説明

クレデンス システムズ コーポレーションにより出願された特許

1 - 5 / 5


【解決手段】システムは、プローブヘッドの周囲に配置した、IC上に冷却液流を供給する微細噴霧スプレーヘッドを有する。流体噴流を冷却液流のよどみが存在する領域に導く流動誘起噴射器が備えられる。
【効果】どのよどみ点も減少または解消され、IC全域で温度の均一性を高めることができる。 (もっと読む)


【課題】光学的プロービングシステムと、効率的な集光を可能にするとともに、標本の熱管理を可能にする方法とを提供する。
【解決手段】標本または被検デバイス111を撮像する光学的受光器100は、対物レンズハウジング110と、対物レンズハウジング110内に取り付けた対物レンズ120と、対物レンズハウジング110上、とくに、対物レンズハウジング110の円錐状部分122の頂部に取り付けた固体浸レンズ(SIL)126と、対物レンズハウジング110の表面、とくに、対物レンズハウジング110の円錐状部分122に装着した熱管理装置114とを備える。熱管理装置114は、冷却剤管路、熱電冷却(TEC)装置等であってもよい。冷却剤スプレーを、撮像する標本111に噴霧することもできる。 (もっと読む)


【課題】DUTのレーザープロービングを行って選択領域の変調情報を提供する装置及び方法を提供する。
【解決手段】変調マップ作成を行う装置を開示する。この装置は、レーザー源、レーザービームとDUTとの間の相対移動を行う移動メカニズム、DUTから反射した変調レーザー光を集光するための光検出器及び適切な電子回路を含む信号捕集メカニズム、及び選択した時間中にICの選択領域上で集光した変調レーザー光から成る空間変調マップを表示するための表示メカニズムを具えている。 (もっと読む)


【課題】背面からテストを実行するための半導体ウェハを準備する方法の提供。
【解決手段】ウェハ300におけるテスト対象のダイ325を選択するステップと、ダイ325の対角線を測定するステップと、スクライブライン320aおよび320bを越えて延在するダイ325上のエリアを薄型化するステップと、該薄型化エリア350内にインサート360を載置するステップと、ダイ325までの光路を不明瞭にしないように、インサート360の周辺エリアに接着剤380を塗布するステップとを含む。インサート360は、ドープされていないシリコンから作られることが有益である。 (もっと読む)


本発明は、FIB加工エンドポインティングオペレーションを向上させるシステムおよび方法に関する。この方法は、加工されているエリアのリアルタイム画像と、ピクセル強度のリアルタイム図形プロットとを生成することを含み、既存のFIBシステムによって生成された画像およびプロットに対して検出感度を向上させるものである。画像およびプロットは既存のFIBシステムから得られた生の信号データを用いて生成される。より具体的には、生の信号データは、画像を生成するための特別なアルゴリズムに従って処理される。このアルゴリズムは、画像と、対応する強度グラフを生成するためのものであり、これら画像およびグラフは信頼性の高い正確なエンドポイント検出に使用される。
(もっと読む)


1 - 5 / 5