【課題】 無極性有機溶媒を使用してペルフルオロ不飽和炭化水素を製造する方法を提供する。
【解決手段】 ペルフルオロ不飽和炭化水素（Perfluoroalkadiene）の製造方法が開示される。出発物質としてのジハロペルフルオロ飽和炭化水素は、無極性有機溶媒と、金属粉末及び有機金属化合物に滴加される。反応温度３０℃ないし１５０℃範囲で出発物質であるジハロペルフルオロ飽和炭化水素を徐々に滴下し、反応を誘導する。また、無極性有機溶媒は、ベンゼン、トルエンまたはキシレンなどを使用し、有機金属化合物は、エチルエーテルまたはテトラヒドロフランに１Mないし３Ｍの濃度で溶解した状態で使われる。金属粉末は、Ｍｇ、ＺｎまたはＣｄが使われる。 （もっと読む）

【課題】Ｃ_５Ｃｌ_８を原料としてＶＩＳＩまたはＵＬＳＩ用に使用できる高純度のＣ_５Ｆ_８ドライエッチングガスを連続工程で製造する方法の提供。
【解決手段】オクタクロロシクロペンテンとＫＦとを反応させる際に、両者が交差接触反応するようにすることにより、反応を連続反応に保持させ、オクタフルオロシクロペンテン含量５０〜８０容量％の粗生成物を得る工程、得られた粗生成物を低沸物蒸留塔でオクタフルオロシクロペンテンより沸点の低い低沸物有機物を分別蒸留によって除去し、得られた反応物を高沸物蒸留塔で分別蒸留してオクタフルオロシクロペンテンをガス状に回収して、高純度オクタフルオロシクロペンテンを得る第２過程とを連続工程にし、Ｃ_５Ｆ_８９９．９９５容量％以上、窒素ガス５０容量ｐｐｍ以下、酸素ガス５容量ｐｐｍ以下、水分５重量ｐｐｍ以下、金属成分５重量ｐｐｂ以下の半導体製造用ドライエッチングガスを連続的に製造する。 （もっと読む）

【課題】クロロエタン化合物を原料としてＨＦＣ５を製造する方法において高い転換率と選択率を示すフッ素化触媒とこの触媒の製造方法を提供する。
【解決手段】水酸化クロム粉末を３００℃以下で加熱処理して得た酸化クロム粉末８５〜９９．５ｗｔ％と、マグネシウム、鉄、モリブデン、バナジウム及びアルミニウムの水酸化物の中から選択される金属水酸化物を３００℃以下で加熱処理して得た酸化マグネシウム、酸化鉄、酸化モリブデン、酸化バナジウム及び酸化アルミニウムの中から選択される金属酸化物粉末０．５〜１５ｗｔ％とを混合して成形したペレットを、窒素ガス中で２００〜３００℃で焼成した後、３００〜３２０℃ではＮ_２＋ＨＦの混合ガスで、３２０〜３８０℃ではＨＦガスでフッ素化させることによって、クロロエタン化合物を原料とするペンタフルオロエタン製造用酸化クロム系触媒を製造する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高純度が要求される三フッ化窒素、窒素、酸素、アルゴン、六フッ化硫黄、無水塩酸、無水臭化水素、四フッ化炭素及び六フッ化エタンなどの低温液化ガスを、純度の変質を起こすことなく少ないエネルギーを用いて簡単な工程によって、高圧ガス容器へ充填することが可能な、低温液化ガスの充填方法を提供すること。
【解決手段】低温液化ガスを高圧充填容器に充填する方法において、低温液化ガス移送配管を断熱配管とし、ポンプを用いて高圧充填容器に充填することを特徴とする、低温液化ガスの充填方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】長期保管の際にも変質を起こさないＮＦ_３ガスの貯蔵方法を提供すること。
【解決手段】三フッ化窒素ガスを深絞りしごき（Deep Drawing Ironing）工法で製造されたクロム−モリブデン鋼製容器に貯蔵することによって三フッ化窒素ガスを充填・貯蔵する。 （もっと読む）

【課題】高純度が要求される三フッ化窒素、窒素、酸素、アルゴン、六フッ化硫黄、無水塩酸、無水臭化水素、四フッ化炭素及び六フッ化エタンなどの低温の液化ガスを、変質を起こすことなく、少ないエネルギーを用いて簡単な工程によって高圧ガス容器への充填可能な、低温液化ガスの充填方法の提供。
【解決手段】低温液化ガスを高圧ガス充填容器に充填する際に、ダイヤフラムポンプを用いて高圧ガス充填容器に充填する。 （もっと読む）

【課題】ECとF₂/N₂混合ガスとを直接反応させてFECを製造する方法において、穏和な反応条件で反応転化率と選択率に優れており、かつ簡単な精製工程のみで高純度の製品収得が可能なFEC製造方法とFEC製造用として有用な反応装置を提供する。
【解決手段】エチレンカーボネートとフッ素ガスと窒素ガスの混合ガスを反応させて4-フルオロエチレンカーボネートを製造する方法において、エチレンカーボネートの充填された反応器内にフッ素ガスと窒素ガスの混合ガスを供給するに際し、充填カラム用充填物の充填された気泡調節カラムを用いて該混合ガスの気泡の大きさを調節しつつ供給することを特徴とする。 （もっと読む）