説明

イブル・フォトニクス・インコーポレイテッドにより出願された特許

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【課題】 優れた電気機械的及び電気光学的特性とともに高い誘電常数を有する強誘電性単結晶を用いて強誘電性膜構造物を製造する新規な方法の提供。
【解決手段】 軸がずれた(off-axis)結晶構造を有するなどのように研磨されたシリコン又は強誘電性単結晶からなる基板上に、ペロブスカイト(perovskite)結晶構造を有する電極層を形成し、その上にパルスレーザ蒸着法(PLD)又は有機金属化学気相蒸着法(MOCVD)によって強誘電性単結晶層をエピタキシャル成長させることによって、高性能電気電子部品及び素子の製作に有用に使用し得る強誘電性単結晶膜構造物を製造できる。
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【課題】 優れた電気機械的及び電気光学的特性とともに高い誘電常数を有する強誘電性単結晶を用いて強誘電性膜構造物を製造する新規な方法を提供する。
【解決手段】 導電性接着剤又は金属層によって基板上に強誘電性単結晶板を接合(前記強誘電性単結晶薄板は前記基板に接合する前または後に研磨される)することによって、高性能の電気電子部品及び素子の製作に有用できる強誘電性単結晶膜構造物を製造できる。
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