説明

パナソニック液晶ディスプレイ株式会社により出願された特許

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【課題】パイル長の均一化を図ることが可能なラビング用布の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のラビング用布の製造方法は、ラビング用布を洗浄する洗浄工程S3と、洗浄工程S3の後に、ラビング用布を乾燥する乾燥工程S4と、乾燥工程S4の後に、ラビング用布の表面のパイルを刈込む本刈込工程S5と、本刈込工程S5の後に、ラビング用布の裏面に補強膜を形成する補強膜形成工程S6と、を備える。 (もっと読む)


【課題】年齢層の異なる複数の観察者が存在する場合でも、観察者の年齢および視聴条件に応じて、総合的に最も適切と考えられる表示輝度の制御を行うことができる表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置100は、画面照度検出部5と平均輝度レベル演算部9と輝度制御部6とを備え、輝度制御部6は、水平観視画角と画面照度と平均輝度レベルと観察者毎の年齢層とから観察者の年齢層毎の好適最大表示輝度を決定する好適最大表示輝度決定部21と、各好適最大表示輝度を、観察者の年齢層毎の人数の割合に対応付けられた重み付け係数を用いて加重平均した加重平均輝度を算出する加重平均輝度演算部22とを備え、加重平均輝度になるように表示画面の最大表示輝度を制御する。 (もっと読む)


【課題】IPSタイプの液晶表示装置において、走査線引出し線に印加されるゲート電圧の影響によって対向基板の内側が帯電し、画面周辺に白抜けが生ずる現象を防止する。
【解決手段】走査線引出し線31は、対向電極108と同層で形成されたシールド電極107によって覆われている。走査線引出し線31はシール材20の下にも形成されている。シールド電極107はシール材20の下まで延在し、シールド電極107の下に形成されている走査線引出し線31の全数を被覆しているので、シールド効果は高い。また、シール材20の下に形成されたシールド電極107には抜きパターン1071が形成されているので、シールド電極107と、それをサンドイッチする無機パッシベーション膜106および上部絶縁膜109との間の接着強度の低下を防止することが出来る。 (もっと読む)


【課題】サイドライト方式のバックライトユニットにて、導光板にそのずれを防止するための係合用の切り欠き部を設けると、その界面で光源からの光が反射し輝度むらを生じる。
【解決手段】導光板60は、ライトバー64を配置される左側の辺と隣り合う下辺に、下フレーム金具に立設された導光板支持ピン80を挿入される切り欠き部82を有する。さらに、当該下辺に切り欠き部82より窪みが浅く、ライトバー64から見て切り欠き部82より手前に位置する切り欠き部84を設ける。 (もっと読む)


【課題】液晶表示装置における残像現象と、長時間動作後に生ずる黒ムラを防止する。
【解決手段】配向膜113として界面に不純物を吸着しにくいポリアミド酸エステル1131を前駆体とする材料を用い、液晶の誘電率異方性Δεを5以下とする。このような構成によって液晶中に分散している酸化防止剤が配向膜に吸着されることを抑え、液晶が酸化されることを防止する。また、液晶の誘電率異方性Δεが5以下として、不純物が液晶中に混入する程度を小さくする。これによって、残像現象と黒ムラを防止する。 (もっと読む)


【課題】 液晶表示装置における各画素の開口率を高くする。
【解決手段】アクティブマトリクス型の液晶表示パネルを有する液晶表示装置であって、1本の走査信号線を挟んで隣接する2つの画素のTFT素子は、それぞれ、ゲートが当該1本の走査信号線に接続しており、かつ、ソースまたはドレインのうちの一方が異なる映像信号線に接続しており、隣接する2本の走査信号線の間には、当該2本の走査信号線のうちの一方の走査信号線にゲートが接続している前記TFT素子を有する画素と、当該2本の走査信号線のうちの他方の走査信号線にゲートが接続している前記TFT素子を有する画素とが、前記映像信号線の延在方向に沿って並んでおり、かつ、当該2つのTFT素子のソースまたはドレインのうちの一方が異なる映像信号線に接続している液晶表示装置。 (もっと読む)


【課題】本発明は、配向膜の剥がれを防止することを目的とする。
【解決手段】液晶表示装置は、第1の基板118の第2の基板120に対向する面上及びスペーサ134上に形成された第1の配向膜136と、第2の基板120の第1の基板118に対向する面に設けられた台座142と、第2の基板120の第1の基板118に対向する面上及び台座142上に形成された第2の配向膜120と、を含む。台座142は、島状であり、少なくとも1つの薄肉部76と、複数の厚肉部78と、を有する。スペーサ134は、少なくとも1つの薄肉部76及び2つ以上の厚肉部78と対向する。第2の配向膜148の厚肉部78上の部分が、第1の配向膜136のスペーサ134上の部分に接触する。第2の配向膜148の薄肉部76上の部分が、第1の配向膜136のスペーサ134上の部分に非接触である。 (もっと読む)


【課題】IPS方式の液晶表示装置において、アンカリング強度の大きい光配向膜の形成を可能とする。
【解決手段】配向膜113を光配向膜1131と高膜強度配向膜の2層構造とする。光配向膜1131はシクロブタンを有するポリアミド酸エステルを80%以上含むポリアミド酸エステルを前駆体として形成し、高膜強度配向膜1132はポリアミド酸を前駆体として形成する。紫外線による光配向を行った後、基板を加熱するので、高膜強度配向膜1132の機械的な強度が劣化せず、光配向において、配向膜全体として高いアンカリング強度を実現できる。 (もっと読む)


【課題】透明導電膜の形成方法に依らずに、その表面に凹凸を形成することが可能な透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜の製造方法は、酸化物からなる透明導電膜を形成し、透明導電膜を水素含有ガスの還元雰囲気に晒すことで、透明導電膜の表面に凹凸を形成する、ことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】オフリーク電流を抑制することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の液晶表示装置では、半導体層53は、平面視においてゲート電極51の範囲内に配置される。ソース電極55及びドレイン電極57は、平面視において半導体層53の範囲内に配置される。シールド7は、保護絶縁膜4上に配置され、画素電極6と同一の材料からなり、画素電極6と電気的に接続されていない。 (もっと読む)


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