【課題】Ｘ線に基づいた分析の際に対象物にビームをマッチングさせる際の問題点を解決する。
【解決手段】検査方法は、サンプルの表面上においてスポットを画定するべく合焦されるＸ線ビームを使用してサンプルを照射する段階を含んでいる。表面上の特徴部を横断するスキャン経路に沿ってスポットをスキャンするべく、サンプル及びＸ線ビームの中の少なくとも１つをシフトさせる。スポットが異なる個々の程度の特徴部とのオーバーラップを具備しているスキャン経路に沿った複数の場所において、Ｘ線ビームに応答してサンプルから放射される蛍光Ｘ線の個々の強度を計測する。スキャン経路における放射蛍光Ｘ線の調節値を演算するべく、複数の場所において計測された強度を処理する。調節済みの値に基づいて、特徴部の厚さを推定する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線に基づいた分析の際に対象物にビームをマッチングさせる際の問題点を解決する。
【解決手段】検査方法は、サンプルの表面上においてスポットを画定するべく合焦されるＸ線ビームを使用してサンプルを照射する段階を含んでいる。表面上の特徴部を横断するスキャン経路に沿ってスポットをスキャンするべく、サンプル及びＸ線ビームの中の少なくとも１つをシフトさせる。スポットが異なる個々の程度の特徴部とのオーバーラップを具備しているスキャン経路に沿った複数の場所において、Ｘ線ビームに応答してサンプルから放射される蛍光Ｘ線の個々の強度を計測する。スキャン経路における放射蛍光Ｘ線の調節値を演算するべく、複数の場所において計測された強度を処理する。調節済みの値に基づいて、特徴部の厚さを推定する。 （もっと読む）

【課題】試料の表面上の目標領域における放射線ビームの有効スポットサイズと角度的広がりを制御するための改善された装置と方法の提供。
【解決手段】試料の分析装置20は、放射線ビーム27を、ビーム軸に沿って導き、試料の表面上の目標領域に当てるように構成されている放射線源26を含む。検出器アセンブリ30は、試料から散乱した放射線29を感知するように構成されている。ビーム制御アセンブリ36は、ビームブロッカー52を含み、ビームブロッカーは、試料の表面に隣接する下側部を有し、下側部に直交し、ビーム軸を含み、目標領域を通過するビーム面を画定する前部および後部スリットを含む。前部スリットは、放射線源と目標領域の間に位置し、後部スリットは、目標領域と検出器アセンブリの間に位置している。 （もっと読む）

【課題】重畳されたオーバレイパターンの高精度な計測のための装置および方法を提供する。
【解決手段】検査のための方法が、サンプル２２の表面上に重畳された第１および第２の薄膜層内に夫々形成された第１および第２特定構造２４を含むサンプルの領域に衝当する様にＸ線のビームを導向する段階を含む。上記第１および第２特定構造の整列を評価するために、該第１および第２特定構造から回折されたＸ線のパターンが検出かつ分析される。 （もっと読む）

【課題】増強された分解能をもつＸ線散乱測定を用いた試料の検査方法を提供する。
【解決手段】その試料の検査方法は、試料に向かってＸ線ビームを誘導する段階と、試料から散乱させられたＸ線を捕捉すべく検出器素子のアレイを構成する段階とを含む。試料は、アレイのピッチの整数倍数でない増分だけ相互に分離された少なくとも第１および第２の位置との間で該アレイの軸に平行な方向にシフトされる。試料がそれぞれ少なくとも該第１および第２の位置のそれぞれにあるときに検出器素子が捕捉したＸ線に応答して、該検出器素子により少なくとも第１および第２の信号が生成される。この第１および第２の信号は、前記軸に沿った位置の関数として、試料のＸ線散乱プロファイルを決定すべく合成される。 （もっと読む）