【課題】化学気相堆積プロセス中に膜を生成する方法、化学気相堆積プロセスを制御する方法及び薄膜で被覆された基板を提供する。
【解決手段】化学気相堆積プロセス中に膜を生成する方法の一実施形態は、第１パルス振幅を有する第１電気的パルスを発生し、該第１電気的パルスを使用して第１密度の基化種を生成し、上記第１密度の基化種における基化種を使用して供給原料ガスを分離し、第１の堆積物質を生成し、該第１の堆積物質を基板上に堆積させ、上記第１パルス幅とは異なる第２パルス振幅を有する第２電気的パルスを発生し、該第２電気的パルスを使用して第２密度の基化種を生成し、該第２密度の基化種における基化種を使用して供給原料ガスを分離し、第２の堆積物質を生成し、該第２の複数の堆積物質を上記第１の堆積物質上に堆積させることを含む。 （もっと読む）

【課題】基板に成膜を行う新規なシステムを提供すること。
【解決手段】本発明の一実施形態は、基板上に成膜するシステムである。このシステムは、真空チャンバと、真空チャンバに内蔵された線形放電管と、線形放電管に印加可能なマイクロ波電力信号を生成するよう構成されたマグネトロン１７０と、マグネトロンに電力信号を供給するよう構成された電力供給源１６０と、電力供給源に接続されたパルス制御部１６５とを含む。パルス制御部は、複数のパルスのデューティサイクルと、複数のパルスの周波数および／または複数のパルスの輪郭を制御するよう構成される。 （もっと読む）

【課題】アーク放電等異常放電を抑えてデブリを防ぎ、効率的で信頼性の高い膜を形成するためのスパッタリング用電源及びシステムを提供する。
【解決手段】真空チャンバ、基板を真空チャンバを通じて搬送するように構成された基板搬送システム、スパッタリングターゲットを支持するカソードであって、少なくとも部分的に真空チャンバ内にあるカソード、およびカソードに電力を供給するように構成された電源であって、変調電力信号を出力するように構成された電源を有するスパッタリングシステムを含む。態様に応じて、振幅変調電力信号、周波数変調電力信号、パルス幅電力信号、パルス位置電力信号、パルス振幅変調電力信号、あるいは他の種類の変調電力またはエネルギー信号を出力するように、この電源を構成することができる。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングシステムにおいてイオン密度とスパッタ率を制御する方法を提供する。
【解決手段】一実施形態では、第１のパルス幅の電力信号がカソードに印加されて、それによってより高濃度のイオンを生成させる。次に、この第１のパルス幅の電力信号のパルス幅を減少させて、それによってスパッタ率を増加させ、かつカソード周辺でのイオン密度を減少させる。さらにこのプロセスを繰り返して変調信号を作成する。この変調信号を用いてスパッタリングシステムのイオン密度とイオンエネルギーを制御する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング用の回転ターゲットの冷却システムにおいて、回転軸、マグネットの冷却を効果的に行い、また同時にターゲットの不均一冷却に起因する熱膨張破損を防止する。
【解決手段】ターゲットバッキングチューブ205と、ターゲットバッキングチューブの外面と接触しておりかつ電気伝導性であり非熱伝導性であるバッキング層210と、バッキング層と接触している複数の非接着式ターゲット円筒体215と、を含むターゲットアセンブリ200。 （もっと読む）