説明

日本琺瑯釉薬株式会社により出願された特許

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【課題】石英ガラス基板の両板の対向面にガラスペーストを印刷してリブを形成しても、焼成で熔解により崩壊せずに、高さが50〜500μmの流路形成用ガラス組成物から成る微細流路が形成でき、石英ガラス基板を強固に接合でき、クラックが発生しない線熱膨張係数の小さな、ホウ珪酸塩ガラスを含有する流路形成用ガラス組成物を提供する。
【解決手段】本発明の流路形成用ガラス組成物は、ホウ珪酸塩ガラスのガラスフリット及びβスポジュメン、コーディエライト、熔融シリカ、酸化アルミニウム又は酸化ジルコニウムを含み、該ホウ珪酸塩ガラスのガラスフリットが、B、SiO、ZnO、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化物を必須成分として含み、これらの含有量が前記流路形成用ガラス組成物の全重量に対して68〜84重量%の範囲にあり、上記βスポジュメン、コーディエライト、熔融シリカ、酸化アルミニウム又は酸化ジルコニウムの含有量が上記全重量に対して4〜22重量%の範囲にあることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 PbOを含まなくても1000℃以下の温度で石英ガラス体を接合することができる石英ガラス体接合用ガラス組成物を提供する。
【解決手段】 PbOを含まずに、B、SiOおよびZnOを必須成分として含み、これらの合計含有量が40〜97モル%であるホウケイ酸塩ガラスを含み、熱膨張係数が25×10−7/K〜100×10−7/Kであることを特徴とする石英ガラス体接合用ガラス組成物。 (もっと読む)


【課題】 絶縁層を形成するガラス組成物中にPbOを含まない絶縁層形成用のガラスフリットを提供する。
【解決手段】 SiO2 、Al23 、B23 、Li2 O+Na2 O+K2 O、MgO+CaO+SrO+BaO、ZnO、CuO、SnO2 、CeO2 、Gd23 を基本組成とする無鉛硼珪酸塩ガラスで、前記無鉛硼珪酸塩ガラスフリットにAl23 、SiO2 、ZrO、ZnOの1つ以上の無機酸化物を含有させてガラスペーストとし、塗布、焼成して形成された絶縁層は白色で黄味化し難いものである。 (もっと読む)


【課題】 環境汚染を防ぐために、絶縁層を形成するガラス組成物中にPbOを含まない絶縁層形成用のガラスフリットを提供する。
【解決手段】
ガラス組成がSiO2 :16〜32mol%、Al23 :4〜8mol%、B23 :20〜35mol%、Li2 O+Na2 O+K2 Oの2種以上を含み合計が8〜14mol%、MgO+CaO+BaO+SrOの合計が3〜16mol%、ZnO:6〜33mol%、Cu2 O:0.01〜3mol%、Ag2 O:0.01〜1mol%、前記B23 とZnOの組成比が、ZnO/B23 =0.27〜1.3、を基本組成とする無鉛硼珪酸塩ガラスで、平均粒径1〜5μmで、最大粒径が20μm以下に粒度調整されたガラスフリットであり、ガラス転移点が500℃以下、平均線膨張係数が65〜80×10−7 /℃、耐水減量値0.1mg/cm2 以下で耐水性に優れたもので絶縁層を形成するための無鉛硼珪酸塩ガラスフリットである。 (もっと読む)


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