合物と水とを含むリソグラフィー用リンス液と、それを用いたパターン形成方法。リンス液は必要に応じて非イオン性界面活性剤を含むこともできる。 (もっと読む)


【課題】シロキサン樹脂組成物を用いて、透明性に優れ、高引っかき傷硬度、高絶縁性、低誘電率を有し、さらに平坦性に優れ、焼成時の膜減りがなく、厚膜にしてもクラックの発生がなく、かつ基板界面での膜剥れがなく、密着性に優れている焼成硬化膜を形成する。
【解決手段】シラノール基またはアルコキシシリル基含有シロキサン樹脂組成物を基材に塗布し、プリベーク処理した後、アルカリ水溶液で処理してからリンス、焼成を行うことにより、シラノール基またはアルコキシシリル基含有シロキサン樹脂組成物の焼成硬化被膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】エネルギーコストを抑制できるシリコンオキシナイトライド膜の製造方法とそれにより製造されたシリコンオキシナイトライド膜付き基板の提供。
【解決手段】基板表面にポリシラザン化合物を含む被膜形成用組成物を塗布して塗膜を形成させ、前記塗膜に含まれる過剰の溶媒を除去し、溶媒除去後の塗膜を150℃未満の温度条件下で紫外線を照射することを含むシリコンオキシナイトライド膜の形成方法。 (もっと読む)


【課題】埋設性と塗布性とに優れ、すぐれた膜物性を有するシリカ質膜を形成することができるコーティング組成物とそれを用いたシリカ質膜の形成方法の提供。
【解決手段】ペルヒドロポリシラザンと溶媒とを含んでなるコーティング組成物であって、前記ペルヒドロポリシラザンの分子量分布曲線が、分子量800〜2,500の範囲と、分子量3,000〜8,000の範囲とにそれぞれ極大を有し、重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnの比Mw/Mnが6〜12である、コーティング組成物。このコーティング組成物ギャップを有する基板上に塗布し、1000℃以下で加熱することにより、ギャップ深部まで埋設されたシリカ質膜を形成させることができる。 (もっと読む)


【課題】ポリシラザン化合物を用いて、低温で表面が親水性のシリカ質膜を得る方法の提供。
【解決手段】基板の表面上に、ポリシラザン化合物およびシリカ転化反応促進化合物を含んでなる組成物を塗布し、得られた塗膜に、ポリシラザン塗膜処理液を塗布し、300℃以下でポリシラザン化合物をシリカ質膜に転化させるシリカ質膜製造方法。このポリシラザン塗膜処理液は、過酸化水素とアルコールと溶媒とを含むものである。 (もっと読む)


【課題】トレンチ構造の影響を受けにくいエッチング液とそれを用いたアイソレーション構造の形成方法の提供。
【解決手段】フッ酸と有機溶媒とを含んでなるエッチング液。前記有機溶媒の、ハンセンの溶解度パラメーターによって定義されるδHは4以上12以下であり、20℃の水に対する飽和溶解度が5%以上である。このエッチング液は、従来の半導体素子形成プロセスに用いられるエッチング液の代わりに用いることができる。 (もっと読む)


【課題】微細化され、かつドライエッチング耐性の高い微細パターンを形成させるための方法の提供。
【解決手段】基板上に形成されたパターンの表面に、シラザン結合を有する微細パターン形成用組成物を塗布し、硬化させることを含む、パターン形成方法。微細パターン形成用組成物の塗布の前に塩基性化合物を含む前処理組成物を塗布することもできる。この方法により形成された、微細パターン形成用組成物の硬化層を利用することで、別の微細化されたパターンを形成させることもできる。 (もっと読む)


【課題】撥水性の高い被膜を作製する上で、長時間の加熱処理を行うことなく、短時間での被膜作製を可能とする方法を提供すること。
【解決手段】アルキルケテンダイマー等のワックスまたはトリグリセリド等の油脂で作製した白濁被膜を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等の有機溶剤で被覆後気体を吹き付けて溶剤を除去することにより、短時間の処理で撥水性の高い被膜を作製する。 (もっと読む)


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