500℃〜750℃の間の温度である金属基板を、その上にセラミック先駆物質のスラリーの液滴を噴霧することによってセラミック層で被覆する。上記セラミックは、アルミナを含み、またわずか35質量%の分散性アルミナを有するアルミナゾル及びアルミナ粒子の混合物を噴霧することによってマクロ多孔性にされる。このやり方で、赤熱の表面に噴霧することによって、得られるセラミックと上記金属基板との非常に顕著な接着性の改良を導いた。次いで、触媒構造物を形成するために触媒的に活性な金属を上記セラミック層に配合してもよい。 （もっと読む）