説明

DOWAエレクトロニクス株式会社により出願された特許

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【課題】キャリア付着が発生せず、且つ、キャリアの磁力が適度に制御可能なキャリア芯材およびその製造方法、当該キャリア芯材を用いて製造されたキャリア、並びに、当該キャリアを用いて製造された電子写真現像剤を提供する。
【解決手段】一般式MgFe1−x(AlFe1−Y (但し、0<X≦1、0<Y<1である。)で表記され、Al原子が完全固溶していることを特徴とする電子写真現像剤用キャリア芯材を提供する。 (もっと読む)


【課題】長期間使用してもキャリアのトナーへの帯電付与能力が劣化しない電子写真現像剤用キャリア芯材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】原料として鉄化合物粉末とマンガン化合物粉末とリン化合物粉末とを水などの溶媒中で混合および攪拌して得られたスラリーを乾燥して造粒した後、得られた造粒物を不活性ガス雰囲気下において1100〜1300℃、好ましくは1100℃より高く且つ1200℃以下の温度で焼成する。 (もっと読む)


【課題】極性溶媒に分散する性質を有する金属ナノ粒子とその凝集体および、該金属ナノ粒子の分散した分散体、それを用いて形成された部材、および分散剤を提供する。
【解決手段】数平均粒子径が50nm未満の金属ナノ粒子の表面に、アルコキシポリオキシエチレングリコールマレイン酸のエステル化合物といった、ポリアルキレンオキサイド基とカルボキシル基を有する有機化合物により構成される保護剤で被覆された粒子、該金属ナノ粒子がジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート極性溶媒に分散した分散体を使用する。 (もっと読む)


【課題】
還元剤としてヒドロキノン等の多価フェノールを使用せず、平均粒径D50が、が0.1μm以上、1μm未満であり、最大粒径Dmaxが、4μm以下である銀粉を製造することができる、銀粉の製造方法および銀粉を提供する。
【解決手段】
銀イオンを含有する水性反応系に還元剤を加えて銀粒子を還元析出させる銀粉の製造方法において、前記還元剤添加前の前記水性反応系に脂肪酸、脂肪酸塩、脂肪酸エステルから選択される1種以上を添加し、かつ、前記還元剤添加後の前記水性反応系にキレート剤を添加する。 (もっと読む)


【課題】チキソ剤などを添加することなくチキソ比を低下させて印刷性、導電性、密着性の両立したペーストを提供すること。
【解決手段】金属粉末成分、熱可塑性樹脂、分散媒からなるペーストであって、金属と樹脂の合計質量に対する金属の質量の割合が94〜98%を示すとともに、金属粒子の大きさは平均一次粒子径が50nm以下の金属粒子1の群と、100nm以上の金属粒子2の群により構成することによって達成することができる。 (もっと読む)


【課題】シリコン基板の所定領域にアルミニウム拡散領域を設け、表面粗さを適正範囲に設定することにより、その上方に成長されるIII族窒化物半導体の結晶性を向上させることができる電子デバイス用エピタキシャル基板およびその製造方法ならびにIII族窒化物電子デバイス用エピタキシャル基板を提供する。
【解決手段】シリコン基板2と、該シリコン基板上に形成した窒化アルミニウム単結晶核生成層と、該窒化アルミニウム単結晶層3上に形成した、少なくとも一組以上の超格子層4を含むバッファ構造体とを具える電子デバイス用エピタキシャル基板であって、前記シリコン基板の表層部には、前記窒化アルミニウム単結晶層と接する表面から基板厚さ方向に広がるアルミニウム拡散領域5が設けられ、前記シリコン基板の、前記窒化アルミニウム単結晶層と接する表面の表面粗さRaは、0.2〜1nmの範囲であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】スケールファクターの影響を受けにくく、粒子径が小さくとも均整であり、かつ常温環境下に曝しても酸化の影響を受けにくい、銅微粒子およびその粒子を形成するための方法を提供すること。
【解決手段】炭素数6〜10の直鎖アルコールの一種以上と、分子数200〜400の有機化合物の一種以上が溶解されてなる反応溶媒に、銅およびニッケルの化合物を溶解させた後、有機−水酸化アンモニウム塩溶液を添加した製造方法により、中心部分の銅の構成割合が高く、周囲をニッケル−銅の合金を呈した銅−ニッケルナノ粒子とする。 (もっと読む)


【課題】 低抵抗で印刷性に優れるとともに、基板への密着性に優れた導電性ペーストを提供すること。
【解決手段】 導電性ペーストの構成として、金属粒子の大きさは平均一次粒子径を少なくとも2種類のものとし、その粒子径が50nm未満の金属粒子1と、100nm以上の金属粒子2により構成される金属粉末成分からなるものとするとともに、樹脂、分散媒を加えたペーストとし、該ペーストは金属薄膜を形成したときにおける金属割合が95%以上を示す性質を呈するものとする。 (もっと読む)


【課題】高い絶縁破壊電圧を有し、当該絶縁破壊電圧に至るまで適正な電気抵抗値を保ち、かつ、高い磁化率を有するキャリア芯材、およびその製造方法、当該キャリア芯材を用いたキャリア、並びに電子写真現像剤を提供する。
【手段】Liを10ppm以上、400ppm以下含有するマグネタイトを含むキャリア芯材、およびその製造方法、当該キャリア芯材を用いたキャリア、並びに電子写真現像剤を提供する。 (もっと読む)


【課題】反射膜では完全に反射しきれずに反射膜を透過した一次光により励起される二次光を有効利用することにある。
【解決手段】基板と、該基板の上方に配設されて一次光を発する発光層と、前記基板と前記発光層との間に配設され、前記一次光を反射する少なくとも1層からなる反射膜とを具える発光素子であって、該発光素子は、前記基板と前記反射膜との間に配設される、2層以上の光波長制御層からなる光波長制御多層膜をさらに具え、該光波長制御多層膜は、前記反射膜では完全に反射しきれずに反射膜を透過した一次光により励起される二次光の波長を基板励起光の波長とは異なる波長域内に制御することができることを特徴とする。 (もっと読む)


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