説明

DOWAエレクトロニクス株式会社により出願された特許

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【課題】反射膜では完全に反射しきれずに反射膜を透過した一次光により励起される二次光を有効利用することにある。
【解決手段】基板と、該基板の上方に配設されて一次光を発する発光層と、前記基板と前記発光層との間に配設され、前記一次光を反射する少なくとも1層からなる反射膜とを具える発光素子であって、該発光素子は、前記基板と前記反射膜との間に配設される、2層以上の光波長制御層からなる光波長制御多層膜をさらに具え、該光波長制御多層膜は、前記反射膜では完全に反射しきれずに反射膜を透過した一次光により励起される二次光の波長を基板励起光の波長とは異なる波長域内に制御することができることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】凝集銀粉を生成させることなく、小粒径であり、粒度分布がシャープであり、分散性が高いという特性を有する銀粉を製造する銀粉の製造方法、および製造設備を提供する。
【解決手段】硝酸銀水溶液とアンモニア水とを混合して反応させて銀アンミン錯体水溶液を得、種になる粒子およびイミン化合物の存在下において、当該銀アンミン錯体水溶液と還元剤水溶液とを空中で混合して、銀粒子を還元析出させる銀粉の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】横方向リーク電流の低減と横方向耐圧特性を両立させ、縦方向耐圧を向上させる電子デバイス用エピタキシャル基板を提供する。
【解決手段】Si基板1上のバッファ3上にIII族窒化物層をエピタキシャル成長させた、チャネル層4aおよび電子供給層4bを有する主積層体4を具え、前記バッファは、Si基板と接する初期成長層5および初期成長層上の超格子多層構造からなる超格子積層体6を有し、初期成長層はAlN材料からなり、前記超格子積層体はB1Alb1Gac1Ind1N材料からなる第1層6aおよび第1層とはバンドギャップの異なるB2Al2Ga2In2N材料からなる第2層6bを積層してなり、前記超格子積層体と、前記主積層体を構成するチャネル層のバッファ側の部分は、C濃度が1×1018/cm3以上であり、チャネル層の電子供給層側の部分は、C濃度が4×1016/cm以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】所望の分散溶媒に対して良好な分散性を有する金属ナノ粒子分散液およびその製造方法、ならびに金属ナノ粒子の凝集体を提供すること。
【解決手段】極性溶媒に対して分散する性質を有し、カルボキシル基を有する有機化合物Yによりその表面が被覆され、多価アルコールエーテルを含む分散溶媒Cに対して良好な分散性を有する金属ナノ粒子の凝集体1が提供され、また前記金属ナノ粒子1の分散された金属ナノ粒子分散液を使用する。保護剤Yは、有機化合物の置換反応により被覆されるものであり、置換反応前に被覆されていた有機化合物Xは、非極性物質に対して親和性を有しかつ不飽和結合を有する。 (もっと読む)


【課題】所望の分散溶媒に対して良好な分散性を有する金属ナノ粒子分散液およびその製造方法を提供する。
【解決手段】有機化合物からなる保護剤Yにより被覆された金属ナノ粒子1を分散溶媒に分散させてなる金属ナノ粒子分散液であって、前記保護剤Yには、カルボキシル基を有し、有機概念図で示される有機性基値が80以上かつ無機性基値が分散溶媒よりも高いものが用いられる、金属ナノ粒子分散液を使用する。前記保護剤Yにおける(無機性基値−150)の値が、0超かつ分散溶媒の無機性基値未満である、金属ナノ粒子分散液を使用するのがよい。 (もっと読む)


【課題】高機械的強度、高帯電特性を発揮する電子写真現像剤用キャリア芯材およびその製造方法、当該キャリア芯材を含むキャリア粉、当該キャリア粉を含む電子写真現像剤を提供する。
【解決手段】Mgを0.1wt%以上、6wt%以下含有し、かつ、SiOを0.01wt%以上、4wt%以下含有し、BET比表面積が0.05m/g以上、0.35m/g以下であるマグネシウムフェライトを含む電子写真現像剤用キャリア芯材およびその製造方法、当該キャリア芯材を含むキャリア粉、当該キャリア粉を含む電子写真現像剤を提供する。 (もっと読む)


【課題】HEMTのシート抵抗を非接触で精度良く測定することができる横方向を電流導通方向とする電子デバイス用エピタキシャル基板およびこの電子デバイス用エピタキシャル基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】高抵抗Si単結晶基板の一方の面上に、不純物拡散抑制層を形成する工程と、前記高抵抗Si単結晶基板の他方の面上に、絶縁層としてのバッファを形成する工程と、該バッファ上に、複数層のIII族窒化物層をエピタキシャル成長させて主積層体を形成してエピタキシャル基板を作製する工程と、該エピタキシャル基板の主積層体の抵抗を非接触で測定する工程とを具えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】粒子径の均整なナノ粒子の大量生産に適した方法を提供することにある。該方法により得られるナノ粒子粉末、及び該ナノ粒子を含んだ分散液ならびに該ナノ粒子を含んだペーストを提供することを目的とする。
【解決手段】有機物からなる保護剤と、銀量に対して1〜1000ppmの銅成分とが存在する銀溶液中で銀を還元する操作を行うことで達成することができる。 (もっと読む)


【課題】粒子凝集が少なく、透明度が高く、ヘイズの値が小さく、粒子表面の酸化が抑えられ、高い赤外線遮蔽率を有する赤外線遮蔽膜を成膜することの出来る赤外線遮蔽材料、当該赤外線遮蔽材料を含む赤外線遮蔽用塗料、当該赤外線遮蔽用塗料を用いて成膜された赤外線遮蔽膜、並びに、透明基材に当該赤外線遮蔽膜が設けられた赤外線遮蔽基材を提供する。
【解決手段】 表面が有機物で被覆された赤外線遮蔽材料粒子を含む赤外線遮蔽材料であって、当該赤外線遮蔽材料粒子を被覆している有機物の炭素含有量が、当該赤外線遮蔽材料の0.2質量%以上、5質量%以下である赤外線遮蔽材料、当該赤外線遮蔽材料を含む赤外線遮蔽用塗料、当該赤外線遮蔽用塗料を用いて成膜された赤外線遮蔽膜、並びに、透明基材に当該赤外線遮蔽膜が設けられた赤外線遮蔽基材を提供する。 (もっと読む)


【課題】帯電量が高いか、または、帯電量を所望の値に設定でき、且つ長期間使用しても高帯電量または、所定帯電量を維持出来る長寿命の電子写真現像剤用キャリア、キャリア芯材およびその製造方法、並びに電子写真現像剤を提供する。
【解決手段】(MgMn1−X)Fe(ただし、Xは0.1≦X<1である。)、または(MgFe3−Y)O(ただし、Yは0.1≦Y≦1である。)で表記されるソフトフェライトであって、EDSによるキャリア芯材表面のPの分析値は0.1質量%以上であり、Mgの分析値は2質量%以上であり、キャリア芯材のMg含有量は2質量%以上であり、キャリア芯材のMg含有量をM1、EDSによるキャリア芯材表面のMg分析値をM2とした場合に、M2/M1の値が1.0を超えることを特徴とする電子写真現像剤用キャリア芯材およびその製造方法、並びに電子写真現像剤用キャリアを用いた電子写真現像剤。 (もっと読む)


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